光透电极的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明主要设及用于触摸屏的光透电极，特别是设及适用于投射电容式触摸屏的 光透电极。
【背景技术】
[0002] 在个人数字助理（PDA)、笔记本PC、办公室自动化设备、医疗设备或汽车导航系统 等电子设备中，作为该些显示器的输入手段，广泛应用触摸屏。
[0003] 根据位置检测的方法，触摸屏有光学式、超声波式、表面电容式、投射电容式、电阻 膜式等。电阻膜式触摸屏由光透导电材料和带有透明导电层的玻璃隔着间隔物相对设置， 构成电流流过光透导电材料W测定带有透明导电层的玻璃上的电压的构造。另一方面，电 容式触摸屏的特征为，是W在基材上具有光透导电层的光透电极作为基本构成，没有可动 的部分，由于耐久性强、透射率高，因而适用于各种各样的用途，进一步地，因为投射电容式 可W多点同时检出，因而广泛应用于智能手机、平板PC等。
[0004] 作为用于触摸屏的光透电极，一般使用在基材上由氧化铜锡（ITO)构成的光透导 电层形成的光透电极。然而，由ITO构成的光透导电层存在W下问题；由于折射率大、光的 表面反射大，使总透光率降低；由于柔性低，弯曲时ITO导电层发生龟裂，使电阻值升高等。
[0005] 已知作为代替使用由ITO构成光透导电层的光透电极的光透电极，是在光透基材 上对作为光透导电层的金属细线进行调整（例如通过对金属细线的线宽、间距（t°ッ于） 甚至是图案形状等进行调整），形成网状图案，由此维持高的总透光率，并且可W得到具有 高导电性的光透电极。已知作为使用的金属细线图案的形状，可W利用各种形状的重复单 元，例如在专利文献1中，利用如下重复单元W及其中的两种W上组合的图案：等边S角 形、等腰=角形、直角=角形等=角形；正方形、长方形、菱形、平行四边形、梯形等四角形； 六角形、八角形、十二角形、二十角形等多边形；圆；楠圆；星形等。
[0006] 作为使用金属细线组成的光透导电层的光透电极的制造方法，例如专利文献2、专 利文献3等公开了半加成法；在基材上形成薄的催化剂层，在其上形成抗蚀图案后，通过锻 敷法在抗蚀开口部层叠金属层，最后通过除去抗蚀层W及由抗蚀层保护的基底金属，由此 形成导电性图案。
[0007] 另外，近年来，已知将使用银盐扩散转印法的银盐照相感光材料作为导电性材料 前体使用的方法。例如专利文献4、专利文献5和专利文献6等公开了W下技术：将在基材 上至少依次具有物理显影核层和面化银乳剂层的银盐照相感光材料（导电性材料前体）W 图案曝光，使可溶性银盐形成剂和还原剂在碱溶液中起作用，形成金属银图案。由该方式形 成的图案不仅能再现均一的线宽，而且由于银在金属中导电性最高，与其他方式相比，能W 较细的线宽获得高导电性。进一步地，具有由该方法得到的金属银图案的光透导电层比由 ITO构成的光透导电层具有柔性高、耐折弯的优点。
[000引一般在使用投射电容式的触摸屏中，使用具有两层光透导电层的光透电极作为触 摸传感器使用，所述光透导电层具有由多个列电极构成的传感器部。在该样的用途中，在 将具有各种重复单元的金属图案作为列电极使用的触摸屏中，通常因为操作者凝视画面操 作，存在金属图案本身映入眼帘（可见性高）的问题。另外，在两层光透导电层重叠的光透 电极中，根据金属图案形状的不同，存在产生云纹、可见性较高的问题。进一步地，使用具有 由极细的金属细线形成的重复单元的金属图案的光透电极中，根据图案形状的不同，在高 温高湿环境下存在电阻值变动的情况、上述云纹的问题和该电阻值的稳定性的问题，人们 尚不知道同时解决该些问题的方法。
[0009] 对于该些问题，专利文献7提出将两层光透导电层中的一层光透导电层的列电极 具有的金属图案的重复单元的形状作成菱形，将该菱形90°旋转后的重复单元作为另一层 光透导电层的列电极具有的金属图案的重复单元使用。然而，在该方法中，根据条件不同， 也存在看得见云纹的情况，进一步地，存在不能充分解决关于在高温高湿环境下的电阻值 的稳定性的问题。
[0010] 例如，像专利文献8等那样，提出基于消除云纹的目的，使用钻石形（父^节子シ F状）图案作为列电极的金属图案，在上下的光透导电材料重叠时，构成两层光透导电层 具有的列电极的金属图案一点也不重叠的方法，在该方法中，如果两层光透导电层没有W 非常高的位置精度贴合，上下的图案容易产生错误地重合的部分或者完全没有图案的部分 等，反而容易使可见性提高。而且，在该方式中，必然产生列电极的宽度变窄的部分，该部分 较显著地受到具有由上述极细金属细线构成的重复单元的金属图案的电阻值在高温高湿 环境下变动问题的影响。
[0011] 现有技术文献 [001引专利文献
[0013] 专利文献1 ;日本专利公开公报特开平10-41682号
[0014] 专利文献2 ;日本专利公开公报特开2007-287994号
[0015] 专利文献3 ;日本专利公开公报特开2007-287953号
[0016] 专利文献4 ;日本专利公开公报特开2003-77350号
[0017] 专利文献5 ;日本专利公开公报特开2005-250169号
[0018] 专利文献6 ;日本专利公开公报特开2007-188655号
[0019] 专利文献7 ;日本专利公开公报特开2011-248722号
[0020] 专利文献8 ;日本专利公开公报特开2012-33147号
【发明内容】
[0021] 发明要解决的技术问题
[0022] 本发明的技术问题是提供适合作为采用电容式的触摸屏的光透电极的、总透光率 高、难W产生云纹且电阻值的稳定性优异的光透电极。
[0023] 解决技术问题的手段
[0024] 本发明的上述技术问题通过W下光透电极而基本得到解决，所述光透电极的特征 在于；在光透基材上至少具有两层光透导电层，所述光透导电层具有与端子部电连接的传 感器部W及未与端子部电连接的虚设部；该传感器部和该虚设部具有W规定形状的单元金 属图案重复的结构；一层光透导电层具有的传感器部由在第一方向上延伸的多个列电极构 成，列电极和虚设部交替设置；另一层光透导电层具有的传感器部由在与第一方向正交的 第二方向上延伸的多个列电极构成，列电极和虚设部交替设置；进一步地，所述光透电极符 合W下（a)-(c)全部的必要条件：
[0025] (a)kl〉jl
[0026] 此处，kl表示一层光透导电层的在第一方向上延伸的列电极具有的规定形状的单 元金属图案在第一方向上的平均长度，jl表示规定形状的单元金属图案在第二方向上的平 均长度；
[0027] 化）2M=nXjl
[002引此处，M表示在第一方向上延伸的列电极的平均中屯、距，n表示自然数；
[0029] (C)k2 <j2,且kl今j2和j2今kl的结果都不是自然数；
[0030] 此处，k2表示另一层光透导电层的在第二方向上延伸的列电极具有的规定形状的 单元金属图案在第一方向上的平均长度，j2表示规定形状的单元金属图案在第二方向上的 平均长度。
[0031] 优选符合下述（d)的必要条件：
[003引（d) 2L=pXk2
[0033] 此处，L表示另一层光透导电层中的在第二方向上延伸的列电极的平均中屯、距；P 表示自然数。
[0034] 优选符合下述（e)的必要条件：
[0035] (e) ^ =QXkl
[0036] 此处，q表示自然数。
[0037] 优选符合0.ISXkKjKO.TXkl的必要条件，更优选符合0. 35XkKjKO. 6Xkl 的必要条件。优选符合0. 15Xj2 <k2 < 0. 7Xj2的必要条件，更优选符合0. 35Xj2 <k2 < 0.6Xj2的必要条件。
[003引优选一层光透导电层具有的传感器部的规定形状的单元金属图案的图形与虚设 部的规定形状的单元金属图案的图形全等。优选规定形状的单元金属图案的图形为菱形， 其对角线在第一方向和第二方向（与第一方向正交的方向）上。
[0039] 发明效果
[0040] 本发明可W提供适合作为采用电容式的触摸屏的光透电极的、总透光率高、难W 产生云纹且电阻值的稳定性优异的光透电极。
【附图说明】
[0041] 图1是表示本发明的光透电极的一个实例的截面示意图，图1表示的是从图4(a) 化）的A-A的箭头方向看的截面图。
[0042] 图2是表示本发明的光透电极的另一实例的截面示意图。
[0043] 图3是表示本发明的光透电极的再一实例的截面示意图。
[0044] 图4是表示本发明的光透电极的构成的一部分的平面示意图，是为了容易理解其 结构，从图1提取具有光透导电层2a的光透基材Ia和具有光透导电层化的光透基材化 分别表示的平面图（实际上，在具有光透导电层化的光透基材化的正上方，存在具有光透 导电层2a的光透基材la)。
[0045] 图5是图4的光透导电层2a的一部分的放大平面图。
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