承载装置及离子注入设备的制作方法

文档序号:12724789阅读:223来源:国知局
承载装置及离子注入设备的制作方法

本发明涉及一种专门用于制造或处理固体器件的设备,特别是一种承载装置及离子注入设备。



背景技术:

离子注入技术是近30年来在国际上蓬勃发展和广泛应用的一种材料表面改性技术。离子注入的基本原理是:用能量为100keV量级的离子束入射到材料中去,离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用,入射离子逐渐损失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、结构和性能发生变化,从而优化材料表面性能或获得某些新的优异性能。

在离子注入(Implant)过程中,玻璃基板首先会被水平放置于基板承载装置的承载台(Platen)上,而后由承载台垂直立起进行扫描。在此过程中,承载台上的支撑部件(Pin)会与玻璃基板的背部接触,由于现有的承载台上的支撑部件的顶部呈球形,与玻璃基板背部接触面积小,且支撑部件是固定于承载台上,随着使用次数的增加,支撑部件的表面磨损,在承载台翻动过程中容易产生静电,尤其是,当支撑部件的支撑位置在显示面板的有效显示区(A/A区),玻璃基板背部静电释放,会对TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)产生影响,引起亮暗点、白Mura等不良。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种承载装置及离子注入设备,能够减少由于支撑部件与基板接触所引起的亮暗点、白Mura等不良产生。

本发明所提供的技术方案如下:

一种承载装置,包括:

用于承托基板的承托台;

以及,用于支撑基板的多个支撑部件,各支撑部件以可移动地方式设置在所述承托台上,以使各支撑部件在基板上的支撑位置可调节。

进一步的,在所述承托台上设置有导轨,在所述导轨上设置有能够沿所述导轨移动的多个滑动块,其中在每一所述滑动块上连接有至少一个所述支撑部件。

进一步的,所述导轨为凸出于所述承托台侧面外的长条形凸块结构,所述滑动块中部形成有凹槽,所述凹槽的槽口朝向所述长条形凸块结构,以使所述滑动块环套在所述长条形凸块结构上。

进一步的,在所述凹槽的内壁与所述导轨的外周面之间设置有多个滚珠,多个所述滚珠排列成至少一排,且所述滚珠的排列方向与所述导轨的延伸方向一致。

进一步的,所述滑动块包括一用于形成所述凹槽的槽底的第一部分、以及用于分别形成所述凹槽的两侧壁的第二部分和第三部分,其中,所述第二部分和所述第三部分均可拆卸地连接在所述第一部分上,且所述第二部分和所述第三部分上分别设置所述滚珠。

进一步的,所述凹槽为槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽结构,所述导轨为与所述凹槽结构相匹配的、横截面呈梯形的长条形凸块结构。

进一步的,所述承托台包括相对的第一侧边和第二侧边、及相对的第三侧边和第四侧边,在所述第一侧边设置有能够使得所述承托台由水平状态翻转成竖直状态的翻转轴,所述导轨沿所述承托台的第三侧边和第四侧边的延伸方向设置。

进一步的,所述承载装置还包括能够驱动各滑动块在所述导轨上移动的驱动机构,所述驱动机构包括:

横杆,多个支撑部件呈阵列排布,同一行的多个支撑部件中各支撑部件所对应的滑动块通过同一根横杆连接一起,以使同一行的多个支撑部件能够同步移动;

设置在所述承托台的第三侧边和第四侧边的至少一个侧边上的驱动轨道,所述横杆的一端设置在所述驱动轨道上,并能够沿所述驱动轨道移动;

以及,用于驱动所述横杆沿所述驱动轨道往复移动的驱动部。

进一步的,所述驱动部包括:

驱动马达,所述驱动马达包括输出轴;

以及能够在所述输出轴驱动下旋转的旋转齿轮,所述横杆的一端连接在所述旋转齿轮的中心,且所述旋转齿轮与所述横杆之间能够相对转动;

其中在所述驱动轨道上设置有齿条,所述齿条与所述旋转齿轮啮合。

进一步的,所述承托台呈阶梯状结构,所述承托台的厚度从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧呈阶梯状逐渐减小。

进一步的,所述支撑部件包括用于与基板接触的接触端、及与所述接触端相对的连接端,其中,所述支撑部件的接触端端面为具有预定面积的平面结构。

进一步的,所述支撑部件为一圆柱形结构,且所述接触端的边缘为经圆滑化处理的圆滑倒角结构。

一种离子注入设备,包括如上所述的承载装置。

本发明所带来的有益效果如下:

本发明所提供的承载装置,其在承托台上设置可移动的支撑部件,从而可以根据不同型号的基板,调节各支撑部件在基板上的支撑位置,以避让开基板上的预定区域,例如:避让开液晶屏的有效显示区(A/A区),防止支撑部件与基板之间产生的静电对液晶屏的薄膜晶体管产生影响,从而减少不良产生。

附图说明

图1表示本发明实施例中提供的承载装置的整体结构示意图;

图2表示本发明实施例中提供的承载装置的导轨与滑动块的配合结构示意图;

图3表示本发明实施例中提供的承载装置的滑动块及支撑部件的结构示意图;

图4表示本发明实施例中提供的承载装置的承托台的侧面结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。

针对现有技术中基板承载装置上的支撑部件与液晶屏等基板之间接触产生静电,会导致产生不良的问题,本发明提高了一种承载装置,能够减少由于支撑部件与基板接触所引起的亮暗点、白Mura等不良产生。

如图1所示,本发明实施例中所提供的承载装置,包括:

用于承托基板的承托台100;

以及,用于支撑基板的多个支撑部件200,各支撑部件200以可移动地方式设置在所述承托台100上,以使各支撑部件200在基板上的支撑位置可调节。

本发明所提供的承载装置,其在承托台100上设置的多个支撑部件200可以移动,从而可以根据不同型号的基板,调节各支撑部件200在基板上的支撑位置,以避让开基板上的预定区域,例如:避让开液晶屏的有效显示区(A/A区),防止支撑部件200与基板之间产生的静电对液晶屏的薄膜晶体管产生影响,从而减少不良产生。

如图1和图2所示,在本发明所提供的实施例中,优选的,在所述承托台100上设置有导轨300,在所述导轨300上设置有能够沿所述导轨300移动的多个滑动块400,其中在每一所述滑动块400上连接有至少一个所述支撑部件200。

采用上述方案,通过在所述承托台100上设置导轨300,并在导轨300上设置可移动的滑动块400,通过将支撑部件200与滑动块400连接,在导轨300上移动滑动块400,来实现支撑部件200的移动,这种利用滑动块400和导轨300配合实现支撑部件200移动的方式,结构简单,操作方便。

应当理解的是,在实际应用中,所述支撑部件200在所述承托台100上的可移动方式并不仅局限于此,还可以采用其他方式来实现,对此不再一一列举。

以下提供一种所述导轨300与所述滑动块400配合的优选实施方式。

如图2和图3所示,优选的,所述导轨300为凸出于所述承托台100侧面外的长条形凸块结构,所述滑动块400中部形成有凹槽401,所述凹槽401的槽口朝向所述长条形凸块结构,以使所述滑动块400环套在所述长条形凸块结构上。

采用上述方案,所述导轨300可以设置在所述承托台100的侧面,其设计为一凸起的长条形凸块结构,而所述滑动块400的中部形成有凹槽401,而呈半壳状,套设在所述导轨300上,这种配合结构很简单。当然可以理解的是,在其他实施例中,所述导轨300与所述滑动块400的结构并不仅局限于此,可以有多种配合方式。

进一步优选的,如图3所示,在所述滑动块400的凹槽401的内壁与所述导轨300的外周面之间设置有多个滚珠500,多个所述滚珠500排列成至少一排,且所述滚珠500的排列方向与所述导轨300的延伸方向一致。

采用上述方案,通过在所述滑动块400与所述导轨300之间设置滚珠500,可以使得滑动块400在导轨300上移动顺滑、平稳。

并且,优选的,如图2和图3所示,所述导轨300的上、下侧面与所述滑动块400的凹槽401的两侧壁之间分别设置有所述滚珠500,且优选的,凹槽401的每一侧壁与所述导轨300的侧面之间设置有两排滚珠500,以使得滑动块400的移动更为顺滑、平稳。

当然可以理解的是,对于所述导轨300与所述滑动块400之间设置所述滚珠500的方式等并不进行限定,可以根据实际情况进行调整。

此外,如图2和图3所示,优选的,所述滑动块400包括一用于形成所述凹槽401的槽底的410、以及用于分别形成所述凹槽401的两侧壁的第二部分420和第三部分430,其中,所述第二部分420和所述第三部分430均可拆卸地连接在所述第一部分410上,且所述第二部分和所述第三部分上分别设置所述滚珠500,以形成所述滚珠500的保护壳。

采用上述方案,设置有所述滚珠500的第二部分和所述第三部分均可拆卸地连接在所述第一部分上,便于拆卸、更换,当滚珠500出现问题时,可直接将相应的第二部分或第三部分拆卸下来更换即可。

此外,在本发明所提供的实施例中,优选的,如图2所示,所述凹槽401为槽底尺寸大于槽口尺寸的梯形槽结构,所述导轨300为与所述凹槽401结构相匹配的、横截面呈梯形的长条形凸块结构。

采用上述方案,所述导轨300设计为横截面呈梯形,其由外向内逐渐减小,与所述滑动块400的凹槽401结构相互配合,可以防止所述滑动块400从所述导轨300上脱落。

此外,在本发明所提供的实施例中,优选的,如图1所示,所述承托台100包括相对的第一侧边和第二侧边、及相对的第三侧边和第四侧边,在所述第一侧边设置有能够使得所述承托台100由水平状态翻转成竖直状态的翻转轴600,所述导轨300沿所述承托台100的第三侧边和第四侧边的延伸方向设置。

采用上述方案,在所述第一侧边设置有翻转轴600,在承载基板时,使得所述承托台100承载基板在水平状态与竖直状态之间转换,并且所述导轨300在第三侧边和第四侧边的延伸方向上设置,以使得所述支撑部件200能够沿着所述第三侧边或所述第四侧边的延伸方向移动。

在本发明所提供的实施例中,优选的,如图1所示,所述承托台100包括多个承托部110,在每一所述承托部110的侧边设置有所述导轨300,在每一所述导轨300上设置有多个所述滑动块400;

所述承载装置还包括能够驱动各滑动块400在所述导轨上移动的驱动机构,所述驱动机构包括:

横杆700,多个支撑部件200呈阵列排布,同一行的多个支撑部件200中各支撑部件200所对应的滑动块400通过同一根横杆700连接一起,以使同一行的多个支撑部件能够同步移动;

驱动轨道800,所述驱动轨道800设置在所述承托台100的第三侧边和第四侧边的至少一个侧边上(即,最靠外侧的承托部110的外侧面上),所述横杆700的一端设置在所述驱动轨道800上,并能够沿所述驱动轨道800移动;

以及,用于驱动所述横杆700沿所述驱动轨道800往复移动的驱动部。

采用上述方案,将每行的移动支撑部件200所对应的滑动块400可以通过同一根横杆700进行连接,由所述横杆700驱动同一行的各滑动块400在所述导轨300上移动时,可以实现同一行的各支撑部件200在所述导轨300的延伸方向上的同步移动,以根据不同型号,更换支撑部件200的不同位置,这种结构更为简化,且可同步控制同一行的多个支撑部件200的移动,控制简单。

并且,在本发明所提供的实施例中,优选的,所述驱动部包括:

驱动马达(图中未示意出),所述驱动马达包括输出轴;

以及能够在所述输出轴驱动下旋转的旋转齿轮900,所述横杆700的一端连接在所述旋转齿轮900的中心,且所述旋转齿轮900与所述横杆700之间能够相对转动;

其中在所述驱动轨道800上设置有齿条,所述齿条与所述旋转齿轮900啮合。

采用上述方案,通过所述驱动马达来驱动所述旋转齿轮900旋转,由于旋转齿轮900与所述驱动轨道800的齿条啮合,在旋转齿轮900转动时,可以带动所述横杆700在所述驱动轨道800的延伸方向上往复运动,进而带动所述横杆700上连接的滑动块400往复运动,实现同步移动同一行各支撑部件200的目的。

当然可以理解的是,在本发明其他实施例中,所述多个支撑部件200与所述滑动块400及所述导轨300的设置位置及连接关系等并不仅局限于此,例如:所述支撑部件200还可以是各支撑部件200单独移动,这种单独控制各支撑部件200移动的方式与上述控制同一行支撑部件200同步移动的方式相比,优点是,可以优化移动范围,使得各支撑部件200根据实际情况来单独移动,缺点是,控制复杂,实现困难。

此外,在本发明所提供的实施例中,优选的,如图4所示,所述承托台100的厚度从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧逐渐减小。

采用上述方案,采用阶梯状的承托台100设计方式,缩短承托台100的整体重心与翻转轴600距离,使得承托台100的重心向翻转轴600所在方向偏移,有利于承托台100旋转的机械运动稳定性。

优选的,如图4所示,所述承托台100呈阶梯状结构,所述承托台100的厚度从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧呈阶梯状逐渐减小。

需要说明的是,在上述方案中,将所述承托台100通过设计为阶梯状结构,来使得承托台100的重心与翻转轴600距离缩短,承托台100的厚度过渡比较平稳,制造也简单。需要理解的是,在实际应用中,对于所述承托台100的具体结构可以不仅局限于此,只要使得所述承托台100从靠近所述第一侧边的一侧向靠近所述第二侧边的一侧逐渐减小即可。

此外,现有技术中,所述承托台100上的支撑部件200随着寿命的增加,表面磨损,在承托台100的翻动过程中容易产生静电,且支撑部件200的顶部呈球形,与基板背部接触面积小,静电容易积累并突然释放,对于OLED显示基板而言,引起亮暗点、白Mura等不良。

如图3所示,在本发明所提供的实施例中,优选的,所述支撑部件200包括用于与基板接触的接触端201、及与所述接触端相对的连接端202,其中,所述支撑部件200的接触端201端面为具有预定面积的平面结构。

采用上述方案,改进了现有的支撑部件200的结构,将现有的顶部球形结构的支撑部件200改进为使得支撑部件200的接触端端面为平面,增加了与基板的接触面积,减少静电释放。

优选的,如图3所示,所述支撑部件200为一圆柱形结构,且所述接触端201的边缘为经圆滑化处理的圆滑倒角结构。

采用上述方案,可移动的支撑部件200采用圆柱形结构,同时对顶部边缘进行圆滑化处理,防止放置基板时划伤基板。

此外,本发明实施例中还提供了一种离子注入设备,包括本发明实施例中所提供的承载装置。

以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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