基体材料处理装置和基体材料处理方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明涉及一种基体材料处理装置和基体材料处理方法，能够抑制干燥后的基体材料中产生的褶皱，以良好的状态处理基体材料。搬运部具有搬运构件，该搬运构件沿着搬运路径设置于干燥部的下游侧，且隔着气体层搬运基体材料。因此，使通过干燥部加热后的基体材料和常温的搬运构件之间的接触面积变小。结果，能够抑制基体材料中产生的褶皱。

技术研发人员：陆井秀晃
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2017.03.24
技术公布日：2017.10.03