保护层的制作方法、阵列基板及其制作方法和触摸屏与流程

本发明涉及显示装置制造领域，具体地，涉及一种保护层的制作方法、阵列基板及其制作方法和触摸屏。

背景技术：

目前，

相对于将触摸面板设置在液晶面板上使用的原有方法，In Cell方法是指将触摸面板的功能嵌入到液晶像素中的方法。近年来，由于内嵌式触摸屏(in cell touch panel)能使屏幕变得更加轻薄，所以目前内嵌式触摸屏在显示面板中的应用越来越广泛。

触摸屏包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，在二者之间设置有液晶层。其中，如图1所示，为现有的一种阵列基板的剖视图。该阵列基板包括公共电极层1和设置在该公共电极层1上的保护层2，该公共电极层1也同时作为触摸电极层，包括间隔排列的多个触摸电极，从而在相邻两个触摸电极之间形成间隙11。

在实际应用中，由于上述间隙11的存在，导致沉积在触摸电极层上的保护层2在上述间隙处形成段差21，该段差21往往会引起显示屏的亮度不均匀，从而造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象。此外，上述间隙的存在还会使得触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而影响显示质量。

技术实现要素：

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种保护层的制作方法、阵列基板及其制作方法和触摸屏，其可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象，以及触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

为实现本发明的目的而提供一种保护层的制作方法，触摸电极层包括间隔排列的多个触摸电极，以在相邻两个所述触摸电极之间形成间隙，包括以下步骤：

S1，制作第一保护层，所述第一保护层覆盖各个所述触摸电极的上表面，以及填充各个所述间隙；

S2，去除各个所述触摸电极的上表面的所述第一保护层；

S3，制作第二保护层，所述第二保护层覆盖各个所述触摸电极的上表面以及各个所述间隙中的第一保护层的上表面。

优选的，所述步骤S2进一步包括：

S21，在所述第一保护层的整个上表面制作掩膜层；

S22，在所述掩膜层上形成待刻蚀图形，具有所述待刻蚀图形的所述掩膜层仅覆盖各个所述间隙中的所述第一保护层；

S23，对未被所述掩膜层覆盖的所述第一保护层进行刻蚀工艺。

优选的，所述掩膜层为负性光刻胶；并且，在所述步骤S22中，利用与所述触摸电极层的图形一致的掩膜版定义所述第一保护层的待刻蚀图形。

优选的，所述掩膜层为正性光刻胶；并且，在所述步骤S22中，利用与所述触摸电极层的图形相反的掩膜版定义所述第一保护层的待刻蚀图形。

可选的，所述第一保护层所采用的材料包括氮化硅。

可选的，所述第二保护层所采用的材料包括氮化硅。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种阵列基板的制作方法，包括以下步骤：

制作触摸电极层，所述触摸电极层包括间隔排列的多个触摸电极，以在相邻两个所述触摸电极之间形成间隙；

在触摸电极层上制作保护层，所述在触摸电极层上制作保护层的方法采用本发明提供的上述保护层的制作方法。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种阵列基板，包括触摸电极层，所述触摸电极层包括间隔排列的多个触摸电极，以在相邻两个所述触摸电极之间形成间隙，还包括：

第一保护层，填充各个所述间隙中；

第二保护层，覆盖各个所述触摸电极的上表面以及各个所述间隙中的第一保护层的上表面。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种触摸屏，包括阵列基板，所述阵列基板采用本发明提供的上述阵列基板。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的保护层的制作方法，其通过制作覆盖各个触摸电极的上表面，以及填充各个间隙的第一保护层，并去除各个触摸电极的上表面的所述第一保护层，可以实现对相邻两个触摸电极之间形成间隙的填充，然后再在各个触摸电极的上表面以及各个间隙中的第一保护层的上表面覆盖第二保护层，该第二保护层不存在段差，从而可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象。此外，由于相邻两个触摸电极之间形成间隙被第一保护层填充，这可以避免触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

本发明提供的阵列基板的制作方法，其通过采用本发明提供的上述保护层的制作方法在触摸电极层上制作保护层，可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象，以及触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

本发明提供的阵列基板，其通过在相邻两个触摸电极之间的间隙中填充第一保护层，然后在各个触摸电极的上表面以及各个间隙中的第一保护层的上表面设置第二保护层，可以使该第二保护层不存在段差，从而可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象。此外，借助第一保护层，还可以避免触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

本发明提供的触摸屏，其通过采用本发明提供的上述阵列基板，可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象，以及触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

附图说明

图1为现有的一种阵列基板的剖视图；

图2为本发明提供的保护层的制作方法的流程框图；

图3为制作第一保护层之后阵列基板的剖视图；

图4为去除各个触摸电极的上表面的第一保护层之后阵列基板的剖视图；以及

图5为制作第二保护层之后阵列基板的剖视图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图来对本发明提供的保护层的制作方法、阵列基板及其制作方法和触摸屏进行详细描述。

图2为本发明提供的保护层的制作方法的流程框图。请参阅图2，本发明提供的保护层的制作方法，用于在触摸电极层上制作保护层，该触摸电极层包括间隔排列的多个触摸电极，以在相邻两个触摸电极之间形成间隙。该制作方法包括以下步骤：

S1，制作第一保护层，该第一保护层覆盖各个触摸电极的上表面，以及填充各个间隙。

S2，去除各个触摸电极的上表面的第一保护层。

S3，制作第二保护层，该第二保护层覆盖各个触摸电极的上表面以及各个间隙中的第一保护层的上表面。

图3为制作第一保护层之后阵列基板的剖视图。请参阅图3，在完成步骤S1之后，第一保护层3包括覆盖各个触摸电极1的上表面的第一部分31，以及填充在各个相邻的两个触摸电极1之间的间隙中的第二部分32。

图4为去除各个触摸电极的上表面的第一保护层之后阵列基板的剖视图。请参阅图4，在完成步骤S2之后，第一保护层3的覆盖各个触摸电极1的上表面的第一部分31被去除，而仅保留第一保护层3的填充在各个相邻的两个触摸电极1之间的间隙中的第二部分32，该第二部分32的上表面与各个触摸电极1的上表面相平齐。借助该第二部分32，可以避免触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

优选的，上述步骤S2进一步包括：

S21，在第一保护层3的整个上表面(即第一部分31和第二部分32的上表面)制作掩膜层；

S22，在该掩膜层上形成待刻蚀图形，具有该待刻蚀图形的掩膜层仅覆盖第一保护层3的填充在各个相邻的两个触摸电极1之间的间隙中的第二部分32；

S23，对未被掩膜层覆盖的第一保护层3的覆盖各个触摸电极1的上表面的第一部分31进行刻蚀工艺，从而完成对该第一部分31的去除。由于掩膜层的存在，第二部分32被保留了下来。

进一步的，在上述步骤22中，掩膜层可以为负性光刻胶。在此基础上，通过利用与触摸电极层的图形一致的掩膜版定义第一保护层3的待刻蚀图形，可以实现使掩膜层仅覆盖第一保护层3的第二部分32，而将第一保护层3的第一部分31暴露出来。

或者相反的，掩膜层可以为正性光刻胶。在此基础上，通过利用与触摸电极层的图形相反的掩膜版定义第一保护层3的待刻蚀图形，同样可以实现使掩膜层仅覆盖第一保护层3的第二部分32，而将第一保护层3的第一部分31暴露出来。

可选的，上述第一保护层和/或第二保护层可以采用诸如氮化硅等的透明材料制作。

需要说明的是，在实际应用中，还可以采用其他任意方法去除各个触摸电极的上表面的第一保护层，本发明对此没有特别的限制。

图5为制作第二保护层之后阵列基板的剖视图。请参阅图5，在完成步骤S3之后，第二保护层4覆盖各个触摸电极1的上表面以及第一保护层3的填充在各个相邻的两个触摸电极1之间的间隙中的第二部分32的上表面。由于第二部分32的上表面与各个触摸电极1的上表面相平齐，可以获得上表面齐平的第二保护层4，而不存在段差，从而可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种阵列基板的制作方法，其包括以下步骤：

制作触摸电极层，该触摸电极层包括间隔排列的多个触摸电极，以在相邻两个触摸电极之间形成间隙。

在触摸电极层上制作保护层，制作该保护层的方法采用了本发明提供的上述保护层的制作方法。

本发明提供的阵列基板的制作方法，其通过采用本发明提供的上述保护层的制作方法在触摸电极层上制作保护层，可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象，以及触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种阵列基板，其包括触摸电极层，该触摸电极层包括间隔排列的多个触摸电极，以在相邻两个触摸电极之间形成间隙，还包括：第一保护层和第二保护层。其中，第一保护层填充在各个相邻两个触摸电极之间的间隙中。第二保护层覆盖各个触摸电极的上表面以及各个间隙中的第一保护层的上表面。

本发明提供的阵列基板，其通过在相邻两个触摸电极之间的间隙中填充第一保护层，然后在各个触摸电极的上表面以及各个间隙中的第一保护层的上表面设置第二保护层，可以使该第二保护层不存在段差，从而可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象。此外，借助第一保护层，还可以避免触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种触摸屏，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，在二者之间设置有液晶层。其中，阵列基板采用了本发明提供的上述阵列基板。

本发明提供的触摸屏，其通过采用本发明提供的上述阵列基板，可以避免造成各种痕迹(Mura现象)和异显等的不良现象，以及触摸电极层无法屏蔽下层电场的现象，从而提高显示质量。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。