技术总结
本发明涉及一种半导体制作技术领域，尤其涉及一种连续型非晶硅薄膜处理系统，包括：激光模块，第二光学镜片，第一光学镜片，激光模块发射激光光束；第二光学镜片，设置于非晶硅薄膜的上方，第一光学镜片，临近第二光学镜片设置于非晶硅薄膜的上方；通过第二光学镜片对非晶硅薄膜表面进行预处理，该预处理不会使得非晶硅薄膜表面晶化，但是会在非多晶薄膜表面以下0.25μm深度造成损失。再通过第一光学镜片进行晶化处理，第一光学镜片的激光光束能经过预处理的非多晶薄膜进行均匀晶化处理。
技术研发人员：许修齐;王仁宏
受保护的技术使用者：上海和辉光电有限公司
文档号码：201510834067
技术研发日：2015.11.25
技术公布日：2017.05.31