技术特征：
技术总结
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种半导体器件及其制备方法、显示装置，通过在第二金属层与有机光阻层之间设置一层缓冲层，该缓冲层与第二金属层与有机光阻层均有较好的附着力，从而解决了第二金属层与有机光阻层之间附着力较差的问题，进而避免了第二金属层与有机光阻层之间发生剥离的现象；同时该缓冲层与第二金属层可采用同一道光罩形成，从而减少了成本与工艺的复杂程度。
技术研发人员：储培鸣;杨靖哲;商金栋;林信安
受保护的技术使用者：上海和辉光电有限公司
技术研发日：2016.12.26
技术公布日：2018.07.03