柔性显示装置及制造方法与流程

技术特征：

1.一种柔性显示装置，依次包括柔性基板、缓冲层、显示单元和薄膜封装层，其特征在于：

所述缓冲层和/或薄膜封装层包括含有自修复高分子材料的自修复层。

2.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述缓冲层和所述薄膜封装层均包括所述自修复层，所述缓冲层和所述薄膜封装层中的所述自修复层由相同或不同材料形成。

3.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述自修复层由包括外援型和本征型自修复高分子材料中的至少一种的材料形成。

4.根据权利要求3所述的柔性显示装置，其特征在于，所述本征型自修复高分子材料包含动态共价结构、可逆双硫键结构、可逆氢键结构和/或π-π堆叠结构。

5.根据权利要求4所述的柔性显示装置，其特征在于，所述本征型高分子材料包含可逆氢键结构的高分子材料。

6.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述自修复层包括包含可逆氢键结构的高分子材料基体和表面经过酰胺化修饰的六方氮化硼纳米片的复合材料。

7.根据权利要求6所述的柔性显示装置，其特征在于，所述包含可逆氢键结构的高分子材料基体为由二乙烯三胺和脂肪二酸和脂肪三酸的混合物缩聚形成。

8.根据权利要求7所述的柔性显示装置，其特征在于，所述脂肪二酸为式(2)所示化合物，和/或所述脂肪三酸为式(3)所示化合物，

9.根据权利要求6所述的柔性显示装置，其特征在于，所述复合材料中所述六方氮化硼纳米片的体积百分含量为2.5-10％。

10.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述缓冲层依次包括自修复层、氮化硅层和氧化硅层。

11.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述显示单元包括低温多晶硅层和堆叠在所述低温多晶硅层上的有机发光二极管器件层。

12.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述薄膜封装层依次包括第一自修复层、有机层或无机层、和/或第二自修复层。

13.根据权利要求12所述的柔性显示装置，其特征在于，所述第一自修复层和所述第二自修复层由相同或不同材料形成。

14.根据权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述自修复层的厚度为1-15μm。

15.一种权利要求1所述柔性显示装置的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

制备柔性基板；

在所述柔性基板上形成缓冲层，所述缓冲层包括显示区域和封装区域；

在所述缓冲层的显示区域上形成显示单元；以及

在所述显示单元和所述缓冲层的封装区域上形成薄膜封装层，将所述显示单元封装于所述缓冲层和所述薄膜封装层之间。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述形成缓冲层步骤包括：

在所述柔性基板上均匀涂覆包含自修复高分子材料的溶液，固化形成自修复层。

17.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述形成薄膜封装层步骤包括：

在所述显示单元和所述缓冲层的封装区域上均匀涂覆包括自修复高分子的溶液，固化形成第一自修复层。

18.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述形成薄膜封装层步骤还包括：

在所述第一自修复层上形成有机层或无机层；和/或

在所述有机层或无机层上均匀涂覆包括自修复高分子的溶液，固化形成第二自修复层。