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晶片抛光装置以及使用其的晶片抛光方法与流程
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来源:国知局
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晶片抛光装置以及使用其的晶片抛光方法与流程
技术特征:
技术总结
实施例包括:下板;上板,被布置在所述下板上并转动;载体,接纳晶片并被布置在所述下板上;以及传感器单元,用于向所述载体内所接纳的所述晶片辐射光,检测所述晶片所反射的光,并根据检测结果输出检测数据,其中,所述传感器单元与所述上板一起转动。
技术研发人员:
朴禹植
受保护的技术使用者:
LG矽得荣株式会社
技术研发日:
2015.06.17
技术公布日:
2017.09.26
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