6. 0 W下的A邸值，未观察出外观干涩花纹。 阳187] 特别是，实施例3至5及实施例8至10所示，当透明基层、第一折射率匹配层、第二 折射率匹配层及第S折射率匹配层的折射率和厚度一定时，即使将ITO层的厚度改为25~ 35皿，光学片也满足70《R1(Q / □)《150、0《AR(%)《1.0及0《A邸《6. 0,也 未观察出外观干涩花纹。
[0188] 而且，实施例1至10的光学片均表现出良好的表面电阻特性和机械特性及热特 性。
[0189] 相反，可了解到对比例1至6的光学片未具备本发明所要求的A R值及A邸值， 并且显示观察到外观干涩花纹等的不符合通过本发明所要解决的光学片的条件。
[0190] 实施例11至35 :具有硬度提高薄膜的透明导电光学片 阳191] 按照与所述实施例1相同的步骤制造透明导电光学片，并且总厚度调整为23~ 125 ym。 阳192] 而且，准备了具有厚度为38~125 ym的基薄膜层及形成在其某一个面上的厚度 为20~50 y m的粘着功能层的硬度提高薄膜，此时，所述基薄膜层采用了 PET透明基材，所 述粘着功能层包括100重量份的丙締酸聚合树脂和0.0 Ol~10重量份的异氯酸醋交联剂 (多官能异氯酸醋化合物）。
[0193] 然后，通过在所述光学片的透明基层上粘贴所述硬度提高薄膜的粘着功能层，来 制造出具有硬度提高薄膜的透明导电光学片。
[0194] 但部分透明导电光学片为了进行比较，保留未粘贴硬度提高薄膜的状态。 阳195] 测试例7 :硬度测量 阳196] 对于实施例11至35的光学片，使用测试仪器（stifTness tester,化sudase化i 公司）按JIS-P8125的步骤测量了硬度。 阳197] 测试例8:稳定性评价
[0198] 对于粘贴或未粘贴实施例11~35的硬度提高薄膜的光学片，
[0199] (1)进行用于裁剪工序的第一次移送工序， 阳200] 0)进行裁剪工序，使横向X纵向尺寸为SOOmmX500mm 阳201] (3)进行将所述已经过裁剪的光学片叠层5~20张的叠层工序， 阳202] (4)对叠层的光学化在150°C的溫度下进行60分钟的热处理工序。 阳203] (5)为确认在所述（1)至（4)的移送、裁剪、叠层及热处理工序中可能发生的光学 片被折叠、光学片之间的刮踏及弯曲引起的表面电阻的变化，使用大面积自动表面电阻测 量仪值asoleng公司）在横向及纵向方向上W IOmm的间隔测量了表面电阻。
[0204] (6)当测量的表面电阻值用RM表示，初始电阻值（即，在（1)至（4)的工序之前测 量的电阻值）用Ri表示时，若不满足0 %《巧M-Ri)/Ri X 100《20 %，则判定为不良，基于此 计算出成品率[(光学片投入数-不良光学片数）/光学片投入数XlOO]之后，根据W下 范畴评价了稳定性： 阳205] - A :成品率80~90% (可使用）
[0206] - O :成品率90~95% (良好）
[0207] - ◎:成品率95% W上（优秀）
[020引在W下表5中整理了所述实施例11~35的结构及其测试结果。 悦例[表引 阳 210]
阳211] 而且，导出上述表5中的总厚度与硬度的关系图表及其之间的多项式拟合线 (polynomial fitting line)的数学式并一起标记在图3中。如所述表5及图3所示，实 施例的透明导电光学片在大体上示出适当水准W上的硬度及稳定性，而且随着总厚度的增 加，硬度值就会上升，表现出稳定性提高的倾向。
【主权项】
1. 一种透明导电光学片，其具有由透明基层、第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、 第三折射率匹配层及氧化铟锡（ITO)层依次叠层的结构， 所述第二折射率匹配层的厚度为1至500nm，且在550nm的波长中的折射率比所述透明 基层、第一折射率匹配层及第三折射率匹配层高， 所述ITO层包括非蚀刻部和蚀刻部，且在550nm的波长中的折射率比所述第二折射率 匹配层高， 当测量可视光区域的各波长中的所述ITO层的非蚀刻部及蚀刻部的反射率时，以下数 学式1中的AR值为0%至1.0%， 利用对D65光源的2°视线的反射光，测量L*a*b*色坐标系的反射颜色时，以下数学式 2中的Λ ER值为0至6. 0 : [数学式1]所述数学式1中，i为可视光区域的各波长，为各波长中的ITO层的非蚀刻部的反 射率（％ )，r2i为各波长中的ITO层的蚀刻部的反射率（％ )，η是被测波长的总数， [数学式2]所述数学式2中，8*1及b* i分别是ITO层的非蚀刻部的反射颜色的L*、a*及b*， 且L*2、8*2及b* 2分别是ITO层的蚀刻部的反射颜色的L*、a*及b*。2. 根据权利要求1所述的透明导电光学片，所述第二折射率匹配层在550nm的波长中 具有1. 67至1. 75的折射率。3. 根据权利要求1或2所述的透明导电光学片，所述第二折射率匹配层具有15至 IOOnm的厚度。4. 根据权利要求1或2所述的透明导电光学片，所述第一折射率匹配层具有5至500nm 的厚度，且在550nm波长中具有1. 5至1. 66的折射率。5. 根据权利要求1或2所述的透明导电光学片，所述第一折射率匹配层及第二折射率 匹配层通过湿式涂覆方式形成。6. 根据权利要求1所述的透明导电光学片，所述ITO层包括2至15重量％的锡氧化 物。7. 根据权利要求1或6所述的透明导电光学片，所述透明导电光学片具有60至 160 Ω/ □的表面电阻。8. 根据权利要求1或6所述的透明导电光学片，所述透明导电光学片在120~160°C 的温度范围经过30~90分钟的热处理。9. 根据权利要求1或6所述的透明导电光学片，所述透明导电光学片在5%的硫酸溶 液中被处理10分钟时的表面电阻的增加比率为20%以下。10. 根据权利要求1所述的透明导电光学片，当所述透明导电光学片在所述ITO层的表 面上根据JIS K-5600使用IH铅笔进行了五次表面硬度测试时，其具有五次均未损伤的表 面硬度。11. 根据权利要求1所述的透明导电光学片，所述透明导电光学片在120~160°C的温 度范围内进行30~90分钟的热处理时，由以下数学式3表示的尺寸变化率在纵向（LD)方 向是0.5%以下，在横向（TD)方向是0.3%以下， [数学式3] 尺寸变化率（％) = {(热处理前尺寸-热处理后尺寸）/热处理前尺寸} X 100。12. 根据权利要求1所述的透明导电光学片，所述透明导电光学片进一步包括一个以 上的具有低聚物阻塞、防止阻塞、防止反射及粘着功能中的某一种或两种以上复合功能的 功能层。13. 根据权利要求12所述的透明导电光学片，所述功能层位于所述透明基层的外侧表 面。14. 根据权利要求1所述的透明导电光学片，所述透明导电光学片进一步包括作为外 围层的硬度提高薄膜。15. 根据权利要求14所述的透明导电光学片，所述硬度提高薄膜的厚度为20至 180 μ m〇16. 根据权利要求14所述的透明导电光学片，所述硬度提高薄膜包括： 基薄膜层；以及 一个以上的具有低聚物阻塞、粘着及脱模功能中的某一种或两种以上复合功能的功能 层。17. 根据权利要求1或14所述的透明导电光学片，所述透明导电光学片具有通过以下 数学式4计算的Y值的0. 8倍至1. 6倍的硬度（mN. m)。 [数学式4] Y= (-3. 208X 10 nXX5) + (2. 039X 10 8XX4) - (4. 271 X 10 6XX3)+ (4. 09X 10 4 XX2) - (1.489X 10 2ΧΧ)+1· 955X10 1 上述式中X是透明导电光学片的总厚度（μπι)。18. 根据权利要求14所述的透明导电光学片，所述硬度提高薄膜在120~160°C的温 度范围内进行30~90分钟的热处理时，由以下数学式3表示的尺寸变化率在纵向（LD)方 向是0.5%以下，在横向（TD)方向是0.3%以下， [数学式3] 尺寸变化率（％) = {(热处理前尺寸-热处理后尺寸）/热处理前尺寸} X 100。
【专利摘要】本发明涉及一种图案隐身性优异的透明导电光学片，其包括图案等蚀刻而形成的ITO层，通过被设置在所述光学片的折射率匹配层的薄膜干涩效果来修正ITO层的非蚀刻部与蚀刻部之间的反射率和反射颜色的差，使用户无法通过视觉来认知非蚀刻部和蚀刻部，从而能够不会降低在下部的显示器面板中所要显示的清晰度。特别是，当为了调节表面电阻而改变ITO层的厚度时，所述透明导电光学片即使不改变透明基层或折射率匹配层的折射率和厚度，薄膜干涩效果也能够维持得很好。因此，所述透明导电光学片可在适用于各种电子设备的显示器面板的触摸屏面板领域中使用。
【IPC分类】G06F3/041, G02B1/16
【公开号】CN105528107
【申请号】CN201510475188
【发明人】禹硕钟, 朴俊纪, 片升勇, 李庚男, 高银圭
【申请人】爱思开哈斯显示用薄膜有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2015年8月5日