一种离子溅射仪旋转倾斜样品架的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种离子溅射仪旋转倾斜样品架，离子溅射仪本体的内部设有支撑架，该支撑架的上部固定有支撑板，在支撑板的一侧设有第一磁铁，支撑板的下部设有转轴向上的电机，该电机通过联轴器与贯穿支撑板的连接轴相连，连接轴的上部设有开口向上的U型支架，样品盒通过设置于样品盒底侧中部的凸耳与固定于U型支架上的销轴铰接，该样品盒的底侧两端分别设有与支撑板上第一磁铁位置对应的第二磁铁，盖板上设有与样品盒相对的靶头。本实用新型通过启动电机即可实现样品盒同时上下摆动和水平转动，以便于对样品进行全方位、均匀性的喷镀，最终观察时得到一个良好的图像。
【专利说明】
一种离子溅射仪旋转倾斜样品架
技术领域
[0001]本实用新型属于离子溅射仪辅助装置技术领域，具体涉及一种离子溅射仪旋转倾斜样品架。
【背景技术】
[0002]离子溅射仪镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电产生带正电荷的气体离子，在阴极和阳极之间电压的加速作用下，带正电荷的气体离子轰击阴极表面使阴极表面材料原子化形成中性原子，从各个方向溅出并溅落到试样的表面，于是在试样表面形成一层均匀的薄膜。离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、银、铂以及混合靶材等金属元素消除了不导电样品的荷电现象，并提高了观测效果。另外，还可以使用喷镀附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定性分析。目前的溅射仪样品架为固定的，无法使溅射材料溅射到样品的侧面，降低了样品的导电性，还无法实现样品全面性和均匀性的喷镀，使得在扫描电镜中无法得到更加清晰的图像。现阶段需要得到清晰的图像就要对样品进行多次喷镀，既浪费了材料，也消耗了靶头，如果对样品侧面进行喷镀就需要对样品侧面进行垫高，使样品呈现一定的角度，如此往复，使侧面获得全部喷镀，但是喷镀的效果仍然不理想，得不到均匀喷镀，镀层薄的部分导电性不好，镀层厚的部分影响样品形貌，实验达不到预期效果。由此可见，为了使离子溅射仪对样品喷镀全面和均匀，增强其导电性，有必要对现有的离子溅射仪样品架结构进行改进。
【发明内容】
[0003]本实用新型解决的技术问题是提供了一种离子溅射仪旋转倾斜样品架，该离子溅射仪旋转倾斜样品架可以使样品得到全方位、均匀性的喷镀效果。
[0004]本实用新型为解决上述技术问题采用如下技术方案，一种离子溅射仪旋转倾斜样品架，包括离子溅射仪本体和设置于离子溅射仪本体上部的盖板，其特征在于:所述的离子溅射仪本体的内部设有支撑架，该支撑架的上部固定有支撑板，在支撑板的一侧设有第一磁铁，支撑板的下部设有转轴向上的电机，该电机通过联轴器与贯穿支撑板的连接轴相连，连接轴的上部设有开口向上的U型支架，样品盒通过设置于样品盒底侧中部的凸耳与固定于U型支架上的销轴铰接，该样品盒的底侧两端分别设有与支撑板上第一磁铁位置对应的第二磁铁，所述的盖板上设有与样品盒相对的靶头。
[0005]进一步优选，所述的离子溅射仪本体的侧壁上设有离子溅射仪控制面板。
[0006]本实用新型与现有技术相比具有以下有益效果:通过启动电机即可实现样品盒同时上下摆动和水平转动，以便于对样品进行全方位、均匀性的喷镀，最终观察时得到一个良好的图像，另外本实用新型降低了运行成本，避免了不必要的浪费，降低了对靶头的消耗。
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的结构不意图。
[0008]图中:1、靶头，2、样品盒，3、U型支架，4、连接轴，5、联轴器，6、电机，7、支撑架，8、支撑板，9、第一磁铁，1、第二磁铁，11、盖板，12、离子溅射仪控制面板，13、离子溅射仪本体。
【具体实施方式】
[0009]结合附图详细描述本实用新型的具体内容。一种离子溅射仪旋转倾斜样品架，包括离子溅射仪本体13和设置于离子溅射仪本体13上部的盖板11，所述的离子溅射仪本体13的内部设有支撑架7，该支撑架7的上部固定有支撑板8，在支撑板8的一侧设有第一磁铁9，支撑板8的下部设有转轴向上的电机6，该电机6通过联轴器5与贯穿支撑板8的连接轴4相连，连接轴4的上部设有开口向上的U型支架3，样品盒2通过设置于样品盒2底侧中部的凸耳与固定于U型支架3上的销轴铰接，该样品盒2的底侧两端分别设有与支撑板8上第一磁铁9位置对应的第二磁铁10，所述的盖板11上设有与样品盒2相对的靶头I，所述的离子溅射仪本体13的侧壁上设有离子溅射仪控制面板12。
[0010]本实用新型的使用过程为:首先将样品放置于样品盒中，通过离子溅射仪面板上的控制按钮启动电机和靶头，样品盒在旋转的过程中上下摆动，靶头可以将溅射材料喷镀到样品的表面和侧面，实现了对样品进行全方位、均匀性的喷镀，并且降低了运行成本。
[0011]以上显示和描述了本实用新型的基本原理，主要特征和优点，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围。
【主权项】
1.一种离子溅射仪旋转倾斜样品架，包括离子溅射仪本体和设置于离子溅射仪本体上部的盖板，其特征在于:所述的离子溅射仪本体的内部设有支撑架，该支撑架的上部固定有支撑板，在支撑板的一侧设有第一磁铁，支撑板的下部设有转轴向上的电机，该电机通过联轴器与贯穿支撑板的连接轴相连，连接轴的上部设有开口向上的U型支架，样品盒通过设置于样品盒底侧中部的凸耳与固定于U型支架上的销轴铰接，该样品盒的底侧两端分别设有与支撑板上第一磁铁位置对应的第二磁铁，所述的盖板上设有与样品盒相对的靶头。2.根据权利要求1所述的离子溅射仪旋转倾斜样品架，其特征在于:所述的离子溅射仪本体的侧壁上设有离子溅射仪面板。
【文档编号】G01Q30/20GK205581138SQ201620407094
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年5月9日
【发明人】陈得军, 马泽鼎, 潘家梁, 万振天
【申请人】河南师范大学