技术总结
本发明提供了一种形成图案的方法、磁性存储器装置及其制造方法。所述形成图案的方法包括步骤：在衬底上形成蚀刻目标层；将蚀刻目标层图案化以形成图案；利用从第一离子源产生的第一离子束在图案的侧壁上形成绝缘层；以及利用从第二离子源产生的第二离子束去除绝缘层，其中第一离子源和第二离子源中的每一个包括绝缘源，并且其中绝缘源包括氧或氮中的至少一个。
技术研发人员：郑大恩;宋胤宗;申贤哲
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
文档号码：201610318799
技术研发日：2016.05.13
技术公布日：2016.11.23