一种四氧化三钴分级结构纳米阵列材料、制备方法及其应用与流程

文档序号:15077538发布日期:2018-08-01 02:20阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供了一种四氧化三钴分级结构纳米阵列材料、制备方法及其应用,在密闭的高温高压反应釜中,采用二次蒸馏水作为反应溶剂,加入钴盐、氟化铵和尿素混合均匀,通过加热反应体系,产生一个高压环境而制备氢氧化钴前驱体纳米线材料,随后,采用二次蒸馏水作为反应溶剂,加入2‑甲基咪唑,将负载在碳布上的氢氧化钴前驱体浸入溶液,以氢氧化钴为钴源,通过加热反应体系和反应时间控制ZIF67成核速率从而制备钴基金属有机框架(ZIF67)阵列。最后,通过煅烧分解得到四氧化三钴分级结构。产物纯度高、分散性好、且可控制,生产成本低,重现性好,具有循环稳定性、大的活性表面积,在超级电容器方面具有潜在的应用价值。

技术研发人员:张小俊;丁孟梦
受保护的技术使用者:安徽师范大学
技术研发日:2018.03.28
技术公布日:2018.07.31
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