技术特征:
技术总结
本发明提供了一种承载装置,用于承载且固定被加工工件,承载装置包括导电层、和叠置于导电层上的绝缘层,绝缘层包括中心体、环形边缘体和凹槽体;在中心体的上表面上设置有凹部,凹部用于放置凹槽体;凹槽体上设置有用于与气源相连的气体凹槽;环形边缘体环绕中心体的侧壁设置;环形边缘体的导热率小于中心体的导热率,和/或,中心体的导热率小于凹槽体的导热率。本发明还提供了一种包括本发明提供的承载装置的工艺腔室。本发明的承载装置和工艺腔室可以提高被加工工件的温度均匀性,从而可以提高工艺均匀性(例如,刻蚀均匀性)。
技术研发人员:王伟
受保护的技术使用者:北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日:2017.02.17
技术公布日:2018.08.28