蚀刻膏组成物及其应用的制作方法
【专利摘要】本发明涉及蚀刻膏组成物及其应用。一种蚀刻膏组成物，包含：含氟化合物(A)；溶剂(B)，包括芳香醇类溶剂(B-1)、水(B-2)及其他溶剂(B-3)；微粒(C)，选自于聚合物微粒(C-1)、无机化合物微粒(C-2)，或前述的组合；有机增稠剂(D)；及酸(E)，选自于有机酸(E-1)、无机酸(E-2)，或前述的组合。本发明另提供一种蚀刻方法，是将前述的蚀刻膏组成物丝网印刷于触控面板的基板的氧化硅层或氮化硅层上，然后进行蚀刻步骤及清洗步骤。该蚀刻膏组成物经时稳定性良好，适用于丝网印刷的操作。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种蚀刻膏组成物，特别是指一种适用于丝网印刷的蚀刻膏组成物。 蚀刻膏组成物及其应用
【背景技术】
[0002] 触控面板、薄膜晶体管或太阳能电池的结构中，常通过化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD)或湿式化学涂布等方式，借以形成氧化娃或氮化娃层，在多数情况 下，作为抗反射层或钝化层的使用。
[0003] 移除氧化硅或氮化硅层的特定部分的步骤称为蚀刻，现有技术包括采用激光支持 蚀刻法（laser-supported etching method),或在光阻形成掩膜图案后，通过湿式蚀刻法 (wet-chemical method)或干式蚀刻法（dry-etching method)选择性地进行蚀刻。
[0004] 就激光支持蚀刻法来说，虽具有高度精密性，但其逐点逐行地扫描蚀刻图案的工 作方式需要大量的工作时间，不利于工业上量产。干式蚀刻法或湿式蚀刻法，需先使用光阻 制作出掩膜图案，然后，干式蚀刻法是于真空装置中予以电浆蚀刻或利用反应性气体在流 动反应器中蚀刻，制程复杂且设备昂贵，而湿式蚀刻法则是以具有蚀刻活性的化学药剂浸 泡并蚀刻出图案，最后将光阻掩膜图案以溶剂剥除，并于清水冲洗后干燥。
[0005] JP2012-129346公开一种蚀刻剂组成物，特别适用于蚀刻氧化铟系被膜，是由含有 下述成分的水溶液所构成：(A) 2-羟基乙磺酸或其盐依2-羟基乙磺酸换算为5?20wt% ;以 及（B)从氢氟酸、氟化铵、氟化钾、氟化钠及氟化锂所构成群组中选择的至少1种氟化化合 物0. 05?5wt%。但湿式蚀刻法相当耗时且复杂，所用的化学原料更具有毒性及高腐蚀性。
[0006] 目前有更高度自动化且更高产量的作法，是通过印刷技术将蚀刻膏转移至待蚀刻 的表面并进行蚀刻，不需要进行光阻掩膜图案的制作步骤，例如移印方法、压印方法、喷墨 印刷方法，或手动印刷等。
[0007] 由上述可知，就经济效益来说，一种适用于印刷技术且质量良好的蚀刻膏组成物， 是有迫切需求的。
【发明内容】
[0008] 本发明的第一目的在于提供一种适用于丝网印刷且经时稳定性佳的蚀刻膏组成 物。
[0009] 本发明蚀刻膏组成物，包含：
[0010] 含氟化合物（A);
[0011] 溶剂（B)，包括芳香醇类溶剂（B-1)、水（B-2)及其他溶剂（B-3);
[0012] 微粒（C)，选自于聚合物微粒（C-1)、无机化合物微粒（C-2)，或前述的组合；
[0013] 有机增稠剂（D);及
[0014] 酸（E)，选自于有机酸（E-1)、无机酸（E-2)，或前述的组合。
[0015] 本发明蚀刻膏组成物，以该含氟化合物（A)为100重量份计，该溶剂（B)的用量为 350至2000重量份，该微粒（C)的用量为300至2000重量份，该有机增稠剂⑶的用量为 10至200重量份，该酸（E)的用量为30至600重量份。
[0016] 本发明蚀刻膏组成物，以该含氟化合物（A)为100重量份计，该芳香醇类溶剂 (B-1)的用量为100至500重量份，水（B-2)的用量为50至300重量份，其他溶剂（B-3)的 用量为200至1200重量份。
[0017] 本发明蚀刻膏组成物，该含氟化合物（A)是至少一种选自于由下列所构成群组的 化合物：氟化氢铵、氟化铵、氟化氢钠、氟化钠、氟化氢钾、氟化钾、氟化钡，及氟硼酸铵。
[0018] 本发明蚀刻膏组成物，该芳香醇类溶剂（B-1)是至少一种选自于下列所构成群组 的化合物：苯甲醇、（2-羟基苯基）甲醇、（甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二羟基苯基）甲醇、 4_(羟甲基）苯-1，2-二醇、（4-羟基-3-甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二甲氧基苯基）甲 醇、（4_异丙基苯基）甲醇、2-苯乙醇、1-苯乙醇、2-苯基-1-丙醇、对甲苯基醇、2-(4-羟 基-3-甲氧基苯基）甲烷-1-醇、2-(3, 4-二甲氧基苯基）甲烷-1-醇、3-苯基-丙烷-1-醇、 2-苯基-丙烷-2-醇、肉桂醇、3-(4-羟基-3-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、3-(4-羟 基-3, 5-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、联苯甲醇、三苯甲醇、1，2-联苯甲烷-1，2-二醇、 1，1，2, 2-四苯基甲烷-1，2-二醇、苯-1，2-二甲醇、苯-1，3-二甲醇，及苯-1，4-二甲醇。
[0019] 本发明蚀刻膏组成物，该其他溶剂（B-3)是至少一种选自于由下列所构成群组的 溶剂：不具芳香基的醇类溶剂、醚类溶剂、羧酸的酯类溶剂，及酮类溶剂。
[0020] 本发明蚀刻膏组成物，该聚合物微粒（C-1)是至少一种选自于由下列所构成群组 的聚合物：聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯酸、聚酰胺、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸酯、三聚氰胺、氨 基甲酸酯、苯并鸟嘌呤、酚醛树脂、聚硅氧烷树脂、氟化聚合物，微粉化纤维素，及微粉化蜡。
[0021] 本发明蚀刻膏组成物，该无机化合物微粒（C-2)是至少一种选自于由下列所构成 群组的化合物：氧化铝、氟化钙、氧化硼、氧化钛、氧化锆、氯化钾、氯化镁、氯化钙，及氯化 钠。
[0022] 本发明蚀刻膏组成物，该有机增稠剂（D)是至少一种选自于由下列所构成群组的 化合物：水溶性纤维素醚、多糖及水溶性聚合物。
[0023] 本发明的另一目的在于提供一种蚀刻方法。
[0024] 本发明蚀刻方法，包含：
[0025] 提供触控面板，其包括基板，以及设置于该基板上的氧化硅层或氮化硅层；
[0026] 将如前所述的蚀刻膏组成物丝网印刷于该氧化硅层或氮化硅层上；
[0027] 进行蚀刻步骤；及
[0028] 进行清洗步骤。
[0029] 本发明的有益效果在于：该蚀刻膏组成物，通过含有特定成分及比例的溶剂调控 其挥发性和均匀程度，后续应用于丝网印刷时，粘度经时稳定性良好，且不易有塞网的情形 发生。
【具体实施方式】
[0030] 本发明蚀刻膏组成物，包含：
[0031] 含氟化合物（A);
[0032] 溶剂（B)，包括芳香醇类溶剂（B-1)、水（B-2)及其他溶剂（B-3);
[0033] 微粒（C)，选自于聚合物微粒（C-1)、无机化合物微粒（C-2)，或前述的组合；
[0034] 有机增稠剂（D);及
[0035] 酸（E)，选自于有机酸（E-1)、无机酸（E-2)，或前述的组合。
[0036] 该蚀刻膏组成物通过溶剂组成的调节，可以控制该蚀刻膏组成物的挥发性和均匀 程度，后续应用于丝网印刷时，具有经时稳定性佳且不塞网的优点。
[0037] 以该含氟化合物（A)为100重量份计，该溶剂（B)的用量为350至2000重量份， 该微粒（C)的用量为300至2000重量份，该有机增稠剂⑶的用量为10至200重量份，该 酸（E)的用量为30至600重量份。
[0038] 较佳地，以该含氟化合物（A)为100重量份计，该溶剂⑶的用量为450至1800 重量份，该微粒（C)的用量为400至1800重量份，该有机增稠剂（D)的用量为15至180重 量份，该酸（E)的用量为40至550重量份。
[0039] 更佳地，以该含氟化合物（A)为100重量份计，该溶剂⑶的用量为500至1500 重量份，该微粒（C)的用量为500至1500重量份，该有机增稠剂（D)的用量为20至150重 量份，该酸（E)的用量为50至500重量份。
[0040] 该芳香醇类溶剂（B-ι)因为挥发性低，能调节该蚀刻膏组成物的粘度并减少因溶 剂挥发所造成的粘度改变；若未使用，则会有粘度经时稳定性不佳以及丝网印刷时塞网等 问题产生。若未使用水（B-2)，该蚀刻膏组成物于使用时可能有塞网的问题产生。若未使用 其他溶剂（B-3)，则会有经时粘度稳定性不佳的问题。
[0041] 以该含氟化合物（A)为100重量份计，该芳香醇类溶剂（B-1)的用量为100至500 重量份，水（B-2)的用量为50至300重量份，其他溶剂（B-3)的用量为200至1200重量份。
[0042] 较佳地，该含氟化合物（A)为100重量份计，该芳香醇类溶剂（B-1)的用量为150 至450重量份，水（B-2)的用量为60至270重量份，其他溶剂（B-3)的用量为250至1000 重量份。
[0043] 更佳地，以该含氟化合物（A)为100重量份计，该芳香醇类溶剂（B-1)的用量为 200至400重量份，水（B-2)的用量为70至250重量份，其他溶剂（B-3)的用量为300至 800重量份。
[0044] 该含氟化合物（A)是至少一种选自于由下列所构成群组的化合物：氟化氢铵 (Ammonium bifluoride)、氟化铵（Ammonium fluoride)、氟化氢钠 （Sodium bifluoride) > 氟化钠 （Sodium fluoride)、氟化氢钾（Potassium bifluoride)、氟化钾（Potassium fluoride)、氟化钡（Barium fluoride)，及氟硼酸铵（Ammonium Fluoborate)。
[0045] 较佳地，该含氟化合物（A)是至少一种选自于由下列所构成群组的化合物：氟化 氢铵、氟化氢钠及氟化钡。
[0046] 该芳香醇类溶剂（B-1)是至少一种选自于下列所构成群组的化合物：苯甲 醇、（2-羟基苯基）甲醇、（甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二羟基苯基）甲醇、4_(羟甲基） 苯-1，2-二醇、（4-羟基-3-甲氧基苯基）甲醇、（3, 4-二甲氧基苯基）甲醇、（4-异丙基 苯基）甲醇、2-苯乙醇、1-苯乙醇、2-苯基-1-丙醇、对甲苯基醇、2-(4-羟基-3-甲氧基苯 基）甲烷-1-醇、2_(3, 4-二甲氧基苯基）甲烷-1-醇、3-苯基-丙烷-1-醇、2-苯基-丙 烷-2-醇、肉桂醇、3-(4-羟基-3-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、3-(4-羟基-3, 5-甲氧基 苯基）丙_2_烯-1-醇、联苯甲醇、二苯甲醇、1，2-联苯甲烧-1，2-二醇、1，1，2, 2-四苯基 甲烷-1，2-二醇、苯-1，2-二甲醇、苯-1，3-二甲醇，及苯-1，4-二甲醇。
[0047] 较佳地，该芳香醇类溶剂（B-1)是至少一种选自于下列所构成群组的化合物：苯 甲醇、（2-羟基苯基）甲醇及（4-异丙基苯基）甲醇。
[0048] 该其他溶剂（B-3)是至少一种选自于由下列所构成群组的溶剂：不具芳香基的醇 类溶剂、醚类溶剂、羧酸的酯类溶剂，及酮类溶剂。
[0049] 该不具芳香基的醇类溶剂是至少一种选自于由下列所构成群组的溶剂：丙三 醇、1,2-丙二醇、1，4_ 丁二醇、1,3-丁二醇、1,5-戊二醇、2-乙基-1-己烯醇、乙二醇、 二乙二醇、二丙二醇、甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、戊醇、1-十六醇、1，2, 3,4_ 丁四醇、 丙-2-烯-1-醇、2-丙炔-1-醇、3, 7-二甲基庚-2, 6-二烯-1-醇、木糖醇，及甘露醇。
[0050] 该醚类溶剂是至少一种选自于由下列所构成群组的溶剂：四氢呋喃、乙二醇单丁 醚、三乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单甲醚、乙 二醇单乙醚、乙二醇丁醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇单甲醚、 二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲乙醚、二丙二醇单乙醚、二 丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇甲乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单 丙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯、丙二醇丁 醚醋酸酯、丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯，及丙二醇丁醚丙酸 酯。
[0051] 该羧酸的酯类溶剂是至少一种选自于由下列所构成群组的溶剂：2-(2-正丁氧基 乙氧基）乙酸乙酯、碳酸丙烯酯、丁内酯、戊内酯、戊内酯、乙酸甲酯、乙酸乙 酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙 酸乙酯、羟乙酸甲酯、羟乙酸乙酯、羟乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羟基丙酸 甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸丙酯、3-羟基丙酸丁酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲 氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧 基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基 乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、3-甲氧基 丁基乙酸酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁 酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2- 丁 氧基丙酸甲酯、2- 丁氧基丙酸甲酯、2- 丁氧基丙酸乙酯、2- 丁氧基丙酸丙酯、2- 丁氧基丙 酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、 3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧 基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲 酯、3- 丁氧基丙酸乙酯、3- 丁氧基丙酸丙酯，及3- 丁氧基丙酸丁酯等。
[0052] 该酮类溶剂是至少一种选自于由下列所构成群组的溶剂：苯乙酮、甲基-2-己酮、 2_辛酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、1-甲基-2-吡咯啶酮、甲乙酮、环己酮、环庚酮、氮-甲 基吡咯烷酮、2-庚酮、3-庚酮，及二丙酮醇。
[0053] 较佳地，该其他溶剂（B-3)是至少一种选自于由下列所构成群组的溶剂：乙二醇、 乙二醇单丁醚，及碳酸丙烯酯。
[0054] 该聚合物微粒（C-1)是至少一种选自于由下列所构成群组的聚合物：聚乙烯、聚 苯乙烯、聚丙烯酸、聚酰胺、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸酯、三聚氰胺、氨基甲酸酯、苯并鸟嘌 呤、酚醒树脂、聚娃氧烧树脂、氟化聚合物（例如聚四氟乙烯（Poly-tetrafluoroethylene) 或聚偏氟乙烯（Polyvinylidene fluoride))，微粉化纤维素及微粉化錯（micronised wax);其中，该聚乙烯的市售商品例如Dupont公司出品的"Coathylene ΗΧ168Γ'。较佳地， 该聚合物微粒（C-1)是聚四氟乙烯、聚乙烯，或酚醛树脂。
[0055] 较佳地，该无机化合物微粒（C-2)是至少一种选自于由下列所构成群组的化合 物：氧化铝、氟化钙、氧化硼、氧化钛、氧化锆、氯化钾、氯化镁、氯化钙，及氯化钠。
[0056] 更佳地，该无机化合物微粒（C-2)是氟化钙、氧化铝，或氧化硼。
[0057] 该聚合物微粒（C-1)的粒径范围为10nm至3000nm，较佳地，该聚合物微粒（C-1) 的粒径范围为l〇〇nm至2000nm，更佳地，该聚合物微粒（C-1)的粒径范围为500nm至 1500nm〇
[0058] 该无机化合物微粒（C-2)的粒径范围为10nm至3000nm，较佳地，该无机化合物微 粒（C-2)的粒径范围为100nm至2000nm，更佳地，该无机化合物微粒（C-2)的粒径范围为 500nm 至 1500nm。
[0059] 上述聚合物微粒（C-1)及该无机化合物微粒（C-2)有助于提升该蚀刻膏组成物的 蚀刻速率及蚀刻深度。
[0060] 该有机增稠剂（D)是至少一种选自于由下列所构成群组的化合物：水溶性纤维素 醚、多糖及水溶性聚合物。
[0061] 该水溶性纤维素醚选自于：烷基纤维素，例如纤维素、甲基纤维素，或乙基纤维素 等；羟烷基纤维素，例如羟丙基甲基纤维素、羟乙基纤维素，或羟丙基纤维素等；或是羧烷 基纤维素，例如羧甲基纤维素等。
[0062] 该多糖选自于壳聚醣、藻酸、瓜耳胶、黄原胶，或鼠李聚糖胶（Rhamsan Gum)。
[0063] 该水溶性聚合物选自于聚乙烯醇、聚乙烯批咯烧酮（polyvinylpyrrolidone)。
[0064] 较佳地，该有机增稠剂（D)选自于纤维素、聚乙烯吡咯烷酮，或壳聚醣。
[0065] 该有机酸（E-1)具有Q至C1(l的直链或支链烷基，且是至少一种选自于由下列所 构成群组的酸：烷基羧酸、羟基羧酸及二羧酸。
[0066] 该有机酸（E-1)是至少一种选自于由下列所构成群组的酸：草酸、甲酸、乙酸、丙 酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、柠檬酸、一氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、三氟 乙酸、及乳酸。较佳地，该有机酸（E-1)选自于甲酸、乙酸、或乳酸。
[0067] 该无机酸（E-2)是至少一种选自于由下列所构成群组的酸：氢氯酸、氢溴酸、氢碘 酸、亚磷酸、次磷酸、磷酸、硫酸、亚硫酸、硼酸、偏硼酸，及硝酸。
[0068] 较佳地，该无机酸（E-2)选自于硝酸、磷酸，或硫酸。
[0069] 该蚀刻膏组成物的粘度范围为1至500Pa *s，较佳地，该蚀刻膏组成物的粘度范围 为3至300Pa · s，更佳地，该蚀刻膏组成物的粘度范围为5至200Pa · s。
[0070] 该蚀刻膏组成物的制备方法是将含氟化合物（A)、溶剂（B)、微粒（C)、有机增稠剂 (D)及酸（E)彼此混合，搅拌足够时间至形成具有触变性质的粘性糊状物。搅拌可以在15 至35 °C或升温至合适温度的情况下进行。
[0071] 本发明蚀刻方法，包含：
[0072] 提供触控面板，包括基板，以及设置于该基板上的氧化硅层或氮化硅层；
[0073] 将如前所述的蚀刻膏组成物丝网印刷于该氧化硅层或氮化硅层上；
[0074] 进行蚀刻步骤；及
[0075] 进行清洗步骤。
[0076] 该基板的材质并没有特别限制，一般的材质均可以适用。
[0077] 所谓氧化硅层，除了玻璃或石英的纯3102外，也包含所有基于Si02的系统，包含由 Si02离散和/或联结成Si04所构成的系统，也可以含有其他组分。由Si02离散和/或联 结成Si0 4所构成的系统可例如焦硅酸盐、双硅酸盐、环硅酸盐、链硅酸盐、页硅酸盐、网硅酸 盐，该其它组分例如钙、钠、铝、铅、锂、镁、钡、钾、硼、铍、磷、镓、砷、锑、镧、锌、钍、铜、铬、锰、 铁、钴、镍、钥、钒、钛、金、钼、钯、银、铈、铯、铌、钽、锆、钕、镨等元素，且所述元素不限于以氧 化物、碳酸盐、硝酸盐、磷酸盐、硫酸盐和/或卤化物的形式存在于Si0 2的系统中或作为掺 杂元素。
[0078] 所谓氮化硅层是指结晶及部分结晶（通常称为微晶）系统，包括a_Si3N 4及 β -Si3N4改质的Si3N4，及所有结晶及部分结晶的SiN x& SiNx:H。除了结晶的氮化硅还可以 包含其它元素，诸如硼、错、镓、铟、磷、砷或铺等。
[0079] 本发明蚀刻方法并不限于丝网印刷，所属【技术领域】具有通常知识者可以通过已知 的印刷方法，将该蚀刻膏组成物施加到待蚀刻区域上，例如通过移印方法、压印方法、喷墨 印刷方法，或手动印刷等。
[0080] 丝网印刷通过含有印刷模板的细目丝网或金属蚀刻丝网与该基板上氧化硅层或 氮化硅层的接触，而将该蚀刻膏组成物转移至该基板上氧化硅层或氮化硅层来进行该蚀刻 步骤。所用的丝网材质并没有特别限制，通常由塑料或金属丝制成。
[0081] 于应用时，该蚀刻膏组成物可以施加到整个区域，或以合适的方式选择性地施加 到待蚀刻的氧化硅层或氮化硅层表面上，例如使用已知的印刷方法选择性地施加到需要蚀 刻的区域。如果必要的话，可以输入能量来活化该蚀刻膏组成物，具体作法是将该蚀刻膏组 成物于能量下暴露10秒至15分钟，较佳地是暴露30秒至2分钟。该蚀刻膏组成物的蚀刻 温度范围为20至500°C，较佳地为25至400°C，更佳地为30至300°C。
[0082] 当整个区域或在选择性印刷区域中的蚀刻完成时，可以通过进一步加热进行掺 杂，或使用溶剂或混合溶剂洗去用过的蚀刻膏组成物，或通过加热将用过的蚀刻膏组成物 烧除。较佳地，蚀刻完成后以水进行清洗。
[0083] 本发明将就以下实施例来作进一步说明，但应了解的是，该实施例仅为例示说明 用，而不应被解释为本发明实施的限制。
[0084] <实施例1至9及比较例1至6 >
[0085] [实施例1]
[0086] 在1升的聚丙烯杯中，于15至35°C下，加入100重量份的氟化氢铵（A-1)、100重量 份的（4-异丙基苯基）甲醇（B-l-3)、100重量份的水（B-2)、300重量份的乙二醇（B-3-1) 及30重量份的甲酸（E-1-1)均匀搅拌5分钟后，在一边搅拌的同时加入300重量份的聚四 氟乙烯（C-1-1)，并搅拌5分钟最后加入10重量份的纤维素（D-1)，于转速500rmp下搅拌 60分钟，即可制得实施例1的蚀刻膏组成物。
[0087] [实施例2至9及比较例1至6]
[0088] 实施例2至9及比较例1至6是以与实施例1相同的步骤来制备该蚀刻膏组成物， 不同的地方在于：改变化学品的种类及其使用量，该化学品的种类及其使用量如表1及表2 所示。
[0089] <检测项目>
[0090] 将实施例1至9及比较例1至6的蚀刻膏组成物进行下列检测，并将结果记录于 表1及表2。
[0091] 1.粘度经时稳定性测试
[0092] 于25°C下，以粘度机分别测量所述蚀刻膏组成物静置前的粘度，记为μ i，然后将 所述蚀刻膏组成物静置180分钟，再分别以粘度机测定静置后的粘度，记为μ 2，并依下列公 式计算粘度变化率，借以评价所述蚀刻膏组成物的粘度经时稳定性。
[0093] 粘度变化率=| μ 2 - μ ! | / μ ! X 100%
[0094] 〇：粘度变化率〈10%
[0095] X :粘度变化率彡10%
[0096] 2.塞网测试
[0097] 将配制好的蚀刻膏组成物，分别使用网印机（东远科技出品，型号ΑΤ-45ΡΑ)配合 网目数180目/cm 2的网版于15至35°C下进行网印测试，该网版上具有500 μ m线宽的印刷 图样，于重复五次印刷后，观察印刷图样是否有蚀刻膏残留的塞网情况发生。
[0098] 〇：无蚀刻膏残留 [0099] X :有蚀刻膏残留 [0100]表 1
[0101]
【权利要求】
1. 一种蚀刻膏组成物，其特征在于，其包含： 含氟化合物（A); 溶剂（B)，包括芳香醇类溶剂（B-1)、水（B-2)及其他溶剂（B-3); 微粒（C)，选自于聚合物微粒（C-1)、无机化合物微粒（C-2)，或前述的组合； 有机增稠剂（D);及 酸（E)，选自于有机酸（E-1)、无机酸（E-2)，或前述的组合。
2. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，以该含氟化合物（A)为100重量 份计，该溶剂（B)的用量为350至2000重量份，该微粒（C)的用量为300至2000重量份， 该有机增稠剂（D)的用量为10至200重量份，该酸（E)的用量为30至600重量份。
3. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，以该含氟化合物（A)为100重量 份计，该芳香醇类溶剂（B-1)的用量为100至500重量份，水（B-2)的用量为50至300重 量份，其他溶剂（B-3)的用量为200至1200重量份。
4. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，该含氟化合物（A)是至少一种选 自于由下列所构成群组的化合物：氟化氢铵、氟化铵、氟化氢钠、氟化钠、氟化氢钾、氟化钾、 氟化钡，及氟硼酸铵。
5. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，该芳香醇类溶剂（B-1)是至少 一种选自于下列所构成群组的化合物：苯甲醇、（2-羟基苯基）甲醇、（甲氧基苯基）甲醇、 (3, 4-二羟基苯基）甲醇、4-(羟甲基）苯-1，2-二醇、（4-羟基-3-甲氧基苯基）甲醇、 (3, 4-二甲氧基苯基）甲醇、（4-异丙基苯基）甲醇、2-苯乙醇、1-苯乙醇、2-苯基-1-丙 醇、对甲苯基醇、2-(4-羟基-3-甲氧基苯基）甲烷-1-醇、2-(3, 4-二甲氧基苯基）甲 烷-1-醇、3-苯基-丙烷-1-醇、2-苯基-丙烷-2-醇、肉桂醇、3-(4-羟基-3-甲氧基苯 基）丙-2-烯-1-醇、3- (4-羟基-3, 5-甲氧基苯基）丙-2-烯-1-醇、联苯甲醇、三苯甲醇、 1，2_联苯甲烧_1，2_二醇、1，1，2, 2_四苯基甲烧_1，2_二醇、苯_1，2_二甲醇、苯_1，3_二 甲醇，及苯-1，4-二甲醇。
6. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，该其他溶剂（B-3)是至少一种选 自于由下列所构成群组的溶剂：不具芳香基的醇类溶剂、醚类溶剂、羧酸的酯类溶剂，及酮 类溶剂。
7. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，该聚合物微粒（C-1)是至少一种 选自于由下列所构成群组的聚合物：聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯酸、聚酰胺、聚酰亚胺、聚甲 基丙烯酸酯、三聚氰胺、氨基甲酸酯、苯并鸟嘌呤、酚醛树脂、聚硅氧烷树脂、氟化聚合物，微 粉化纤维素，及微粉化蜡。
8. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，该无机化合物微粒（C-2)是至少 一种选自于由下列所构成群组的化合物：氧化铝、氟化钙、氧化硼、氧化钛、氧化锆、氯化钾、 氯化镁、氯化钙，及氯化钠。
9. 根据权利要求1所述的蚀刻膏组成物，其特征在于，该有机增稠剂（D)是至少一种选 自于由下列所构成群组的化合物：水溶性纤维素醚、多糖及水溶性聚合物。
10. -种蚀刻方法，其特征在于，其包含： 提供触控面板，其包括基板，以及设置于该基板上的氧化硅层或氮化硅层； 将根据权利要求1至9中任一项所述的蚀刻膏组成物丝网印刷于该氧化硅层或氮化硅 层上； 进行蚀刻步骤；及 进行清洗步骤。
【文档编号】H01L21/306GK104119921SQ201410157734
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年4月18日 优先权日:2013年4月29日
【发明者】刘骐铭, 施俊安 申请人:奇美实业股份有限公司