一种有机发光显示装置及其制作方法与流程

本发明涉及一种有机发光半导体应用技术领域，尤其涉及一种有机发光显示装置及其制作方法。

背景技术：

OLED(有机发光显示器)等自发光器件具有自发光、视角广、寿命长、节能环保等特点，目前随着显示器与照明行业的迅速发展，OLED已成为重要的显示设计热点方向。

而由于受铟锡氧化物(ITO)与玻璃基底、有机发光结构内部各种功能层、玻璃基底与空气表面层的反射和折射等因素的影响，大约有80％的光子不能逸出至空气中，导致光子利用率低。为了提高器件的取光效率，研究者提出了许多方法，比如通过改变器件电极的结构，在OLED内部插入光提取层，或者在基底表面刻蚀各种微结构等。这些方法都可以在一定程度上提高OLED的取光效率，但过程复杂，在实际应用中难以实现，且改变内部结构或刻蚀容易影响OLED的本身性能。

技术实现要素：

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种有机发光显示装置及其制作方法，可以大幅提升器件的发光效率，且可大规模制作，成本低，具有重要的实际应用价值。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种有机发光显示装置，包括下基板、封装层、至少一层光提取层以及设于所述下基板和所述封装层之间的电极层、发光层和功能层，所述发光层上、下两侧均各设有一层所述电极层和一层所述功能层，且两层所述电极层将两层所述功能层夹设于其中；至少一层所述光提取层设于所述下基板和所述封装层之间或设于所述封装层外表面，所述光提取层内形成有微孔结构。

作为其中一种实施方式，所述光提取层的厚度为0.5～1.5um。

作为其中一种实施方式，所述封装层为多层，至少两层所述光提取层的微孔直径和/或数量不同。

作为其中一种实施方式，所述光提取层内微孔的直径为1～10nm。

作为其中一种实施方式，所述封装层内表面设有一层所述光提取层。

作为其中一种实施方式，所述下基板内表面设有一层所述光提取层。

作为其中一种实施方式，所述封装层外表面设有一层所述光提取层。

本发明的另一目的在于提供一种有机发光显示装置的制作方法，包括：

提供一玻璃基板；

在所述玻璃基板上制作一层氮化硅薄膜；

在所述氮化硅薄膜内制作微孔；

制作发光器件并封装。

作为其中一种实施方式，在所述氮化硅薄膜内制作微孔的步骤包括：

往所述氮化硅薄膜中注入惰性气体离子；

通过退火工艺使惰性气体离子析出形成微孔。

优选地，所述惰性气体离子为氦离子。

本发明在有机发光显示装置内设置有具有微孔结构的光提取层，并通过合理设置光提取层的设置位置，使得光线进入光提取层时会被里面的微孔重复散射，从而总体上减少了在该层处的内部反射，使更多的光线从发光器件从提取射出，因此可以大幅提升器件的发光效率，且可大规模制作，成本低，具有重要的实际应用价值。

附图说明

图1为本发明的其中一种有机发光显示装置的制作方法原理图。

图2为图1的制作过程示意图。

图3a为本发明实施例的第一种有机发光显示装置的结构示意图。

图3b为本发明实施例的第二种有机发光显示装置的结构示意图。

图3c为本发明实施例的第三种有机发光显示装置的结构示意图。

图3d为本发明实施例的第四种有机发光显示装置的结构示意图。

图3e为本发明实施例的第五种有机发光显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

参阅图1和图2，本发明的有机发光显示装置制作过程包括：

S01、提供一玻璃基板；

S02、在所述玻璃基板上制作一层氮化硅薄膜，这里优选使用化学气相沉积方法制作；

S03、在所述氮化硅薄膜内制作微孔；

S04、在所述氮化硅薄膜上进行OLED发光器件制作；

S05、对OLED发光器件进行封装。

由于在氮化硅中惰性气体的固溶度较小，作为其中一种较佳的实施方式，在所述氮化硅薄膜内制作微孔时，首先往所述氮化硅薄膜中注入一定量的惰性气体离子，然后通过退火工艺使惰性气体离子析出形成微孔。本实施例优选惰性气体离子为氦离子。其中诱生微孔的尺寸/形状可通过改变氮化硅致密程度、注入氦离子的浓度、退火时间、温度等条件改变微孔的尺寸大小以及数量分布。可以理解的是，在其他实施方式中，也可以使用其他惰性气体离子代替。通过以上制程制作的氮化硅薄膜层即为有机发光显示装置的光提取层，因光线进入光提取层时会被里面的微孔重复散射，从而总体上减少了在该层处的内部反射，可以使更多的光线从发光器件从提取出来。

以上仅为其中一种实施方式，用以示范性地给出光提取层的制作过程，本发明的有机发光显示装置并不限于此，通过改变该光提取层在有机发光显示装置中的放置位置，可以设计出多种放置组合，并且可以通过改变微孔尺寸分布和组合以形成不同特性的有机发光显示装置。

如图3a～3e为本发明应用该光提取层的的几种不同的有机发光显示装置。有机发光显示装置包括下基板10、封装层20、至少一层光提取层1和设于下基板10和封装层20之间的电极层30(即阴极、阳极)、发光层40和功能层50(即电子传输层、空穴传输层)，光提取层1内形成有微孔结构。其中光提取层1的厚度优选为0.5～1.5um，光提取层1内微孔的直径为1～10nm。电极层30具体包括金属阴极31和透明的ITO阳极32，功能层50具体包括电子传输层51和空穴传输层52，发光层40的上下两侧均设有一层电极层30和功能层50，即下基板10、封装层20、电极层30、发光层40、功能层50的位置顺序自下而上依次是：下基板10、金属阴极31、电子传输层51、发光层40、空穴传输层52、ITO阳极32、封装层20。光提取层1可根据实际需要选择性地位于封装层20内、封装层20外，或在封装层20内和封装层20外同时设置。当施加电压，阳极的空穴经空穴传输层52与阴极经电子传输层51传输的电子在有机发光层40结合时，则会激发有机材料而发光。

作为其中一种实施方式，光提取层1可以为多层，且至少两层光提取层1的微孔直径/或数量不同。

如图3a中，为在发光层40于封装层20之间设有一层光提取层1的情形。如图3b中，为在发光层40和下基板10之间设有一层光提取层1的情形。如图3c中，为在封装层20外表面设有一层光提取层1的情形。如图3d，为在封装层20与发光层40之间、发光层40与下基板10之间各设有一层光提取层1的情形。如图3e，为在封装层20内表面和外表面各设有一层光提取层1的情形。以上仅列举出了几种较佳的实施方式，可以理解的是，本发明的有机发光显示装置的结构并不限于此，而且光提取层的数量、尺寸和位置、光提取层内的微孔直径、密度也可以根据需要进行组合、调整，以满足不同需求。

综上所述，本发明在有机发光显示装置内设置有具有微孔结构的光提取层，并通过合理设置光提取层的设置位置，使得光线进入光提取层时会被里面的微孔重复散射，从而总体上减少了在该层处的内部反射，使更多的光线从发光器件从提取射出，因此可以大幅提升器件的发光效率，且可大规模制作，成本低，具有重要的实际应用价值。

以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。