1.一种基板处理装置，其用于对基板供给流体来对该基板进行处理，所述基板处理装置的特征在于，包括：
测定用的流路部，其为要供给到所述基板的流体的多个供给路径各自的一部分，构成流体中的异物的测定区域，彼此排成列地设置；
光照射部，其共用于所述多个流路部，用于在所述流路部形成光路；
移动机构，其为了在所述多个流路部中所选择的流路部内形成光路，使所述光照射部沿着所述流路部的排列方向相对移动；
受光部，其包括用于接收透射所述流路部的光的受光元件；和
检测部，其用于基于从所述受光元件输出的信号检测所述流体中的异物。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：
所述光照射部和受光部分别包括光照射用的光学系统和受光用的光学系统，
所述光照射用的光学系统和受光用的光学系统共用于所述多个流路部，
所述移动机构使所述光照射用的光学系统和受光用的光学系统沿着所述流路部的排列方向相对移动。
3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于：
在所述多个流路部中的一个流路部和其他流路部中流过折射率彼此不同的流体，
设置有透镜移位机构，其按照流体的折射率使所述光照射用的光学系统所包含的聚光透镜和所述受光用的光学系统所包含的受光用透镜在所述光路的方向上移位。
4.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于：
在所述多个流路部中的一个流路部和其他流路部中流过折射率彼此不同的流体，
所述光照射部包括焦距按照流体的折射率彼此不同的多个聚光透镜，
所述受光部包括焦距按照流体的折射率彼此不同的多个受光用透镜。
5.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于：
在沿所述测定用的流路部的排列方向的位置设置有试验用的流路部，该试验用的流路部为以预先设定的比率含有试验用颗粒的试验用流体的流路的一部分，构成所述试验用流体中的所述试验用颗粒的测定区域，
所述光照射部有选择地在所述测定用的流路部和所述试验用的流路部中的任一者形成所述光路，
当由所述光照射部在所述试验用的流路部形成光路时，基于从所述受光元件输出的信号，所述检测部检测所述测定用的流路部的流路中的异物。
6.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于：
设置有多个由所述多个流路部、所述光照射部、所述移动机构和所述受光部构成的组，
在各组设置有：
共用的光源；和
分束路径形成部，其为了将所述光源的光分束到各组而形成下游侧分支的光路。
7.一种基板处理方法，其用于对基板供给流体来对该基板进行处理，所述基板处理方法的特征在于，包括：
利用共用于测定用的流路部的光照射部在所述流路部形成光路的步骤，其中，所述测定用的流路部为要供给到所述基板的流体的多个供给路径各自的一部分，构成流体中的异物的测定区域，彼此排成列地设置；
为了在所述多个流路部中所选择的流路部内形成光路，利用移动机构使所述光照射部沿着所述流路部的排列方向相对移动的步骤；
由受光部所包含的受光元件接收透射所述流路部的光的步骤；和
基于从所述受光元件输出的信号，利用检测部检测所述流体中的异物的步骤。
8.如权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于：
所述光照射部和受光部分别包括光照射用的光学系统和受光用的光学系统，
所述光照射用的光学系统和受光用的光学系统共用于所述多个流路部，
所述基板处理方法包括利用所述移动机构使所述光照射用的光学系统和受光用的光学系统沿着所述流路部的排列方向相对移动的步骤。
9.如权利要求7或8所述的基板处理方法，其特征在于，包括：
使所述多个流路部中的一个流路部和其他流路部中流过折射率彼此不同的流体的步骤；和
利用透镜移位机构，按照流体的折射率使所述光照射用的光学系统所包含的聚光透镜和所述受光用的光学系统所包含的受光用透镜在所述光路的方向上移位的步骤。
10.如权利要求7或8所述的基板处理方法，其特征在于：
在沿所述测定用的流路部的排列方向的位置设置有试验用的流路部，该试验用的流路部为以预先设定的比率含有试验用颗粒的试验用流体的流路的一部分，构成所述试验用流体中的所述试验用颗粒的测定区域，
所述基板处理方法包括选择所述测定用的流路部和所述试验用的流路部中的任一者利用所述光照射部形成所述光路的步骤，
利用由所述检测部检测所述测定用的流路部的流体中的异物的步骤包括：基于在所述试验用的流路部形成光路时从所述受光元件输出的信号，检测所述测定用的流路部的流路中的异物的步骤。