0°C的溫度范围内进行30~90分钟的热处 理时，W下数学式3中的热处理前/后的尺寸变化率在纵向（LD)方向上可显示为0.5% W 下，在横向（TD)方向上可显示为0.3%W下。 阳130][数学式3] 阳131] 尺寸变化率（％) = K热处理前尺寸-热处理后尺寸）/热处理前尺寸IXlOO
[0132] 而且，当所述透明导电光学片设置有所述硬度提高薄膜时，可提高透明导电光学 片的硬度。
[0133] 例如，设置有硬度提高薄膜的透明导电光学片可具有通过W下数学式4来计算的 Y值的0. 8倍至1. 6倍的硬度，进一步限定时的0. 8倍至1. 2倍的硬度（mN. m)。 阳134][数学式4] 阳 13引 Y = (-3. 208X10 iiX)(5) + (2. 039X 10 sx)(4) - (4. 271X 10 6x)(3) + (4. 09X 10 4 XX") - (I. 489X10 "XX)+1. 955X10 '
[0136] 上述数学式中X是透明导电光学片（设置或未设置有硬度提高薄膜）的总厚度 (Ji m)。 阳137] 而且，所述透明导电光学片当未设置有硬度提高薄膜时也可具有通过上述数学式 4来计算的Y值的0. 8倍至1. 6倍的硬度（mN. m)。
[0138] 并且，当所述透明导电光学片设置有硬度提高薄膜时，优选地，具有在120~ 160°C的溫度范围内进行30~90分钟的热处理时，上述数学式3中的热处理前/后的尺寸 变化率纵向（LD)可显示为0.5%W下，横向（TD)可显示为0.3%W下的硬度提高薄膜，其 结果是，在粘贴了硬度提高薄膜后也可被抑制在热处理时向光学片的表面方向弯曲或被卷 而变形。 阳139] 本发明的一个实施例的透明导电光学片的制造步骤包括：（1)准备透明基层；（2) 形成第一折射率匹配层；（3)形成第二折射率匹配层；（4)形成第=折射率匹配层；（5)沉 积ITO层；W及做对ITO层进行蚀刻。
[0140] 而且，所述透明基层的表面可直接形成一个W上的功能层或粘贴必要的功能性薄 膜。 阳141] 各阶段可通过本发明所属技术领域中普遍使用的方法，例如，使用树脂溶液的涂 覆，通过瓣射的沉积等来实施。
[0142] 根据优选实施例，所述第一折射率匹配层、第二折射率匹配层及功能层可W通过 湿式涂覆（wet coating)方式形成。
[0143] 而且，所述功能性薄膜可通过使用层压机（Iaminator)接合。
[0144] 优选地，在实施步骤（1)至（5)之后，为了提高ITO层的结晶度可进一步实施热处 理，在实施步骤（1)至（6)之后也可进一步实施热处理。例如，所述热处理在120~160°C 的溫度范围内进行30~90分钟。
[0145] 步骤（6)是可通过在所述ITO层上根据丝网印刷、凹印、喷墨或干膜抗蚀剂（化y film resist,DFR)层压方式，按所需的图案直接将蚀刻液涂布来对ITO层进行部分蚀刻或 按所需的图案形成光致抗蚀剂膜后，利用蚀刻液等部分蚀刻ITO层来进行。而且，除了所述 方法外，也可采用利用激光的激光蚀刻（laser etching)方法。 阳146] 下面，根据实施例对本发明进行更详细说明。但是，W下实施例只是对本发明进行 的例示，本发明的内容并不限定于W下实施例。
[0147] 实施例1至20 :具有折射率匹配层的透明导电光学片的制造
[0148] 步骤1 :准备透明基层
[0149] 使用在550皿的波长中折射率为1. 63至1. 67、厚度为50 ym的PET透明基材。
[0150] 步骤2 :形成第一折射率匹配层 阳151] 将5. 5重量份的热固化型丙締酸树脂（A811，爱敬化学公司）、0. 3重量份的聚异氯 酸醋固化剂值N980S，爱敬化学公司）、47. 1重量份的用于稀释的二甲苯（巧Iene)及47. 1 重量份的乙酸下醋进行混合后，W该混合溶液的固体含量100重量份计，将50~80重量 份的氧化错狂r〇2, JGC公司）进一步混合。然后将获取的混合溶液在所述透明基层上进 行湿式涂覆（wet coating),并且进行干燥及热固化，从而形成在550nm的波长中折射率在 1. 56~1. 66范围且厚度为20~100皿范围的第一折射率匹配层。 阳152] 步骤3 :形成第二折射率匹配层
[0153] 将15重量份的UV硬化低聚物值PHA，味元公司）、5重量份的季戊四醇S丙締酸醋 (PETA，味元公司）、4重量份的稀释用单体（SR499, Satomer公司）、1重量份的UV硬化光引 发剂（Irga州re-184, BASF公司）及37. 5重量份的稀释用甲基乙基酬（MEK)、37. 5重量份 的甲基异下基酬（MIBK)进行混合后，W该混合溶液的固体含量100重量份计，将100~200 重量份的氧化错狂r〇2, JGC公司）进一步混合。然后将获取的混合溶液在所述第一折射率 匹配层上进行湿式涂覆（wet coating),并且进行干燥及UV硬化，从而形成550皿的波长中 折射率在1. 69~1. 72范围且厚度为15~100皿范围的第二折射率匹配层。
[0154] 步骤4 :形成第S折射率匹配层
[01巧]通过在所述第二折射率匹配层上将二氧化娃（Si〇2)进行真空瓣射来进行沉积，从 而形成在550皿的波长中折射率（n)在1. 43~1. 55范围且厚度为5~40皿范围的第S 折射率匹配层。 阳156] 步骤5 JTO层的沉积及热处理 阳157] 通过在所述第S折射率匹配层上将含有7重量份的锡氧化物的ITO进行真空瓣射 来进行沉积。将沉积有所述ITO层的光学片在120~160°C的溫度范围内进行30~90分 钟的热处理来进行结晶化。其结果形成在550nm的波长中折射率在I. 8~I. 93范围且厚 度为20~45nm的ITO层。 阳158] 步骤6:蚀刻ITO层 阳159] 通过丝网印刷、凹印、喷墨或干膜抗蚀剂（化y film resist，DFR)层压方式在所述 ITO层上形成线型或钻石型方格图案的光致抗蚀剂膜，并且在25°C及5重量％的盐酸溶液 中浸泡一分钟后用超纯水值I)冲洗来蚀刻一部分ITO层。 阳160] 对比例1至12 :具有折射率匹配层的透明导电光学片的制造 阳161 ] 按照所述实施例1至20的过程（步骤1~6)进行，而在步骤3中通过调节原材料 的混合量及涂覆厚度来形成在550nm的波长中折射率在1. 60~1. 68范围且厚度为1000~ IlOOnm范围的第二折射率匹配层，从而制造出透明导电光学片。 阳162] 将所述实施例及对比例的透明导电光学片的结构整理在W下表1至8。
[0163] 测试例1:AR值的评价
[0164] 对于透明导电光学化使用测量仪器（U4100, Mitsubishi公司）测量可视光区域 (380~780nm)的各波长的反射率（％)。此时，为消除由内部反射产生的噪音，将透明基 层的外表面印刷成黑色后进行了测量。利用测量值，并按照W上的数学式1得出了A R值 (% )。
[0165] 测试例2 : A ER值的评价
[0166] 对透明导电光学片，使用测量仪器扣4100, Mitsubishi公司）利用对D65光源的 2°视线的反射光，测量根据L相冲*色坐标系表现的反射颜色。此时，为了消除由内部反射 产生的噪音，将透明阳T基材的表面印刷成黑色后进行了测量。利用测量值，并按照W上的 数学式2得出了A邸值。
[0167] 测试例3 :外观干涩花纹的评价
[0168] 对透明导电光学片，观察外部光源的作用下的反射光中是否出现如油溃形象的色 斑现象。
[0169] 测试例4 :表面电阻的评价
[0170] 对透明导电光学片，首先在热处理之前的状态下测量表面电阻，并将此时的测量 值用R。表示。然后，通过在150°C的溫度下进行60分钟的热处理，将ITO层进行结晶化，之 后测量表面电阻，并将此时的测量值用Ri表示。最后，用5%的硫酸溶液处理十分钟后测量 表面电阻，并将此时的测量值用R2表示。基于如此测量的值，计算出Ri/R。的比例及R 2/% 比例。 阳171] 测试例5 :表面硬度的评价
[0172] 透明导电光学片的ITO层的表面硬度通过按照JIS-K5600的步骤（Mitsubishi pencil IH使用）进行五次测试时未出现划痕的次数的比率来评价。 阳173] 测试例6 :热处理前/后的尺寸变化率的评价
[0174] 对透明导电光学片的纵向（LD)及横向（TD)，测量为ITO层的结晶化而进行的热处 理前/后的尺寸，并根据W上的数学式3得出尺寸变化率。
[0175] 表1至8中整理了所述测试例的评价结果。 阳17引 连施例1牵5及对比例1牵3的结构及测试结果
[0177][表 U
阳181] 实施例6至10及对比例4至6的结构及测试结果 [0182][表引 阳 183]
阳186] 如表1至4所示，实施例1至10的光学片具有本发明中要求的范围，即I. 0% W下 的A R值及