专利名称：显示基片、显示器、滤色器基片、液晶显示器及制造方法
技术领域：
本发明涉及一种显示用基片、具有该显示用基片的显示装置、滤色器基片、具有该滤色器基片的液晶显示器及其制造方法。具体地说，涉及一种改善了画质的显示器基片、具有该显示器基片的显示器，改善了视角的滤色器基片、具有该滤色器基片的液晶显示器、显示器用基片的制造方法、显示器制造方法、滤色器基片的制造方法、及具有该滤色器基片的液晶显示器制造方法。
背景技术：
平板显示器中代表液晶显示器是利用液晶分子的电容率各向异性和折射率各向异性，并且利用根据电场强度的光偏光特性变化的显示器。
这种液晶显示器依赖液晶分子的各向异性，该装置因为根据视角光经过的液晶分子各向异性特性有差异，所以观看的位置不同出现画质的变化。通常，视角具有能得到对比比为10∶1的图像的角度。对比比在画面中显示亮处和暗处的亮度差异。上述对比比在液晶显示器体现较黑状态或具有较均匀灰度时变大。
为了体现较黑状态，减少光泄漏现象，并采用普通黑色模式，而且减少黑阵表面的光反射。上述普通黑色(Normally Black)模式当不施加电场时显示黑色。为了具有较均匀灰度，液晶显示器采用补偿薄膜，并包括具有众多区域的液晶层。
为了解决画质变化问题正在开发最适合光经过的液晶分子光学特性的液晶分子、具有众多区域的液晶显示面板、补偿薄膜等。
例如，按照液晶分子模式开发的VA(垂直取向，VerticalAlignment)、IPS(面内切换，In-Plane Switching)等是目前开发的代表之一。众多区域是一种施加电压时使一个像素液晶根据区域向不同方向移动(旋转)，并使整个光经过的液晶分子各向异性特性变化与视角无关变得最小的技术。
另外，移动显示产品为了不仅在室内而且在室外也提供良好的画质，使用有反射区域和透射区域组成的显示装置(下面称为“半透射显示器)。通常，反射区域和透射区域根据光途径差异具有不同厚度液晶层。这种移动显示产品最近也基于视角要求，开发了垂直取向或众多区域技术的应用。
半透射显示器在偏光板和液晶之间分别使用相位差板，因此通过偏光板的光根据相位差圆形偏光。
半透射显示器液晶层的光透射度液晶层的倾斜为重要的因素，所以认为可以无摩擦过程形成，但若省略摩擦工序时，在透射区域由失去方向性的液晶分子导致画质下降等。具体地说，反射区域浮雕图案和反射区域和透射区域层差形成地形学的液晶倾斜，然而，宽的透射区域为了液晶具有整体方向性若不进行摩擦工序，由失去方向性的液晶分子导致画质下降的问题。
独立摩擦工序增加生产成本，并且可能导致纵向斑点等不良。
发明内容
本发明的第一目的是提供一种将垂直取向或众多区域技术适用于半透射显示器，提高画质的显示装置用基片。
本发明的第二目的是提供一种具有上述显示器用基片的显示器。
本发明第三目的是提供一种用于制造显示器用基片的方法。
本发明第四目的是提供一种用于制造显示器的方法。
本发明的第五目的是提供一种提高了视角及画质的滤色器基片。
本发明第六目的提供一种是具有上述滤色器基片的液晶显示器。
本发明第七目的是提供一种用于制造滤色器基片的方法。
本发明第八目的是提供一种用于制造液晶显示器的方法。
实现本发明第一目的的根据本发明第一实施例的显示器用基片包括板极(Plate)、开关元件、绝缘层、以及隔壁。由反射外部光的反射区域及与反射区域相邻的透射区域限定板极)。开关元件置于基片上。绝缘层置于具有开关元件的基片上，并露出部分开关元件的第一电极，对应透射区域的部分滞后于对应反射区域的部分。隔壁分割透射区域。
透射区域通过隔壁可以分割为均等或非均等。根据不同情况，通过隔壁可以完全不分割透射区域。隔壁是从透射区域一部分沿着透射区域表面延伸的结构，其具有一定倾斜度。在不施加地形(topographically)电压的状态下通过隔壁、透射区域和反射区域边界液晶具有倾斜度和方向性，并可以取向。
透射区域可以具有圆形、多角形、椭圆形。椭圆形包括四角形、六角形、八角形状。
具有上述结构的显示器根据像素电极的形成位置大致分为两种。一种是像素电极形成在隔壁上部的结构，另外一种是像素电极形成在隔壁下部。
另外，反射区域形成了浮雕图案的结构。浮雕图案具有均匀或非均匀状，并具有度数或无度数的凹凸结构。根据浮雕图案在不施加地形电压下液晶也具有浮雕图案，并取向。显示器半透射型液晶显示器。
实现本发明第一目的的根据本发明第一实施例的显示器用基片包括板极、开关元件、第一像素电极部、绝缘层、第二像素电极部、以及隔壁。开关元件形成于基片上。第一像素电极部形成于形成开关元件的基片上。绝缘层形成于形成开关元件及第一像素电极部的基片上，并露出开关元件第一电极一部分。第二像素电极部形成于绝缘层上，并与开关元件第一电极及第一像素电极部电连接。隔壁置于第一像素电极上，并分割被露出的第一像素电极部限定的区域。
实现本发明第一目的的根据本发明另一实施例的显示器用基片包括板极、开关元件、绝缘层、隔壁、以及像素电极。开关元件形成于基片上。板极(Plate)由反射外部光的反射区域及与反射区相邻的透射区域被限定。开关元件形成于基片上。绝缘层形成于形成开关元件的基片上，并露出开关元件第一电极一部分，对应透射区域的部分滞后于对应反射区域部分。隔壁形成于形成开关元件的基片上并分割透射区域。像素电极与开关元件第一电极电连接，其形成于绝缘层上。
实现本发明第二目的的根据本发明一实施例的显示器包括下部基片及上部基片。下部基片包括限定了反射外部光的反射区域及与反射区域相邻的透射区域的第一板极、置于第一板极上的开关元件、置于具有开关元件的第一板极上并露出开关元件第一电极一部分，而且对应透射区域的部分滞后于对应反射区域的部分的绝缘层、分隔透射区域的隔壁。上部基片具有第二板极和置于第二板极上并具有对应分割区域的一个以上图案的共同电极。
图案可能是缩小透射区域的形状或圆形、椭圆形、多角形。图案在对应透射区域的基片的像素电极形成一个以上，其根据情况可以在与透射区域或分割的透射区域中央对应的位置。图案是全部或部分除去基片共同电极的结构。
或者，替代共同电极图案在图案位置可以具有形成绝缘层凸起的结构。
在通过图案或凸起施加电压的状态下液晶向一定方向移动(旋转)。
实现本发明第二目的的根据本发明另一实施例的显示器包括下部基片及上部基片。下部基片包括第一板极、形成于第一板极上的开关元件、形成于形成开关元件的第一板极上的第一像素电极部、形成于形成开关元件及第一像素电极部的第一板极上并露出开关元件第一电极部一部分的绝缘层、形成于绝缘层上并与开关元件第一电极及第一像素电极部电连接的第二像素电极部、置于第一像素电极部上并分割由露出的第一像素电极部限定的隔壁。上部基片包括第二板极、置于第二板极上并具有对应由隔壁分割的区域的图案的共同电极。上部基片与下部基片面对设置。
实现本发明第二目的的根据本发明另一实施例的显示器包括下部基片及上部基片。下部基片包括限定了反射外部光的反射区域及与反射区域相邻的透射区域的第一板极、形成于第一板极上的开关元件、形成于形成开关元件的第一板极上并露出开关元件第一电极一部分，而且对应透射区域的部分滞后于对应反射区域的部分的绝缘层、分隔透射区域的隔壁、与开关元件第一电极电连接并形成于绝缘层上的像素电极。上部基片包括第二板极、置于第二板极上并具有对应由隔壁分割的区域的图案的共同电极。上部基片与下部基片面对设置。
为了形成第三目的的根据本发明一实施例的显示器用基片，首先，在基片上形成开关元件。接着，在形成开关元件的基片上形成第一像素电极部。接着，在形成开关元件及第一像素电极部的基片上形成露出开关元件第一电极一部分的绝缘层。然后，形成分割由露出的第一像素电极部限定的区域的隔壁。最后，在绝缘层上形成与开关元件第一电极及第一像素电极部电连接的第二像素电极部。
为了形成第三目的的根据本发明另一实施例的显示器用基片，首先，在限定了反射外部光的反射区域及与反射区域相邻的透射区域的基片上形成开关元件。接着，在形成开关元件的基片上形成露出开关元件第一电极一部分并对应透射区域的部分滞后于对应反射区域部分的绝缘层。接着，在透射区域内形成分割透射区域的隔壁。最后，在绝缘层上形成与开关元件第一电极电连接的像素电极。
为了制造实现本发明第四目的的根据本发明一实施例的显示器，首先，在限定了反射外部光的反射区域及与反射区域相邻的透射区域的第一板极上形成开关元件。接着，在形成开关元件的第一板极上形成露出开关元件第一电极一部分并对应透射区域的部分滞后于对应反射区域部分的绝缘层。接着，在透射区域内形成分割透射区域的隔壁。最后，在第二板极上形成具有对应分割区域的一个以上图案的共同电极。
实现本发明第五目的的根据本发明一实施例的滤色器基片包括透明基片、滤色器、以及共同电极。透明基片包括显示区域及包围显示区域的周边区域。滤色器置于透明基片上的显示区域内，其包括众多区域用槽。共同电极置于周边区域、滤色器及众多区域用槽内面上，通过施加的电压产生的电场通过众多区域用槽被失真。
实现本发明第六目的的根据本发明一实施例的液晶显示器包括第二板极、滤色器、共同电极、第一板极、像素电极及液晶层。第二板极包括显示区域及包围显示区域的周边区域。滤色器置于第二板极上的显示区域内，其包括众多区域用槽。共同电极置于周边区域、滤色器及众多区域用槽内面上。通过施加的电压产生的电场通过众多区域用槽被失真。第一板极包括对应显示区域的像素区域及置于像素区域内的开关元件。像素电极置于第一板极上的像素区域内，其与开关元件电连接。液晶层置于像素电极和共同电极之间。
为了制造实现本发明第七目的的根据本发明一实施例的滤色器基片，首先，在限定了显示区域及包围显示区域的周边区域的透明基片上涂布具有规定颜色的有机物。接着，除去涂布的有机物一部分，形成置于显示区域内并包括众多区域用槽的滤色器。然后，在整个形成滤色器的透明基片表面沉积透明绝缘物质，形成通过施加的电压产生的电场通过众多区域用槽被失真的共同电极。
为了制造实现本发明第八目的的根据本发明一实施例的液晶显示器，首先，在限定了显示区域及包围显示区域的周边区域的第二板极上涂布具有规定颜色的有机物。接着，除去涂布的有机物一部分，形成置于显示区域内并包括众多区域用槽的滤色器。然后，在整个形成滤色器的第二板极表面沉积透明绝缘物质，形成通过施加的电压产生的电场通过众多区域用槽被失真的共同电极。接着，在限定对应显示区域的像素区域并面对第二板极的第一板极的像素区域内形成开关元件及与开关元件电连接的像素电极。最后，在像素电极和共同电极之间填充液晶层。
因此，液晶显示器具有形成垂直取向及众多区域不仅改善画质，还根据情况可以省略摩擦工序的优点。垂直取向可以不平行于基片而一定角度倾斜。而且，在液晶层内形成众多区域，以提高液晶层的视角。进一步简化了制造工序，减少制造成本。
本发明的优点和特征通过附图的详细说明变得显而易见。
图1A是根据本发明透射区域分别分割成两个部分的显示器下部基片布置图；图1B是根据本发明透射区域分别分割成四部分的显示器下部基片布置图；图2A是图1A沿着I-I′线的截面图；图2B是图1B沿着II-II′线的截面图；
图3A、3B、3C示出按照工序的图2A形成方法；图4A、4B、4C示出根据本发明在上部基片共同电极形成的共同电极图案；图5A是图4A沿着III-III′线的截面图；图5B是图4B沿着IV-IV′线的截面图；图5C是图4C沿着V-V′线的截面图；图6是根据本发明实施例的液晶显示器平面图；图7是图6沿着VI-VI′线的截面图；图8是图6沿着VII-VII′线的截面图；图9A至图9K是制造图6示出的液晶显示器的方法截面图；图10是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图；图11是图10第一像素电极部及第二像素电极部平面图；图12是图10沿着VIII-VIII′线的截面图；图13是图10沿着IX-IX′线的截面图；图14A至图14J是制造图10液晶显示器的方法截面图；图15是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图；图16是图15沿着X-X′线的截面图；
图17是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图；图18是图17第一像素电极部及第二像素电极部平面图；图19是图17沿着XI-XI′线的截面图；图20是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图；图21是图20沿着XII-XII′线的截面图；图22是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图；以及图23是图22沿着XIII-XIII′线的截面图。
具体实施例方式
为了使本领域技术人员能够实施本发明，现参照附图详细说明本发明的实施例，但是本发明可表现为不同形式，它不局限于在此说明的实施例。
在图中为了明确表现各层及区域，扩大其厚度来表示，在全篇说明书中对类似部分附上相同图的符号，当提到层、膜、区域、基片等部分在别的部分“之上”时，它是指“直接”位于别的部分之上，也包括其间夹有别的部分之情况，反之说某个部分“直接”位于别的部分之上时，指其间并无别的部分。说明书全文中用相同的附图标号表示相同的部件。
图1A是根据本发明透射区域分别分割成两部分的显示器下部基片布置图，而图1B是根据本发明透射区域分别分割成四部分的显示器下部基片布置图。
图1A、图1B示出在显示器中形成开关元件215及与开关元件电连接的栅极线203′、数据线211′、像素区域Px的下部基片的布置。所述开关元件215由栅极202、第一及第二电极211、213组成，所述像素区域Px由反射区域Ra和透射区域Ta组成。图1A、图1B示出将透射区域Ta分别均匀分割成两个部分Ta′、四个部分，但是可以不均匀分割。在反射区域Ra形成浮雕图案。
驱动电路(未示出)输出选择信号，其通过栅极线203′传输栅极203，而且输出数据电压，通过数据线211′及开关元件215传输像素电极。
另外，在下部基片上部具有形成滤色器、共同电极等的上部基片、及在下部基片和上部基片之间的液晶层，以制造显示器。此时，所述上部基片的共同电极包括图案。液晶层的液晶分子是VA或RTN(反向TN)取向。
图1B是根据本发明透射区域分别分割成四部分的显示器下部基片布置图，图2A是图1A沿着I-I′线的界面图。
参照图2A，像素电极第一像素电极部219在隔壁223下部形成。
在第一极片201上形成开关元件215及第一像素电极部219，其上部形成隔壁223、具有透射区域的绝缘层221及第二像素电极部225。第一像素电极部219置于透射区域Ta内，第二像素电极部225置于反射区域Ra内。
具体而言，包括第一板极201、形成于第一板极201上的开关元件215、形成于第一板极201并在形成开关元件215的区域之外区域形成的第一像素电极部219、在第一板极201及开关元件215、第一像素电极部219上并露出开关元件215的第一电极213一部分，且露出第一像素电极部219一部分但在第一像素电极部219上形成隔壁223的绝缘层221、在绝缘层221上与开关元件215第一电极213及第一像素电极部219电连接的第二像素电极部225。
透射区域是圆形、多角形、椭圆形。多角形包括四角形或六角形、八角形状。
第一像素电极部219及第二像素电极部225单一层或复合层结构。根据情况，在开关元件上的开关元件215和绝缘层221之间填充钝化层217。另外，第一像素电极部219可能是透明电极，其由ITO、IZO组成。第二像素电极部225是不透明电极，其由铝、铝合金或铝和金属复合层组成。而且，第一像素电极部219和第二像素电极部225电连接的区域中在两电极之间填充钼钨等合金层。
隔壁223与绝缘层221是相同物质。
参照图2B，在隔壁223上形成像素电极的第一像素电极部219。
具体而言，图2B结构除了在绝缘层221上形成第一像素电极部219，在反射区域的第一像素电极部219上形成第二线像素电极225之外，与图2A结构相同。只是，因为在绝缘层221上形成第一像素电极部219，所以在透射区域隔壁223上部形成第一像素电极部219。
具有与图2A及图2B相同结构的显示器在不施加地形(topographically)电压的状态下通过隔壁223及反射区域和透射区域边界层差，液晶具有倾斜度并取向，以得到良好的画质，根据情况可以省略摩擦工序，因此可以改善摩擦工序引起的不良，降低生产成本。
图3A至3D示出按照工序的图2A形成方法。
参照图3A，在第一板极202上形成开关元件215之后，在第一板极201上形成并在形成开关元件215的区域之外的区域形成第一像素电极部219。然后，在第一板极201、开关元件215及第一像素电极部219上形成绝缘层221。
第一板极201是玻璃或水晶等具有透射性的绝缘体板极。开关元件215是薄膜晶体管，其在第一板极201上由栅极203、栅极绝缘层205、通道层207、源极/漏极的第一及第二电极211、213组成。栅极203或第一及第二电极211、213由铝或铝合金、或铝和金属的复合层组成，通常用溅射等方法形成。栅极绝缘层205是氮化硅或氧化层等绝缘层，通道层207由硅层等半导体层组成，分别可以用化学汽相淀积法(CVD)形成。
具体而言，在第一板极201上形成栅极203及栅极线203’之后，在栅极203及第一板极上形成栅极绝缘层205。然后，在栅极绝缘层205上形成半导体层及电阻连接层之后，制作布线图案，以在形成栅极203的区域及其周边区域形成半导体图案及电阻连接图案。在电阻连接图案上形成金属层之后，在形成栅极203的区域及其周边区域形成，并制作布线图案使其在栅极203上部形成层差，以形成第一及第二电极211、213及数据线211′。
将制作布线图案的第一及第二电极211、213作为掩模蚀刻电阻连接图案，使形成层差，形成通道层207，以形成开关元件215。(另外还可以，依次形成半导体层及电阻连接层、金属层之后，同时进行制作布线图案形成第一及第二电极211、213，形成电阻连接图案的层差，以形成开关元件215。)根据情况，在开关元件215上形成钝化层217。钝化层217是氮化硅等绝缘层。
绝缘层221在钝化层217上形成。例如，是用有机绝缘层形成电容率低而厚、平坦的绝缘层。
参照图3B，在所述图3A绝缘层221准备形成图案的曝光装置的光栅300，通过光学蚀刻，露出开关元件215的第二部分213一部分，并露出第一像素电极部219一部分，形成绝缘层221，使隔壁置于第一像素电极部219上。
本实施例中，有机绝缘层包括光致抗蚀剂。通过包括曝光工序及显像工序的光学蚀刻工序形成除去特定区域绝缘层221的方法。此时，有机层221可以通过光学蚀刻工序形成。
照射光的光致抗蚀剂化学成分带来与未照射光的光致抗蚀剂化学成分不同变化，所以通过曝光工序可以选择性地除去。光栅300在透明部件301上形成不透明部件302，例如根据图案形态形成铬等，以完成制作。
图中示出了，在光栅300形成具有不透明部件302的区域和未具有不透明部件的区域，通过具有不透明部件的区域除去绝缘层221一部分，但根据光致抗蚀剂特征，可以交换具有不透明部件302的区域和不具有不透明区域的的区域。
在使用于曝光工序的光栅300进一步形成要形成隔壁223的图案，以形成滞后的透射区域的同时形成隔壁223。形成隔壁223的图案是单一图案或狭缝图案。当利用单一图案或狭缝图案形成隔壁时，隔壁223高度与反射区域相同或小于反射区域。特别是，当使用追加狭缝图案的光栅300时，由光回折现象形成比反射区域低的倾斜隔壁223。
而且，在形成反射区域的绝缘层221上形成形成浮雕图案的图案。图案也通过光学蚀刻工序形成。显像后通过热处理过程形成浮雕图案。
参照图3C，在绝缘层221上的反射区域形成不透明电极的第二像素电极部225，并与第一像素电极部219及第二电极213电连接。
如上所述，除去透射区域绝缘层221一部分或全部，形成反射区域和透射区域液晶层厚度差，以制造根据反射区域的反射特性和透射区域的透射特性的显示。例如，若透射区域液晶层厚度大约为反射区域液晶层厚度的2倍时，可以使在反射区域光进行的液晶层距离和在透射区域光进行的液晶层距离相同，以使反射区域和透射区域光学特性相似。根据情况，调整反射区域液晶层厚度，根据调整的反射区域液晶层厚度及绝缘层221厚度调整透射区域液晶层厚度，使反射区域具有最佳条件。
而且，具有图2B结构的显示器形成方法(未示出)除了形成绝缘层221之后形成第一像素电极部219之外，如同图3A至图3C形成方法。只是，形成绝缘层221之后形成第一像素电极部219及第二像素电极部225，然后从透射区域除去不透明电极的第二像素电极部225，以限定反射区域的第二像素电极部225和透射区域的第一像素电极部219。而且，在第一像素电极部和第二像素电极部之间填充钼钨等金属层。
图4A、43、4C示出根据本发明在上部基片共同电极形成的共同电极图案。
上部基片的共同电极图案以圆形、椭圆形或多角形中的任意形态形成一个以上。而且，当通过隔壁等分割透射区域117a、117b时，在对应各分割区域的上部基片共同电极形成图案402。共同电极具有多种图案。图案402位于分别对应透射区域或分割的透射区域的上部基片共同电极区域中心。图案具有除去共同电极一部分或全部的结构。
在下部基片及反射区域、开关元件等具有所有图1A、图1B形态。另外，在下部基片和上部基片之间填充液晶层，液晶层的液晶模式是VA(垂直取向)或RTN(Reverse TN)。
通常，半透射显示器在下部基片具有光源、向面板全面照射从光源射出的光的导光板及各种薄片(薄膜)、偏光板和相位差板。相位差板以λ/4相位改变光波的一轴方向，使线形偏光的光源圆形偏光。而且，在上部基片上部具有相位差板(λ/4相位板)、偏光板。通过相位差板在反射区域形成黑色模式，在反射区域和透射区域中黑色和白色模式一致。而且，替代共同电极图案在图案位置形成绝缘层凸起。
图5A是图4A沿着III-III′线的截面图。
参照图5A，下部基片501除了无隔壁外与图2A相同的显示结构。即，形成透射区域但未留隔壁而除去的结构。另外，第一像素电极部219置于绝缘层221上。对应下部基片501的上部基片505，在与下部基片相同的基片形成滤色器等规定结构。在上部基片505全面形成共同电极507。共同电极507在对应下部基片501透射区域的位置具有图案402，并具有纵向延伸的椭圆形形态。此时，图案402具有四角形或圆形。或者替代共同电极507图案402，在图案位置形成绝缘层凸起。
具有图5A结构的显示器在通过图案施加电压的状态下向一定方向移动(旋转)液晶，提高液晶方向性，因此较良好地形成众多区域，以改善显示画质。
图5B是图4B沿着IV-IV′线的截面图，图5C是图4C沿着V-V′线的截面图。
图5B和图5C具有与图2A和图2B相同结构的下部基片502、503。图5B、5C中，对应下部基片502、503的上部基片505及共同电极507具有与图5A相同的结构。
参照图5B、5C，共同电极507在对应下部基片502、503透射区域的位置具有图案。具体地说，共同电极507图案402形成于形成隔壁的区域之外区域或对应分割的透射区域的上部基片共同电极507区域。在未形成隔壁的透射区域中心形成共同电极507图案402，图案402在透射区域形成一个以上，在对应通过隔壁分割的区域或未形成隔壁的区域的上部基片共同电极507分别形成一个以上。或替代共同电极507图案在图案402位置形成绝缘凸起。
具有图5B及图5C结构的显示器在不施加地形电压的状态下根据隔壁及反射区域边界层差、反射区域浮雕图案，液晶可以具有倾斜度取向，而且，在不施加电压的状态下通过图案将液晶向一定方向移动(旋转)。而且，从隔壁和图案的位置关系彼此互补性地控制根据未施加电压和施加电压的液晶的取向特性及根据移动(旋转)的方向性，以不仅可以改善显示画质，还根据情况可以省略摩擦工序，改善由摩擦工序引起的不良，降低生产成本。
图6是根据本发明实施例的液晶显示器平面图，图7是图6沿着VI-VI′线的截面图，图8是图6沿着VII-VII′线的截面图。
参照图6至图8，液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1102、滤色器1104a、1104b、1104c、共同电极1106、衬垫1110(隔板，Spacer)及众多区域用槽(Recess for Multi-Domain)1130。上部基片1170包括显示图像的显示区域1150及包围显示区域1150的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极线1118a′、栅极线1118b′、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容器(未示出)、有机层1114、第一像素电极部1112、第二像素电极部1113及众多区域用凸起(Protrusion for Multi-Domain)1131a。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1145对应于周边区域1155。像素区域1140包括透射从背光源组合体产生的光的透射窗1129a及反射外部光的反射区域1128。优选地，透射窗1129a呈直四角形状。
第二板极1100及第一板极1120使用能透射光的透明玻璃。玻璃为无碱性。当玻璃为碱性时，若碱性离子从玻璃输出到液晶单元中，降低液晶电阻率，改变显示特性，降低单元和玻璃的附着力，影响开关元件运行。
此时，第二板极1100及第一板极1120包含三乙酰纤维素(TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚对萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚乙烯醇(PVA)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、环烯聚合物(COP)等。
优选地，第二板极1100及第一板极1120具有光学上的相同方向。
黑阵1102形成于对应周边区域1155的第二板极1100一部分，遮挡光。黑阵1102遮挡通过不能控制液晶的遮光区域1145的光，以提高画质。
黑阵1102通过沉积金属、金属化合物或不透明有机物，并蚀刻形成。金属包括铬等，金属化合物包括氧化铬、氮化铬等，不透明有机物包括炭黑(Carbon Black)，颜色混合物，燃料混合物等。颜色混合物包括红、绿、蓝色。燃料混合物包括红、绿、蓝燃料。而且，黑阵1102涂布包括光致抗蚀剂(Photoresist)成分的半透明物质之后，通过光学蚀刻形成。此时，重叠多个滤色器形成黑阵。
滤色器1104a、1104b、1104c形成于第二板极1100的显示区域1150内，只选择性地透射具有规定波长的光。滤色器1104a、1104b、1104c包括红色滤色器部1104a、绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部1104c。滤色器1104a、1104b、1104c包括光中和开始剂、单体、粘合剂、颜料、分散剂、溶剂、光致抗蚀剂等。此时，滤色器1104a、1104b、1104c置于第一板极1120或钝化层1116上。
滤色器1104a、1104b、1104c为了在液晶层1108内形成众多区域包括除去滤色器1104a、1104b、1104c一部分的众多区域用槽1130a。众多区域槽1130a对应于透射窗1129a设置。优选地，众多区域槽1130a沿着透射窗1129a的中心线设置，并具有向源极线1118a′方向延伸的直四角形状。此时，众多区域用槽1130a深度可以小于滤色器1104a、1104b、1104c厚度。
共同电极1106在形成黑阵1102及滤色器1104a、1104b、1104c的所述第二板极1100全面上。共同电极1106包括像ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)、或ZO(氧化锌)的透明导电性物质。此时，在第一板极1120上共同电极1106与第一像素电极1112及第二像素电极部1113并排设置。
衬垫1110在形成黑阵1102、滤色器1104a、1104b、1104c及共同电极106的第二板极1100上。通过衬垫1110一定程度保持上部基片1170及下部基片1180之间的单元缝隙。优选地，衬垫1110包括对应于黑阵1102设置的柱状衬垫(Column Spacer)。此时，衬垫1110包括球状衬垫(Ball Spacer)或混合柱状衬垫和球状衬垫的衬垫。
薄膜晶体管1119在第一板极1120的反射区域1128内形成，其包括源极1118a、栅极1118b、漏极1118c及半导体层图案。驱动电路(未示出)输出数据电压，并通过源极线1118a′向源极传输1118a。输出选择信号并通过栅极线1118b′向栅极1118b传输。
栅极绝缘层1126置于形成栅极的所述第一板极1120上，电绝缘栅极1118b和源极1118a、漏极1118c。栅极绝缘层1126包括氮化硅、氧化硅等。
钝化层1116置于薄膜晶体管1119形成的第一板极1120上，露出漏极1118c一部分的接触孔。钝化层1116包括氮化硅1116、氧化硅等。
存储电容器(未示出)形成于第一板极1120上，保持共同电极1106和第二像素电极部1113之间及共同电极1106和第一像素电极部1112之间的电位差。
绝缘层1114置于形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板极1120上，使薄膜晶体管1119与第一像素电极部1112或第二像素电极部1113绝缘。绝缘层1114包括露出漏极1118c一部分的接触孔。
而且，开口对应于绝缘层1114的透射窗1129a的部分，使对应下部基片1180的透射窗1129a的部分和对应反射区域1128的部分高度彼此不同。此时，在透射窗1129a内残留绝缘层1114一部分。
绝缘层1114包括凸起部(Protruded Portion)1115及凹凸部(Embossed Portion)。凸起部1115对应衬垫1110设置，调整相邻的垂直取向的液晶一部分排列。凹凸部置于反射区域1128内，增加第二像素电极部1113反射效率。
众多区域用凸起1131a对应于众多区域用槽1130a并置于钝化层1116上。众多区域凸起1131a具有向源极线1118a′方向延伸的直四角形状。此时，对应于一个众多区域用槽1130a设置多个众多区域用凸起1131a，对应于一个众多区域用凸起1131a设置多个众多区域用槽1130a。优选地，众多区域用凸起1131a与绝缘层1114一起形成。
调整众多区域用凸起1131a及/或众多区域用槽1130a大小，调整形成众多区域的液晶排列。
第一像素电极部1112形成于像素区域1140内的绝缘层1114表面、接触孔内面、众多区域用凸起1131a及透射窗1131a及透射窗1129a内，并与漏极1118c电连接。第一像素电极部1112通过施加于与共同电极1106之间的电压控制液晶层1108内液晶，调整光透射。第一像素电极部1112包括透明导电性物质的氧化铟锡ITO、氧化铟锌IZO、氧化锌ZO等。
第二像素电极部1113置于反射区域1128内的绝缘层1114上，其反射外部光。优选地，第二像素电极部1113沿着在绝缘层1114表面上的凹凸部形状设置，并向一定方向反射外部光。第二像素电极部1113包括导电性物质，并通过第一像素电极部1112与漏极1118c电连接。
此时，在上部基片1170及下部基片1180表面设置取向层(未示出)，可取向液晶。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，用密封剂(未示出)密封它。液晶层1108内液晶以垂直取向(VerticalAlignment，VA)、扭曲(Twisted Nematic，TN)取向、混合扭曲(MixedTwisted Nematic，MTN)取向或均匀(Homogeneous)取向模式排列。优选地，液晶层1108内液晶以垂直取向模式排列。
若第一像素电极部1112及第二像素电极部1113和共同电极1106之间施加电压，则在与凸起部1115及衬垫1110相邻的区域、透射窗1129a和反射区域1128之间的有层差部分(阶梯部，SteppedPortion)、与众多区域用槽1130a、以及众多区域用凸起1131a的区域内产生电场失真。因此，在液晶层1108内形成众多区域，以提高视角。
图9A至图9K是制造图6示出的液晶显示器的方法截面图。
参照图9A，首先，在第一板极1120限定像素区域1140及遮光区域1145。像素区域1140包括透射从背光源组合体(未示出)产生的光的透射窗1129a及反射外部光的反射区域1128。
接着，在第一板极1120上沉积导电性物质。接着，除去导电性物质一部分，形成栅极1118b及栅极线1118b′。然后，在形成栅极1118b及栅极线1118b′的第一板极1120全面上沉积绝缘物质，以形成栅极绝缘层1126。
接着，在对应栅极1118b的栅极绝缘层1126上形成非晶硅及N+非晶硅，以形成半导体层。接着，在形成半导体层的栅极绝缘层1126上沉积导电性物质。然后，蚀刻导电性物质一部分，形成源极1118a、源极线1118a′及漏极1118c。形成包括源极1118a、栅极1118b、漏极1118c及半导体层的薄膜晶体管1119。
接着，在形成薄膜晶体管1119的第一板极1120上沉积绝缘物质。
参照图9B，接着在沉积的绝缘物质上涂布所述有机物。优选地，有机物包括光致抗蚀剂。
参照图9C，接着，利用掩模曝光涂布的有机物1114’并显像，形成接触孔、凸起部1115、凹凸部及众多区域用凸起1131a。而且，通过曝光显像工序开口对应于透射窗1129a的部分。曝光及显像工序包括利用一个掩模的一次工序或具有多个掩模的数次工序。通过利用一个掩模的一次工序形成接触孔、凸起部1115、凹凸部及众多区域用凸起1131a时，一个掩模包括不透明部分、半透明部分及透明部分。优选地，不透明部分对应于凸起部1115，半透明部分分别对应于凹凸部及众多区域用凸起1131a，接触孔及透射窗1129a对应于透明部分。此时，掩模替代半透明部分包括狭缝。调整半透明部分或狭缝宽度，以调整众多区域用凸起1131a大小。
参照，图9B，接着，在绝缘层1114、钝化层1116、接触孔内面、透射窗1129a内面及众多区域用凸起1131a表面上沉积透明导电性物质。导电性物质包括ITO、IZO、ZO等。优选地，透明导电性物质包括ITO。接着，蚀刻沉积的透明导电性物质一部分，形成第一像素电极部1112。在像素电极1140内形成第一像素电极部1112。
然后，在形成第一像素电极部1112的第一板极上沉积高反射率的导电体。优选地，反射率高的导电体包括铝及钕。接着，蚀刻反射率高的导电体一部分，在反射区域1128内形成第二像素电极部1113。
此时，第二像素电极部1113具有多层结构。当第二像素电极部具有多层结构时，优选地，第二像素电极部1113包括钼-钨合金层及在钼-钨合金层上形成的铝-钕合金层。第二像素电极部1113通过第一像素电极部1112及接触孔与漏极1118c电连接。此时，在绝缘层114及接触孔内面上形成第二像素电极部1113，在透射窗1129a及第二像素电极部1113一部分上形成第一像素电极部1112，通过第二像素电极部1113电连接第一像素电极部1112和漏极1118c。
从而，形成包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极线、栅极线、绝缘层1114、第一像素电极部1112、第二像素电极部1113及众多区域用凸起1131a的下部基片1180。
参照图9E，接着，在第二板极1100上沉积半透明物质。接着，除去半透明物质一部分，形成黑阵1102。此时，在第二板极1100上涂布半透明物质及光致抗蚀剂之后，利用光学蚀刻(PhotoProcess)形成黑阵1102。光学蚀刻包括曝光工序(Exposure Process)及显像工序(Development Process)。此时，在第一板极1120上形成黑阵1102。
参照图9F，然后在形成黑阵1102的第二板极1100上涂布包括红色颜料及光致抗蚀剂的混合物。
参照图9G，接着利用掩模曝光涂布的混合物1104a′并显像，形成红色滤色器部1104a及众多区域用槽1130a。掩模包括狭缝，狭缝对应于众多区域用槽1130a。众多区域用槽1130a大小对应于狭缝间距。此时，掩模包括半透明部分。调整半透明部分宽度，以调整众多区域用槽1130a大小。
参照图9H，接着在形成黑阵1102及红色滤色器部1104a的第二板极1100上形成绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部。
参照图9I，接着，形成黑阵1102及滤色器1104a、1104b、1104c的第二板极1100上沉积半透明导电性物质，以形成共同电极1106。
参照图9J，接着在所述共同电极1106上涂布有机物。优先地，所述有机物包括光致抗蚀剂(Photoresist)成分。然后，曝光有机物，并显像，在对应黑阵1102的共同电极1106上形成衬垫1110。此时，在第一板极1120上形成衬垫1110。
参照图9K，接着面对接合上部基片1170及下部基片1180。
接着，在上部基片1170及下部基片1180之间注入液晶层1108之后用密封剂(Sealant，未示出)密封。此时，在形成密封剂(未示出)的上部基片1170或下部基片1180上点滴(Drop)液晶后，使上部基片1170及下部基片1180面对接合，形成液晶层1108。
因此，调整置于与衬垫1110相邻的凸起部1115、在透射窗1129a和反射区域1128之间有层差的部分及与众多区域用槽1130a和众多区域用凸起1131a相邻的区域内的垂直取向的液晶一部分排列，在透射窗1129a内形成众多区域。众多区域中心对应于众多区域用槽1130a及众多区域用凸起1131a。
而且，与滤色器1104a、1104b、1104c一起形成众多区域用槽131a，而且，与绝缘层1114一起形成众多区域用凸起1131a，所以简化了液晶显示器制造工序。
图10是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图11是图10第一像素电极部及第二像素电极部平面图、图12是图10沿着VIII-VIII′线的截面图。
本实施例中，除了外涂层及绝缘层之外其组成结构与图6至图8实施例相同，因此在此省略其详细说明。
参照图10至图13，液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1104a、1104b、1104c、外涂层1105、共同电极1106、衬垫1110及众多区域用槽(Recess for Multi-Domain)1132a。上部基片1170包括显示区域1150及包围显示区域的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极1118a′、栅极线1118b′、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容器(未示出)、绝缘层1114、第一像素电极部1112、第二像素电极部1113及众多区域用凸起(Protrusion for Multi-Domain)1134a。液晶层1108置于上部基片1170和下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1145对应于周边区域1155。像素区域1140包括透射从背光源组合体(未示出)产生的光的透射窗1129a、及反射外部光的反射区域1128。
黑阵1102形成于第二板极1100的周边区域1155内，并遮挡光。
滤色器1104a、1104b、1104c形成于形成黑阵1102的第二板极1100上，选择性地透射只具有规定波长的光。滤色器1104a、1104b、1104c包括红色滤色器部1104a、绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部1104c。
滤色器1104a、1104b、1104c为了在液晶层1108内形成众多区域包括除去滤色器1104a、1104b、1104c一部分的众多区域用槽1132a。众多区域用槽1132a沿着透射窗1129a中心线设置，具有向源极线1118a′方向延伸的直四角形状。此时，众多区域用槽1130a深度可以比滤色器1104a、1104b、1104c厚度小。
外涂层1105形成于形成黑阵1102及滤色器1104a、1104b、1104c的第二板极1100上，保护黑阵1102及滤色器1104a、1104b、1104c。而且，平坦化黑阵1102及滤色器1104a、1104b、1104c形成的上部基片1170表面。
而且，对应于外涂层1105的透射窗1129a的部分被开口，使对应于上部基片1170的透射窗1129a的部分和对应于反射区域1128的部分高度不同。此时，在对应于反射区域1128的外涂层1105表面形成凹凸部(Embossed Portion)。
此时，外涂层1105一部分残留于对应于透射窗1129a的滤色器1104a、1104b、1104c及众多区域用槽1132a上。优选地，残留的外涂层1105沿着滤色器1104a、1104b、1104c及众多区域用槽1132a设置。
共同电极1106形成于形成黑阵1102、滤色器1104a、1104b、1104c及外涂层1105的第二板极1100全面上。
衬垫1110形成于形成黑阵1102、滤色器1104a、1104b、1104c、外涂层1105及共同电极1106的第二板极1100上。衬垫1110包括对应于黑阵1102设置的柱状衬垫(Column Spacer)。
薄膜晶体管1119形成于第一板极1120的反射区域1128内，其包括源极1118a、栅极1118b、漏极1118c及半导体层图案。
栅极绝缘层1126置于形成栅极1118b的第一板极1120上，使栅极1118b与源极1118a及漏极1118c电绝缘。
钝化层1116置于形成薄膜晶体管1119的第一板极1120上，其包括露出漏极1118c一部分的接触孔。
绝缘层1114置于形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板极1120上，使薄膜晶体管与第一像素电极部1112及第二像素电极部1113绝缘。绝缘层1114包括露出漏极1118c一部分的接触孔。
此时，绝缘层1114进一步包括凸起部1115、凹凸部及众多区域用凸起1134a。
凸起部1115对应于衬垫1110布置，调整相邻的垂直取向液晶一部分。凹凸部置于反射区域1128内，增加第二像素电极部1113反射效率。
众多区域用凸起1134a对应于众多区域用槽1132a置于绝缘层1114上。众多区域用凸起1134a具有向源极线1118a′方向延伸的直四角形状。众多区域用凸起1134a与绝缘层1114一起形成。
第一像素电极部1112形成于像素区域1140内的绝缘层1114表面、接触孔内面及众多区域用凸起1134a内，与漏极1118c电连接。
第二像素电极部1113置于反射区域1128内的绝缘层1114上，反射外部光。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，用密封剂(Seal，未示出)密封它。液晶层1108内的液晶以垂直取向模式排列。
若向第一像素电极部1112及第二像素电极部1113和共同电极1106之间施加电压，在与凸起部1115及衬垫1110相邻的区域、外涂层1105和滤色器1104a、1104b、1104c之间的有层差部分(阶梯部，Stepped Portion)、与众多区域用槽1132a及众多区域用凸起1134a相邻的区域内产生失真。当液晶以垂直取向模式排列时，在液晶层1108内通过失真的电场形成众多区域，以提高视角。
图14A至图14J是制造根据本发明第二实施例的液晶显示器的方法截面图。
参照图14A，首先，在第一板极1120形成薄膜晶体管1119。接着，在形成薄膜晶体管1119的第一板极1120上沉积透明绝缘物质。接着，在沉积的透明绝缘物质上涂布有机物。优选地，有机物为光致抗蚀剂。
参照图14B，接着，利用掩模曝光涂布的有机物1114′，并显像形成凸起部1115、凹凸部及众多区域用凸起1134a。曝光及显像工序包括利用一个掩模的一次工序或具有多个掩模的多次工序。通过利用一个掩模的一次工序形成接触孔、凸起部1115、凹凸部及众多区域用凸起1134a时，一个掩模包括透明部分、不透明部分及半透明部分。优选地，透明部分对应于接触孔，不透明部分对应于凸起部1115及众多区域用凸起1134a，半透明部分分别对应于凹凸部及透射窗1129a。因此，减少绝缘层1114的高低差(Height Difference)，简化了众多区域用凸起制造工序。此时，掩模替代半透明部分包括狭缝。
参照图14C，接着，在形成有机层1114的第一板极1120上的所述像区域1140形成第一像素电极部1112。然后，在形成第一像素电极部1112的第一板极1120上的反射区域1128内形成第二像素电极部1113。
从而，形成包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极线1118a′、栅极线1118b′、绝缘层1114、第一像素电极部1112、第二像素电极部1113及众多区域用凸起1134a的下部基片1180。
参照图14D，接着，在第二板极1100上形成黑阵1102。然后，在形成黑阵1102的第二板极1100上涂布包括红色颜料及光致抗蚀剂的混合物。
参照图14E，接着，利用掩模曝光涂布的混合物1104a′，并显像形成红色滤色器部1104a及众多区域用槽1132a。
参照图14F，接着，在形成黑阵1102及红色滤色器部1104a的第二板极1100上形成绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部。
参照图14G，接着，在形成黑阵1102及滤色器1104a、1104b、1104c的第二板极上涂布包括有机物。
参照图14H，然后，利用掩模曝光涂布的有机物1105′，并显像，露出对应于下部基片1180透射窗1129a的滤色器1104a、1104b、1104c一部分及众多区域用槽1132a。
参照图14I，接着，在形成黑阵1102、滤色器1104a、1104b、1104c及外涂层1105的第二板极1100上沉积透明导电性物质，形成共同电极1106。
接着，在对应于黑阵1102的共同电极1106的一部分上形成衬垫1110。
参照图14J，接着，面对接合上部基片1170及下部基片1180。
接着，在上部基片1170及下部基片1180之间注入液晶层1108，然后用密封剂(Sealant，未示出)密封。
因此，若向共同电极1106和第一像素电极部1112及第二像素电极部1113之间施加电压，则在与衬垫1110和凸起部1115相邻的区域、外涂层1105和滤色器1104a之间的有层差的部分、以及与众多区域用槽1132a和众多区域用凸起1134a相邻的区域内形成众多区域。
而且，根据外涂层1105对应于透射窗1129a的液晶层1108高度和对应于反射区域的液晶层1108高度不同，因此减少绝缘层1114层差，容易形成众多区域用凸起1134a。
图15是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图16是图15沿着X-X′线的截面图。
本实施例中，除了众多区域用槽及众多区域用凸起之外的结构与图10至图13实施例结构相同，因此省略其重复部分的详细说明。
参照图15及图16，液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极(Second Plate)1100、黑阵1102(Black Matrix)1102、滤色器1104a、1104b、外涂层1105、共同电极1106、衬垫1110及两个众多区域用槽1132b。此时，上部基片1170可以包括众多区域用槽。上部基片1170包括显示区域1150及包围显示区域的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极线1118a′、栅极线1118b′、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容器(未示出)、绝缘层1114、第一像素电极部1112、第二像素电极部1113及两个众多区域用凸起(Protrusions for Multi-Domain)1134b。此时，下部基片1180可以包括多个众多区域用凸起。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1155对应于周边区域1150。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域1128。
滤色器1104a、1104b形成于形成黑阵1102的第二板极上，只选择具有规定波长的光透射。滤色器1104a、1104b包括红色滤色器1104a部、绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部。
滤色器1104a、1104b为了在液晶层1108内形成众多区域，包括除去滤色器1104a、1104b一部分的众多区域用槽1132b。众多区域用槽1132b沿着透射窗1129a中心线设置，其具有正方形状。此时各众多区域用槽1132b具有向源极线1118a′延伸的直四角形状。
外涂层1105在形成黑阵1102及滤色器1104a、1104b的第二板极1100上。
而且，对应于外涂层1105的透射窗1129a的部分被开口，使对应于上部基片1170的透射窗1129a的部分高度和对应与反射区域1128的部分高度不同。
绝缘层1114在形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板极1120上设置，使薄膜晶体管1119与第一像素电极部1112及第二像素电极部1113绝缘。绝缘层1114包括露出漏极1118c一部分的接触孔。
此时，绝缘层1114进一步包括凸起部1115、凹凸部及两个众多区域用凸起1134b。
众多区域用凸起1134b对应于众多区域用槽1132b置于绝缘层1114上。众多区域用凸起1134b具有正方形状。此时，众多区域用凸起1134b也可以具有向源极线方向延伸的直四角形状。众多区域用凸起1134b与绝缘层一起形成。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，用密封垫(Seal，未示出)被密封。液晶层1108内液晶以垂直取向(VerticalAlignment)模式排列。
若向第一像素电极部1112和共同电极1106之间施加电压，在各众多区域用槽1132b和对应于众多区域1132b并与众多区域用凸起1134b相邻的液晶层内1108内形成多个区域。从而，增加包含在众多区域内的区域数，以提高视角。
图17是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图18是图17第一像素电极部及第二像素电极部平面图，图19是图17沿着XI-XI′线的截面图。
本实施例中，除了第二像素电极部及第一像素电极部之外的结构如同图15及图16实施例，因此省略其重复部分的详细说明。
参照图17至图19，所述液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1104a、1104b、外涂层1105、共同电极1106、衬垫1110及众多区域用槽1132c。上部基片1170包括显示区域1150及包围显示区域的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极线1118a′、栅极线1118b′、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容器(未示出)、绝缘层1114、第一像素电极部1220、第二像素电极部1230及两个众多区域用凸起(Protrusions for Multi-Domain)1134c。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1145对应于周边区域1150。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域1128。
滤色器1104a、1104b为了在液晶层1108内形成众多区域，包括除去滤色器1104a、1104b一部分的众多区域用槽1132C。众多区域用槽1132c沿着透射窗1129a中心线设置，其具有正方形状。此时各众多区域用槽1132c具有正方形状。
绝缘层1114在形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板极1120上设置，绝缘层1114包括露出漏极1118c一部分的接触孔、凸起部1115、凹凸部及两个众多区域用凸起1134c。
众多区域用凸起1134c对应于众多区域用槽1132c置于绝缘层1114上。
第一像素电极部1112包括第一透明电极部1212a、第二透明电极部1212b、第一连接部1136a及第二连接部1136b。
第一透明电极部1212a及第二透明电极部1212b置于透射窗1129a内的绝缘层1114上。第一透明电极部1212a及第二透明电极部1212b彼此相邻设置。
第一连接部1136a置于第一透明电极部1212a和第二透明电极部1212b之间，电连接第一透明电极部1212a和第二透明电极部1212b。优选地，第一透明电极部1212a及第二透明电极部1212b呈正方形。
第二连接部1136b置于第二透明电极部1212b的第一连接部1136a对面，电连接第二透明电极部1136b和第二像素电极部1230。第二透明电极部1136b的一部分延伸到接触孔内，可以电连接第二透明电极部1136b和薄膜晶体管1119的漏极1118c。
第二像素电极部1230置于反射区域1128内的绝缘层1114上，呈正方形。
此时，第一透明电极部1212a、第二透明电极部1212b及第二像素电极部1230可以成为多角形、圆形等。多角形包括四角形、六角形、八角形等。
调整第一透明电极部1212a和第二透明电极部1212b之间距离及/或第二透明电极部1212b和第二像素电极部1230之间距离，以调整液晶层1108内液晶排列。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，液晶层1108内液晶以垂直取向模式排列。
若向第一像素电极部1220和共同电极1106之间施加电压，在各众多区域用槽1132c和对应于众多区域用槽1132c的与各众多区域用凸起1134c相邻的液晶层1108内形成多个区域。
而且，在第一透明电极部1212a和第二透明电极部1212b之间、及第二透明电极部1212b和第二像素电极部1230之间产生电失真，以调整液晶排列，提高视角。
图20是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图21是图20沿着XII-XII′线的截面图。
本实施例中，除了第二众多区域用槽之外的结构如同图17至图19实施例的结构，因此省略其重复部分的详细说明。
液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1104a、1104b、外涂层1105、共同电极1106、衬垫1110及两个第一众多区域用槽1132d及第二众多区域用槽1137。上部基片1170包括显示区域1150及包围显示区域1150的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120薄膜晶体管1119、源极线1118a′、栅极线1118b′、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容器(未示出)、绝缘层1114、第一像素电极部1220、第二像素电极部1230及两个众多区域用凸起(Protrusions for Multi-Domain)1134d。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1145对应于周边区域1155。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域1128。
对应于外涂层1105的透射窗1129a的部分被开口，上部基片1170的透射窗1129a的部分高度和对应于反射区域1128的部分高度不同。
而且，在对应于下部基片1180反射区域1128的外涂层1105内设置第二众多区域用槽1137。
众多区域用凸起1134d对应于第一众多区域用槽1132d置于绝缘层1114上。
若向第二像素电极部1230和共同电极1106之间施加电压，在与第二众多区域槽1137相邻的区域内产生电场失真。从而，调整置于第二像素电极部1230上的液晶层1108内液晶排列，在反射区域1128内形成多个区域。
图22是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图23是图22沿着XIII-XIII′线的截面图。
本实施例中，除了第一众多区域用槽及第二众多区域用槽之外结构如同图20及图21实施例，因此省略其重复部分的详细说明。
液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1104a、1104b、外涂层1105、共同电极1106、衬垫1110及两个第一众多区域用槽1132e及第二众多区域用槽1138。上部基片1170包括显示区域1150及包围显示区域1150的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120薄膜晶体管1119、源极线1118a′、栅极线1118b′、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容器(未示出)、绝缘层1114、第一像素电极部1220、第二像素电极部1230及两个众多区域用凸起(Protrusions for Multi-Domain)1134e。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1145对应于周边区域1155。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域1128。
滤色器1104a、1104b为了在液晶层1108内形成众多区域包括除去滤色器1104a、1104b一部分的两个众多区域用槽1132e。众多区域槽1132e深度比滤色器1104a、1104b厚度小。
在对应于下部基片1180的反射区域1128的外涂层1105内设置第二众多区域用槽1138。优选地，第二众多区域用槽1138大小与第一众多区域用槽1132e大小相同。
众多区域用凸起1134e对应于第一众多区域用槽1132e，置于绝缘层1114上。
从而，调整所述第一众多区域用槽1132e及所述第二众多区域用槽1138大小，以调整所述液晶层1108内液晶排列。
像本发明的显示器，形成垂直取向(也包括不平行于基片而与基片形成一定角度的取向)及众多区域，不仅可以改善画质，而且根据情况可以省略摩擦工序。
而且，液晶显示器包括众多区域用槽及众多区域用凸起，在液晶层内形成众多区域，提高视角。
而且，在第一透明电极部和第二透明电极部之间、及第二透明电极部和第二像素电极部之间产生电失真，以调整液晶排列，提高视角。
而且，简化了滤色器基片及液晶显示器制造工序，减少制造费用。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种显示器用基片，包括板极，限定了反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域；开关元件，置于所述基片上；绝缘层，包含置于具有所述开关元件的所述基片上并露出所述开关元件的第一电极一部分的接触孔，对应于所述透射区域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分；以及隔壁，将所述透射区域分割为多个透射部分。
2.根据权利要求1所述的显示器用基片，其特征在于，所述透射区域具有2至4个透射部分。
3.一种显示器用基片，包括板极；开关元件，形成于所述基片上；第一像素电极部，形成于形成所述开关元件的基片上；绝缘层，形成于形成所述开关元件及所述第一像素电极部的基片上，具有露出所述开关元件的第一电极一部分的接触孔及露出所述第一像素电极部一部分的开口部；第二像素电极部，形成于所述绝缘层上，与所述开关元件第一电极及第一像素电极部电连接；以及隔壁，置于所述第一像素电极部上，将通过所述开口部露出的第一像素电极部分割为多个透射部分。
4.一种显示器用基片，包括板极，限定了反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域；开关元件，形成于所述基片上；绝缘层，包含置于具有所述开关元件的所述基片上，露出所述开关元件的第一电极一部分的接触孔，对应于所述透射区域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分；隔壁，置于所述第一像素电极部上，把所述透射区域分割为多个透射部分；以及像素电极，与所述开关元件第一电极电连接，形成于所述绝缘层上。
5.一种显示器，包括下部基片，包含限定了反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域的第一板极、形成于所述基片上的开关元件、包含置于具有所述开关元件的所述基片上并露出所述开关元件的第一电极一部分的接触孔，而且对应于所述透射区域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分的绝缘层、将所述透射区域分割为多个透射部分的隔壁；以及上部基片，包含第二基片，置于所述第二板极上且包含对应于所述透射区域部分的一个以上图案的共同电极，对应于所述下部基片。
6.根据权利要求5所述的显示器，其特征在于，所述图案具有缩小所述各分割区域的形状、圆形、椭圆形或多角形状。
7.根据权利要求5所述的显示器，其特征在于，进一步包括置于所述下部基片和上部基片之间的液晶层。
8.一种显示器，包括下部基片，包含第一板极、形成于所述第一板极上的开关元件、形成于形成所述开关元件的第一板极上的第一像素电极部、具有形成于形成所述开关元件及所述第一像素电极部的第一板极上并露出所述开关元件第一电极一部分的接触孔及露出所述第一像素电极部一部分的开口部的绝缘层、形成于所述绝缘层上并与所述开关元件第一电极及第一像素电极部电连接的第二像素电极部、置于所述第一像素电极部，且把通过所述开口部露出的第一像素电极部分割为多个透射部分的隔壁；以及上部基片，包含第二板极、置于所述第二板极上且包含对应于所述透射区域部分的图案的共同电极，对应于所述下部基片。
9.根据权利要求8所述的显示器，其特征在于，所述图案具有缩小所述各分割区域的形状、圆形、椭圆形或多角形状。
10.根据权利要求8所述的显示器，其特征在于，进一步包括置于所述下部基片和上部基片之间的液晶层。
11.一种显示器，包括下部基片，包含限定了反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域的第一板极、形成于所述基片上的开关元件、包含置于所述开关元件的所述基片上并具有露出所述开关元件的第一电极一部分的接触孔，而且对应于所述透射区域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分的绝缘层、置于所述第一像素电极部上，把所述透射区域分割为多个透射部分的隔壁、与所述开关元件第一电极电连接且形成于所述绝缘层上的像素电极；以及上部基片，包含第二板极，置于所述第二板极上且包含对应于所述透射区域部分的图案的共同电极，对应于所述下部基片。
12.根据权利要求11所述的显示器，其特征在于，所述图案具有缩小所述各分割区域的形状、圆形、椭圆形或多角形状。
13.一种用于制造显示器用基片的方法，包括如下工序在基片上形成开关元件；在形成所述开关元件的基片上形成第一像素电极部；在形成所述开关元件及第一像素电极部的基片上形成具有露出所述开关元件第一电极一部分的接触孔及露出所述第一像素电极部一部分的开口部的绝缘层；形成将通过所述开口部露出的第一像素电极部分割为多个透射部分的隔壁；以及在所述绝缘层上形成与所述开关元件第一电极及第一像素电极部电连接的第二像素电极部。
14.根据权利要求13的方法，其特征在于，与所述绝缘层一起形成所述隔壁。
15.根据权利要求14的方法，其特征在于，形成所述绝缘层及所述隔壁的工序包括如下工序在形成所述开关元件及第一像素电极部的基片上涂布绝缘物质；准备包括露出所述开关元件的第一电极一部分及第一像素电极一部分的图案及形成所述隔壁的狭缝图案的光栅；以及利用所述光栅进行光学蚀刻，形成所述绝缘层及所述隔壁。
16.一种用于制造显示器用基片的方法，包括如下工序在限定反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域的基片上形成所述开关元件；在形成所述开关元件的基片上形成包括露出所述开关元件第一电极一部分的接触孔且对应所述透射区域的部分滞后于对应所述反射区域的部分的绝缘层；在所述透射区域内形成把所述透射区域分割为多个透射部分的隔壁；以及在所述绝缘层上形成与所述开关元件第一电极电连接的像素电极。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，与所述隔壁一起形成所述绝缘层。
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，形成所述绝缘层及所述隔壁的工序包括如下工序在形成所述开关元件的基片上涂布绝缘物质；准备包括露出所述开关元件的第一电极一部分及透射区域一部分的图案及形成所述隔壁的狭缝图案的光栅；以及利用所述光栅进行光学蚀刻，形成所述绝缘层及所述隔壁。
19.一种用于制造显示器的方法，包括如下工序在限定反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域的第一板极上形成所述开关元件；在形成所述开关元件的第一板极上形成包括露出所述开关元件第一电极一部分的接触孔且对应所述透射区域的部分滞后于对应所述反射区域的部分的绝缘层；在所述透射区域内形成把所述透射区域分割为多个透射部分的隔壁；以及在所述第二板极上形成具有对应于所述分割区域的一个以上图案的共同电极。
20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，进一步包括在形成所述开关元件的第一板极上形成像素电极的工序，所述隔壁置于所述像素电极上。
21.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，进一步包括在形成所述绝缘层及所述隔壁的第一板极上形成像素电极。
22.一种滤色器基片，包括透明基片，包含显示区域及包围所述显示区域的周边区域；滤色器，置于所述透明基片上的所述显示区域内，包括众多区域用槽；以及共同电极，置于所述周边区域、所述滤色器及所述众多区域用槽内面上，在与所述众多区域用槽相邻的区域形成失真的电场。
23.根据权利要求22所述的滤色器基片，其特征在于，所述滤色器包括多个众多区域用槽。
24.根据权利要求22所述的滤色器基片，其特征在于，置于所述滤色器上，保护所述滤色器，防止来自外部污染或冲击带来的损害。
25.根据权利要求24所述的滤色器基片，其特征在于，所述绝缘层进一步包括置于所述显示区域内的辅助众多区域用槽。
26.根据权利要求22所述的滤色器基片，其特征在于，所述众多区域用槽的深度与所述滤色器厚度相同。
27.根据权利要求22所述的滤色器基片，其特征在于，所述众多区域用槽的深度小于所述滤色器厚度。
28.根据权利要求22所述的滤色器基片，其特征在于，所述众多区域用槽沿着所述显示区域中心线设置。
29.一种液晶显示器，包括第二板极，包含显示区域及包围所述显示区域的周边区域；滤色器，置于所述第二板极上的所述显示区域内，包含众多区域用槽；共同电极，置于所述周边区域、所述滤色器及所述众多区域用槽内面上，在与所述众多区域用槽相邻的区域形成失真的电场；第一板极，包含对应所述显示区域的像素区域及置于所述像素区域内的开关元件；像素电极，置于所述第一板极的所述像素区域内，与所述开关元件电极电连接；以及置于所述像素电极和所述共同电极之间的液晶层。
30.根据权利要求29所述的液晶显示器，其特征在于，所述像素区域包括反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域，所述液晶显示器进一步包括置于形成所述开关元件的第一板极上，并露出所述开关元件的第一电极一部分，而且对应所述透射区域的部分滞后于对应所述反射区域的部分的绝缘层。
31.根据权利要求30所述的液晶显示器，其特征在于，进一步包括置于所述透射区域内，且将所述透射区域分割为多个透射部分的隔壁。
32.根据权利要求29所述的液晶显示器，其特征在于，进一步包括置于所述第一板极和所述像素电极之间，且在所述液晶层内形成众多区域的众多区域用凸起。
33.根据权利要求29所述的液晶显示器，其特征在于，所述像素电极包括多个像素电极部及电连接所述像素电极部的连接部。
34.根据权利要求33所述的液晶显示器，其特征在于，所述多个像素电极部呈正方形。
35.根据权利要求29所述的液晶显示器，其特征在于，所述像素区域包括透射外部光的透射区域及反射来自外部的光的反射区域，所述像素电极包括形成于所述透射区域内的第一像素电极部及形成于所述透射区域内的第二像素电极部。
36.根据权利要求35所述的液晶显示器，其特征在于，所述第一像素电极部包括第一透明电极部、与所述第一透明电极部相邻的第二透明电极部、电连接所述第一透明电极部和所述第二透明电极部的第一连接部及电连接所述第二透明电极部和所述像素电极部的第二连接部。
37.根据权利要求36所述的液晶显示器，其特征在于，所述第一透明电极部、所述第二透明电极部及所述第二像素电极部呈正方形。
38.一种用于制造滤色器基片的方法，包括如下工序在限定显示区域及包围所述显示区域的周边区域的透明基片上涂布具有规定颜色的有机物；除去所述涂布的有机物一部分，形成置于所述显示区域内且包括众多区域用槽的滤色器；以及在形成所述滤色器的透明基片全面上沉积透明绝缘物质，形成在与所述众多区域用槽相邻的区域形成失真电场的共同电极。
39.根据权利要求38所述的方法，其特征在于，所述有机物包括光致抗蚀剂，所述形成滤色器的工序包括如下工序利用掩模曝光所述涂布的有机物；以及显像经曝光的有机物。
40.根据权利要求39所述的方法，其特征在于，所述掩模包括对应所述众多区域用槽的狭缝。
41.根据权利要求38所述的方法，其特征在于，进一步包括在所述滤色器上形成保护所述滤色器的外涂层，以防止来自外污染和冲击的损害。
42.一种用于制造液晶显示器的方法，包括如下工序在限定显示区域及包围所述显示区域的周边区域的第二板极上涂布具有规定颜色的有机物；除去所述涂布的有机物一部分，形成置于所述显示区域内且包括众多区域用槽的滤色器；在形成所述滤色器的第二板极全面上沉积透明绝缘物质，形成在与所述众多区域用槽相邻的区域形成失真电场的共同电极；限定对应所述显示区域的像素区域，在面对所述第二板极的第一板极的所述像素区域内形成开关元件及与所述开关元件电极电连接的像素电极；以及在所述像素电极和所述共同电极之间填充液晶层。
43.根据权利要求42所述的方法，其特征在于，所述像素区域包括反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域，所述液晶显示器制造方法进一步包括以下工序在形成所述开关元件的第一板极上形成露出所述开关元件第一电极一部分，且对应所述透射区域的部分滞后于对应所述反射区域部分的绝缘层。
44.根据权利要求43所述的方法，其特征在于，进一步包括如下工序在所述透射区域内形成将所述透射区域分割为多个透射区域的隔壁。
45.根据权利要求42所述的方法，其特征在于，所述有机物包括光致抗蚀剂，所述形成滤色器的工序包括如下工序利用包括对应所述众多区域用槽的狭缝得掩模曝光所述涂布的有机物；以及显像经曝光的有机物。
全文摘要
本发明提供了一种具有反射区域和透射区域的显示器中，在透射区域形成隔壁的显示器及其制造方法。该隔壁将透射区域分割成两个部分至四个部分，以地形调整倾斜的液晶分子方向。而且，在对应于透射区域的上部基片的像素电极形成一定形状的图案，施加电压时也可以调整液晶分子的移动(旋转)方向。而且，可以简化制造工序，降低生产成本。
文档编号H01L21/00GK1637563SQ20051000019
公开日2005年7月13日 申请日期2005年1月6日 优先权日2004年1月6日
发明者金宰贤, 金尚佑, 朴源祥, 李宰瑛, 车圣恩, 林载翊 申请人:三星电子株式会社