图案隐身性优异的透明导电光学片的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及一种含有氧化铜锡（indium tin oxide, 口0)的透明导电光学片。更 为具体地，设及一种用于触摸屏面板等的包括图案等蚀刻而形成的ITO层的透明导电光学 片。
【背景技术】
[0002] 近年来，在手机、平板设备、监视器等显示器部分普遍使用触摸屏面板（touch screen panel, TSP)。运种TSP的核屯、材料主要使用包括透明导电材料ITO的光学片。
[0003] 当包括口0的光学片使用于触摸屏面板等时，一般将ITO层的一部分蚀刻来形成 感应图案。但是，ITO具有从可视光波段（380~780nm)向短波波长方向移动时折射率变 高的固有的驱散（dispersion)特性，特别是反射到ITO层的光在450nm W下的波长中反射 得更多，从而反射率高且反射的颜色呈蓝色。由于具有运种特性，形成图案的ITO层的非蚀 刻部和蚀刻部的反射率及反射颜色存在很大差异，从而使用者认知ITO层的图案，并出现 会降低在下部的显示器中所要显示的清晰度的问题。
[0004] 因此，正在试图在透明基层和ITO层之间具备折射率匹配层Cre化active index matching layer)，且通过薄膜干涩现象效果修正口0层的非蚀刻部和蚀刻部之间的光学特 性来改善清晰度（参考韩国公开专利公报第2010-0008758号）。 阳〇化]但是，现有的透明导电光学片在光学、电学、机械特性方面还存在需要改进的地 方。
[0006] 特别是运种透明导电光学片根据不同的被安装的电子产品所要求的表面电阻也 会不同，为了实现运种表面电阻，当变更ITO层的沉积厚度时，与折射率匹配层之间的薄膜 干涩现象的效果会降低，从而因图案被认知等而容易变得不良，每次更换ITO层的厚度时 要全部重新设计折射率匹配层的折射率和厚度，因此比较麻烦。
[0007] 而且，由于ITO结晶化、图案加工、裁剪、移送工序等中发生透明基层的弯曲，经常 会出现ITO层被破坏，表面电阻出现不良等的问题。
【发明内容】
阳00引（一）要解决的技术问题
[0009] 因此，本发明的目的在于提供一种透明导电光学片，该光学片是通过修正ITO层 的非蚀刻部与蚀刻部之间的反射光的差来提高隐身性，从而不会出现所要实现的清晰度的 降低的现象且容易实现多种表面电阻。
[0010] (二）技术方案
[0011] 为实现上述目的，本发明提供一种透明导电光学片，其具有由透明基层、第一折射 率匹配层、第二折射率匹配层、第=折射率匹配层及氧化铜锡（ITO)层依次叠层的结构，所 述第二折射率匹配层的厚度为1至500nm，且在550nm的波长中的折射率比所述透明基层、 第一折射率匹配层及第=折射率匹配层高，所述ITO层包括非蚀刻部和蚀刻部，且在550nm 的波长中的折射率比所述第二折射率匹配层高，当测量可视光区域的各波长中的所述ITO 层的非蚀刻部及蚀刻不的反射率时，W下数学式1中的AR值为0%至1. 0%，在利用对D65 光源的2°视线的反射光，测量L相冲*色坐标系的反射颜色时，W下数学式2中的A邸值 为0至6. 0 :
[001引[数学式^ 阳013]么巧二运|,1/-rjv,7 I-
[0014] 所述数学式1中，i为可视光区域的各波长，ru为各波长中的ITO层的非蚀刻部 的反射率（％ )，为各波长中的ITO层的蚀刻部的反射率（％ )，n是被测波长的总数， [001引[数学式引
[0017] 所述数学式2中，L*i、a*i及b* 1分别是ITO层的非蚀刻部的反射颜色的L*、a*及 b*，L*2、a*2及b* 2分别是口0层的蚀刻部的反射颜色的L*、a*及b*。 阳0化](S)有益效果
[0019] 所述透明导电光学片通过折射率匹配层的薄膜干涩效果来修正ITO层的非蚀刻 部与蚀刻部之间的反射率和反射颜色的差，使用户无法通过视觉认知非蚀刻部和蚀刻部， 从而能够不会降低在下部的显示器面板中所要显示的清晰度。特别是，所述透明导电光学 片当为调节表面电阻而改变ITO层的厚度时，即使不改变透明基层或折射率匹配层的折射 率和厚度，薄膜干涩效果也能够维持得很好。
[0020] 而且，所述透明导电光学片在热处理时ITO层的结晶度优异且尺寸变化率小，因 此稳定性和可靠性高，由于表面硬度优异，处理性能良好，且具备多种功能层，从而能够提 高低聚物阻塞性、防止阻塞性、防止反射性、粘着性、硬度特性等。
[0021] 因此，所述透明导电光学片可在适用于各种电子设备的显示器面板的触摸屏面板 领域中使用。
【附图说明】
[0022] 图1是示出本发明的透明导电光学片的结构的一个实施例的模式图。
[0023] 图2是示出适用于显示器面板的透明导电光学片的一个实施例及从该光学片反 射的光的图。
[0024] 图3是示出透明导电光学片的总厚度与硬度之间的关系的图。 阳0对【附图说明】标记
[0026] 100 :透明基层 200 JTO 层 W27] 210 :非蚀刻部 220 :蚀刻部
[0028] 300 :显示器面板 400 :第一折射率匹配层
[0029] 410 :第二折射率匹配层 420 :第S折射率匹配层
[0030] 500 :功能层 510 :硬度提高薄膜
[0031] 610:非蚀刻部的反射光 620:蚀刻部的反射光
【具体实施方式】
[0032] 下面，根据本发明的具体实施例进行更详细的说明。
[0033] 参照图1，本发明的一个实施例的透明导电光学片具有在透明基层100上由第一 折射率匹配层400、第二折射率匹配层410、第S折射率匹配层420及ITO层200依次叠层 的结构。
[0034] 而且，所述ITO层200包括非蚀刻部210和蚀刻部220。
[0035] 根据另一个实施例，所述透明导电光学片的所述透明基层100与第一折射率匹配 层400之间、第一折射率匹配层400与第二折射率匹配层410之间或第二折射率匹配层410 与第=折射率匹配层420之间可包括一层或二层W上的附加的折射率匹配层。
[0036] 根据另一个实施例，所述透明导电光学片的所述透明基层100的外侧表面还可具 备具有低聚物阻塞、防止阻塞、防止反射、粘着及提高硬度功能中的某一种或两种W上复合 功能的功能层500和/或一个W上的硬度提高薄膜510。
[0037] 下面，分别对各结构层进行详细说明。 阳0測透明基层
[0039] 透明基层是位于本发明的透明导电光学片的最外围的层，起到支撑体的作用。
[0040] 透明基层在550皿波长中的折射率可为1.50至1.70,可进一步限定为1.60至 1. 70,可再进一步限定为1. 63至1. 67。当折射率在所述范围内时，折射率匹配层的薄膜干 涩的效果会更优异。
[0041] 而且，透明基层的厚度可为2至250 ym，可进一步限定为10至188 ym，可再进一 步限定为23至125 y m。当厚度在所述范围内时，用作TSP板时不仅厚度薄，而且加工性能 良好，因此实用性会更高。
[0042] 而且，透明基层的主要成分可为聚脂树脂、纤维素树脂、丙締酸树脂、聚碳酸醋树 月旨、环締控聚合物（OP)树脂及其组合等，更为具体的例为聚对苯二甲酸乙二醇醋（PET)树 月旨、S乙酷纤维素（TAC)树脂、聚碳酸醋树脂（PC)树脂、聚甲基丙締酸甲醋（PMMA)树脂、环 締控聚合物（OP)树脂、聚酷亚胺（PI)树脂及其组合。
[0043] 折射率匹配层
[0044] 本发明的透明导电光学片具备折射率各不相同的立层折射率匹配层（re化active index matching layer),通过引发薄膜干涩现象（thin film interference)来修正；[TO 层的非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射光的差，降低它们的可见性，从而不会降低在显示 器面板中所要显示的清晰度。
[0045] =层折射率匹配层是在透明基层上由第一折射率匹配层、第二折射率匹配层及第 =折射率匹配层依次叠层而形成。
[0046] 其中，所述第二折射率匹配层在550nm的波长中的折射率要比第一折射率匹配层 及第S折射率匹配层高，比所述ITO层低。具体地，所述第二折射率匹配层在550nm的波长 中的折射率比第一折射率匹配层和第=折射率匹配层优选地高0.0 l至0. 25。
[0047] 而且，优选地，所述第一折射率匹配层及第S折射率匹配层在550皿的波长中的 折射率均与所述透明基层相比相同或低。具体地，所述第一折射率匹配层及第=折射率匹 配层与透明基层相比，其在550皿的波长中的折射率可相同或低0.0 l至0. 2。
[0048] 而且，所述第一折射率匹配层和第=折射率匹配层在550nm的波长中的折射率可 相似或相同，例如，两个折射率的差可为0. 20 W下。 W例 （1)第一折射率匹配层
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