技术总结
本发明公开了一种光伏硅片扩散后蓝黑点的去除方法，先将扩散后的有蓝黑点的硅片或镀膜后有白点的需要返工的硅片先用氢氟酸去除表面的扩散的氧化层或镀膜的氮化硅层，再将去除干净的硅片浸泡在双氧水、氢氟酸和和水的混合液中浸泡一段时间，双氧水会氧化硅片表面形成氧化硅，氧化硅再与氢氟酸反应，反应会去除硅片表面很薄的一层硅，可以将烧焦点去除干净且不破坏绒面。再经过氢氟酸清洗、水洗和烘干后进行扩散、刻蚀、镀膜和印刷烧结，制成电池片。基于本发明的方法，不影响第一次的制绒效果，不会造成绒面不良；且硅片厚度基本没有变化，不会增加碎片率。
技术研发人员：钱明明;王丹萍;蒋志强;陈克;彭彪;万柳斌
受保护的技术使用者：东方环晟光伏（江苏）有限公司
文档号码：201611234486
技术研发日：2016.12.28
技术公布日：2017.06.13