专利名称:一种用于研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法
技术领域：
一种用于研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法，涉及一种用于固体样品表面微观结构及成分研究的扫描电镜的试样制备方法，特别适用于300°下不发生热变化的氧化铝颗粒剖面样品的制备。
背景技术：
扫描电镜的试样制备是一个非常重要的老问题，它直接影响到测试结果。扫描电镜用于对氧化铝，氢氧化铝等粉末样品及铝土矿、金属材料等固体样品表面微观结构及成分的研究。对粉末样品内部结构的研究以透射电镜为主，但扫描电镜与透射电镜对粉末颗粒内部微观结构的研究各有千秋，两者不能互相取代。因此，制备供研究氧化铝颗粒剖面结构的样品是很有必要的。
粉末颗粒内部结构决定粉末的性能。扫描电镜研究颗粒的表面结构很多，对颗粒的剖面结构研究较少，特别是对于氧化铝颗粒，因其颗粒表面裂隙发育，包埋在树脂等粘结材料中，在磨抛过程中容易破坏颗粒的内部结构。目前，关于透射电镜粉体颗粒的制样方法是采用电镀把颗粒包埋在金属中后进行超薄切片等方法。而扫描电镜剖面制样方法以包埋在树脂等粘结材料中居多，但该方法对裂隙发育的氧化铝颗粒不适用，因此应寻找一种好的适合氧化铝颗粒的制样方法。
发明内容
本发明的目的是针对上述已有技术中的氧化铝颗粒裂隙发育，包埋在树脂等粘结材料中，在磨、抛过程中容易破坏颗粒的内部结构的特点，提供一种用于扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的。
一种用于扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法，其特征在于制样的制备过程是将氧化铝颗粒撒入熔化的锡中，使颗粒均匀地包埋在熔化的锡中，待其冷却凝固后，进行磨、抛至颗粒剖面，供扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的研究。
本发明的一种用于研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法，利用低熔点金属锡(230℃)耐氧化、流动性好，而氧化铝在300°下不发生热变化的特点；熔化的锡进入颗粒的裂隙起到固定作用，在磨抛过程中不破坏颗粒的结构，另外颗粒包埋在金属中导电效果很好，这样能更好的分析样品的微观结构。本发明的方法不需要专业设备，工艺简单，成本低廉，操作流程短，在进行磨、抛时不破坏样品的内部结构，不需要配置电解液，不进行电镀，无有害气体逸出，环保等特点。
图1为实施例中制成的氧化铝样品，SEM观察剖面结果。
具本实施方式一种用于扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法，制样的制备过程是将氧化铝颗粒撒入熔化的锡中，使颗粒均匀地包埋在熔化的锡中，待其冷却凝固后，进行磨、抛至颗粒剖面，供扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的研究。
实施例取喇叭形、内径10mm、高10mm的铜或铝坩埚，在坩埚中放入金属锡，在加热板上熔化坩埚中的锡，撒入氧化铝颗粒，使颗粒均匀地包埋在熔化的锡中，待其冷却凝固后，进行磨、抛至颗粒剖面，供扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构。
采用该方法制成的氧化铝样品，SEM观察剖面结果见图1。熔化的锡进入颗粒的裂隙起到固定作用，在磨抛过程中不破坏颗粒的结构，另外颗粒包埋在金属中导电效果很好，这样能更好的分析样品的微观结构。
权利要求
1.一种用于扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法，其特征在于制样的制备过程是将氧化铝颗粒撒入熔化的锡中，使颗粒均匀地包埋在熔化的锡中，待其冷却凝固后，进行磨、抛至颗粒剖面，供扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的研究。
专利摘要
一种用于研究氧化铝颗粒剖面结构的制样方法，涉及一种用于固体样品表面微观结构及成分研究的扫描电镜的试样制备方法，特别适用于300°下不发生热变化的氧化铝颗粒剖面样品的制备。制样的制备过程是将氧化铝颗粒撒入熔化的锡中，使颗粒均匀地包埋在熔化的锡中，待其冷却凝固后，进行磨、抛至颗粒剖面，供扫描电镜研究氧化铝颗粒剖面结构的研究。本发明的方法不需要专业设备，工艺简单，成本低廉，操作流程短，在进行磨、抛时不破坏样品的内部结构，不需要配置电解液，不进行电镀，无有害气体逸出，环保等特点。
文档编号G01Q30/20GKCN1912568SQ200610127937
公开日2007年2月14日 申请日期2006年9月5日
发明者赵春芳, 李建平, 路霞, 龙志华, 颜恒维, 仓向辉 申请人:中国铝业股份有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan