一种用于钽电容器的有序孔阵列阳极钽箔及其制备方法与流程

文档序号:12787975阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于钽电容器的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:包括片状结构的钽片层,在所述钽片层的至少一个表面一体化形成有有序孔阵列。

2.根据权利要求1所述的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:所述有序孔阵列的面积小于或等于钽片层的表面积。

3.根据权利要求1所述的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:所述钽片层的厚度为5μm~2mm。

4.根据权利要求1所述的有序孔阵列阳极钽箔,其特征在于:所述有序孔阵列中各孔的深度为1μm~50μm,孔直径为10~80μm。

5.一种权利要求1~4中任意一项所述的有序孔阵列阳极钽箔的制备方法,其特征在于:取钽片,用酒精清洗去除钽片表面的油污和灰尘;然后将钽片放在光学平台上,并用夹具定位、夹紧;最后调整激光器参数和光斑直径,控制激光束对钽片表面进行点扫描处理,即在钽片层表面一体化形成有序孔阵列。

6.根据权利要求5所述的有序孔阵列阳极钽箔的制备方法,其特征在于:对钽片表面进行点扫描处理时,调整所述激光器的能量范围为20~30w、扫描速度范围为500~1000mm/s、光斑直径为30~80μm、点间距30-100μm。

7.根据权利要求5或6所述的有序孔阵列阳极钽箔的制备方法,其特征在于:对钽片表面进行点扫描处理的处理区域为任意形状。

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