一种IGBT封装结构的制作方法

文档序号:15107499发布日期:2018-08-04 17:25阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种IGBT封装结构,其特征在于:包括底板、焊接于底板上端的DCB层、焊接于DCB层上端的IGBT芯片,所述DCB层从下到上依次为铜层、陶瓷层、铝层,所述陶瓷层为氮化铝层或氮化硼层,所述底板的厚度与DCB层的厚度之和为10mm,所述DCB层中铜层、陶瓷层及铝层的厚度比为1:5:1。

2.根据权利要求1所述的一种IGBT封装结构,其特征在于:所述底板为铜底板或铝底板。

3.根据权利要求1所述的一种IGBT封装结构,其特征在于:底板的厚度为5mm,DCB层的厚度为5mm。

4.根据权利要求1所述的一种IGBT封装结构,其特征在于:DCB中铜层、陶瓷层及铝层的厚度分别为0.8mm、3.5mm、0.7mm。

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