基板处理装置和基板处理方法与流程

文档序号:12473778阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供在包括多个流体供给路径的基板处理装置中,当检测流过各供给路径的流体所包含的异物时能够防止装置的大型化和制造成本上升的技术。该基板处理装置包括:测定用的流路部,其为要供给到基板的流体的多个供给路径各自的一部分,构成流体中的异物的测定区域,彼此排成列地设置;光照射部,共用于上述多个流路部,用于在上述流路部形成光路;移动机构,为了在上述多个流路部中所选择的流路部内形成光路,使上述光照射部沿着上述流路部的排列方向相对移动;受光部,包括用于接收透射上述流路部的光的受光元件;和检测部,用于基于从上述受光元件输出的信号检测上述流体中的异物。由此,能够减小必要的光照射部的数量,并实现装置的缩小化。

技术研发人员:林圣人;野口耕平;饭塚建次;饭田成昭
受保护的技术使用者:东京毅力科创株式会社
文档号码:201610390357
技术研发日:2016.06.03
技术公布日:2016.12.21

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