骨髓涂片器的制作方法

文档序号:18235912发布日期:2019-07-24 08:42阅读:1613来源:国知局
骨髓涂片器的制作方法

本实用新型属于医疗技术领域,具体涉及一种骨髓涂片器。



背景技术:

骨髓涂片的制备是一项重要的工作,涂片制备的质量直接影响骨髓细胞形态的观察及结果的判断,绝对不可忽视,有时骨髓取材良好,但由于玻片的不清洁或推片技术不佳,而不能得到满意的涂片,如涂片太厚细胞重叠则无法辨认细胞的结构;涂片太薄,细胞过于分散,则影像检查速度和准确性,甚至漏诊或误诊,因此必须制备薄厚适宜、分布均匀的涂片,以便于骨髓细胞形态的观察以及分类和计数结果的统计。



技术实现要素:

本实用新型为了解决现有技术中的不足之处,提供一种制备涂片薄厚适宜、分布均匀、以便于观察骨髓细胞的形态和计数结果的统计的骨髓涂片器。

为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:骨髓涂片器,包括均沿左右方向设置的上挡板和下挡板,上挡板与下挡板的左侧边、右侧边分别通过侧板连接,上挡板与下挡板形成的夹角为锐角,下挡板的上边沿固定有手柄,上挡板的下边沿高于下挡板的下边沿;

两个侧板的内侧面上均开设有插槽,两条插槽靠近上挡板一侧设置,两条插槽左右对应设置,每条插槽均平行于上挡板,两条插槽内滑动插设有活动挡板,活动挡板的下边沿位于下挡板的下边沿上方,活动挡板的下边沿与下挡板的下边沿之间形成出液缝隙口;上挡板上还设有用于驱动活动挡板沿插槽上下移动的驱动组件。

驱动组件包括安装盒,安装盒固定在上挡板的前侧部,安装盒内转动连接有齿轮,活动挡板的前侧面上设有齿条段,齿条段平行于插槽设置,所述的齿轮后侧部穿过上挡板与齿条段相啮合,齿轮的前侧部向前穿出安装盒。

下挡板的下表面设有两个滚轮,两个滚轮左右并排设置。

采用上述技术方案,本实用新型具有以下有益效果:本实用新型在进行涂片时采用“顺推”手法:将抽取的0.2ml的骨髓液滴入活动挡板与下挡板之间的底部,左右轻微晃动,使骨髓液充盈出液缝隙口,然后右手持握手柄,左手固定载玻片,以执笔的手式将装置的出液缝隙口贴近载玻片,保持上挡板尽量垂直于载玻片,从前向后平稳匀速地画出一道宽度与出液缝隙口长度相近的血膜;

本实用新型在上挡板内侧还设置有活动挡板,通过拨动齿轮,齿轮驱动齿条段上下移动,从而调整活动挡板在插槽内位置,以此调整出液缝隙口的大小,改变骨髓液的出液速度,以适应涂片需要;

综上所述,本实用新型容易掌握,使用方便,无论注入的骨髓量多少,从缝隙出来的骨髓量均能保证一致;涂片时间缩短,不用担心涂片数量未完成,骨髓液凝固的事情发生;新技术产出的涂片面积较现有技术产出的体尾交界处的面积大,涂片薄厚适宜分布均匀,而且涂片后装置经简单浸泡、消毒后即可重复利用。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是活动挡板的安装示意图;

图3是本实用新型的使用状态图。

具体实施方式

如图1-3所示,本实用新型的骨髓涂片器,包括均沿左右方向设置的上挡板1和下挡板2,上挡板1与下挡板2的左侧边、右侧边分别通过侧板3连接,上挡板1与下挡板2形成的夹角为锐角,下挡板2的上边沿固定有手柄4,上挡板1的下边沿高于下挡板2的下边沿;

两个侧板3的内侧面上均开设有插槽5,两条插槽5靠近上挡板1一侧设置,两条插槽5左右对应设置,每条插槽5均平行于上挡板1,两条插槽5内滑动插设有活动挡板6,活动挡板6的下边沿位于下挡板2的下边沿上方,活动挡板6的下边沿与下挡板2的下边沿之间形成出液缝隙口7;上挡板1上还设有用于驱动活动挡板6沿插槽5上下移动的驱动组件。

驱动组件包括安装盒8,安装盒8固定在上挡板1的前侧部,安装盒8内转动连接有齿轮9,活动挡板6的前侧面上设有齿条段10,齿条段10平行于插槽5设置,所述的齿轮9后侧部穿过上挡板1与齿条段10相啮合,安装盒8的前侧开设有通口,齿轮9的前侧部向前穿出安装盒8的通口。

下挡板2的下表面设有两个滚轮12,两个滚轮12左右并排设置,两个滚轮12用于支撑整个装置,便于在工作时移动整个装置。

本实用新型在进行涂片时采用“顺推”手法:将抽取的0.2ml的骨髓液滴入活动挡板6与下挡板2之间的底部,左右轻微晃动,使骨髓液充盈出液缝隙口7,然后右手持握手柄4,左手固定载玻片11,以执笔的手式将装置的出液缝隙口7贴近载玻片11,保持上挡板1尽量垂直于载玻片11,并且保证两个滚轮12滚动在载玻片11上,从前向后平稳匀速地画出一道宽度与出液缝隙口7长度相近的血膜;

本实用新型在上挡板1内侧还设置有活动挡板6,通过拨动齿轮9,齿轮9驱动齿条段10上下移动,从而调整活动挡板6在插槽5内位置,以此调整出液缝隙口7的大小,改变骨髓液的出液速度,以适应涂片需要。

本实施例并非对本实用新型的形状、材料、结构等作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均属于本实用新型技术方案的保护范围。

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