1.一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，其特征在于光伏硅片经扩散散后有蓝黑点，进一步判断该蓝黑点是否已经刻蚀和镀膜工序变成白点；
若扩散后有蓝黑点，对此类光伏硅片进行如下处理：
s101、返工片准备；
s102、去除扩散后的氧化层：采用槽式制绒机，在第一个氢氟酸槽配置5％～8％摩尔浓度的氢氟酸溶液，返工片浸泡5分钟以上；
s103、去除蓝黑点：在第二个氢氟酸槽中配置氢氟酸与双氧水混合溶液，其中：氢氟酸的摩尔浓度为15％～20％，双氧水的摩尔浓度为10％～12％；将步骤s102处理后的返工片在该混合溶液中浸泡15分钟以上；
s104、将步骤s103处理后的返工片放入第一个氢氟酸槽中浸泡3分钟以上；
s105、水洗和烘干后得到干净的光伏硅片；
若镀膜后产生白点，对此类光伏硅片进行如下处理：
s201、返工片准备；
s202、去除镀膜后的氮化硅层：采用槽式制绒机，在第一个氢氟酸槽配置15％～20％摩尔浓度的氢氟酸溶液，浸泡20分钟以上；
s203、去除蓝黑点：在第二个氢氟酸槽中配置氢氟酸与双氧水混合溶液，其中：氢氟酸的摩尔浓度为15％～20％，双氧水的摩尔浓度为10％～12％；将步骤s202处理后的返工片在该混合溶液中浸泡15分钟以上；
s204、将步骤s203处理后的返工片放入第一个氢氟酸槽中浸泡3分钟以上；
s205、水洗和烘干后得到干净的光伏硅片。
2.根据权利要求1所述的一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，其特征在于步骤s102中：第一个氢氟酸槽中氢氟酸的摩尔浓度为5％，步骤s102的返工片浸泡时间为5分钟。
3.根据权利要求1所述的一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，其特征在于步骤s103中：第二个氢氟酸槽中氢氟酸的摩尔浓度为15％，双氧水的摩尔浓度为10％，步骤s103的返工片浸泡时间为15分钟。
4.根据权利要求1所述的一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，其特征在于步骤s104的返工片浸泡时间为3分钟。
5.根据权利要求1所述的一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，其特征在于步骤s202中：第一个氢氟酸槽中氢氟酸的摩尔浓度为15％，步骤s202的返工片浸泡时间为20分钟。
6.根据权利要求1所述的一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，其特征在于步骤s203中：第二个氢氟酸槽中氢氟酸的摩尔浓度为15％，双氧水的摩尔浓度为10％，步骤203的返工片浸泡时间为15分钟。
7.根据权利要求1所述的一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，其特征在于步骤s204的返工片浸泡时间为3分钟。