本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种衬底载板以及柔性显示面板的制作方法。
背景技术：
随着显示技术的不断发展，柔性显示器的应用领域越来越广泛。现有的柔性显示器在制作过程中，需要先在一玻璃衬底上形成柔性基底；然后，在该柔性基底上制作显示器的主体部件；最后，采用激光剥离技术，将玻璃衬底与柔性基底剥离，从而完成柔性显示器的制备。
然而，在上述激光剥离的过程中，由于激光脉冲的不均匀性，会导致柔性显示器中各处的tft(thinfilmtransistor，薄膜晶体管)受光不均匀，因此使得各处tft特征出现不均一，最终造成显示异常。
技术实现要素：
本发明的实施例提供一种衬底载板以及柔性显示面板的制作方法，用于解决激光剥离的过程中，由于激光脉冲的不均匀性，导致柔性显示器背板各处受光不均匀。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
本申请实施例的一方面，提供一种衬底载板，所述衬底载板包括刚性的载板本体；所述载板本体的承载面用于承载柔性显示面板的柔性衬底；所述载板本体的承载面上设置有多个微结构，所述多个微结构用于对入射光进行扩散并传输至所述柔性衬底。
可选的，所述衬底载板还包括覆盖所述载板本体承载面和所述微结构的平坦层；所述平坦层背离所述载板本体的一侧与所述柔性衬底相接触。
可选的，所述柔性衬底包括一层或多层薄膜层，且所述柔性衬底中和所述平坦层相接触的薄膜层的材料与所述平坦层的材料不同。
可选的，在所述柔性衬底包括所述多层薄膜层的情况下，沿背离所述载板本体的方向，所述多层薄膜层依次包括第一有机薄膜层、第一无机薄膜层、第二有机薄膜层以及第二无机薄膜层。
可选的，构成所述第一有机薄膜层和所述第二有机薄膜层的材料包括聚酰亚胺；构成所述第一无机薄膜层和所述第二无机薄膜层的材料包括氧化硅或氮化硅中的至少一种。
可选的，所述平坦层的折射率小于所述载板本体的折射率，且所述平坦层的折射率与所述载板本体的折射率之差的绝对值位于0.1～0.5的范围内。
可选的，所述多个微结构构成一维光栅。
可选的，所述多个微结构阵列排布；所述微结构为圆柱体或立方体。
可选的，所述载板本体为玻璃载板。
本申请实施例的另一方面，提供一种柔性显示面板的制作方法，所述方法包括：在一刚性的载板本体的承载面上，通过构图工艺形成多个微结构；通过成膜工艺，在所述微结构和所述承载面上覆盖平坦层，以形成衬底载板；在所述平坦层背离所述载板本体的一侧形成柔性衬底；采用激光由所述载板本体背离所述平坦层的一侧入射；将所述衬底载板与所述柔性衬底剥离。
可选的，所述在一刚性的载板本体的承载面上，通过构图工艺形成多个微结构包括：通过纳米压印工艺或光刻工艺，在所述载板本体的承载面上，形成一维光栅。
可选的，所述在一刚性的载板本体的承载面上，通过构图工艺形成多个微结构包括：通过纳米压印工艺或光刻工艺，在所述载板本体的承载面上，形成阵列排布的圆柱体或立方体。
可选的，所述在所述平坦层背离所述载板本体的一侧形成柔性衬底包括：通过成膜工艺，在所述平坦层背离所述载板本体的一侧依次形成第一有机薄膜层、第一无机薄膜层、第二有机薄膜层以及第二无机薄膜层。
可选的，构成所述第一有机薄膜层和所述第二有机薄膜层的材料包括聚酰亚胺；构成所述第一无机薄膜层和所述第二无机薄膜层的材料包括氧化硅或氮化硅中的至少一种。
可选的，所述在所述平坦层背离所述载板本体的一侧形成柔性衬底之后，在所述采用激光由所述载板本体背离所述平坦层的一侧入射之前，所述方法还包括：在所述柔性衬底背离所述平坦层的一侧，形成阵列基板以及位于阵列基板上的发光器件。
综上所述，本申请实施例提供的衬底载板中，由于刚性的载板本体的承载面上设置有多个微结构，而该多个微结构能够对入射的激光进行扩散，并将扩散后的光线传输至柔性衬底以及位于该柔性衬底下方的柔性显示器的主体部件。在此情况下，即使激光源输出相邻的激光脉冲之间存在发光间隙，使得激光源发光不均匀，但是入射至载板本体的激光在多个微结构的扩散作用，能够使得形成于该柔性衬底下方柔性显示器中的各个tft的受光量大致相同，从而使得各个tft的特性均一，有利于提升显示均一性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种承载由柔性衬底的衬底载板的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的一种激光剥离示意图；
图3为本申请实施例提供的另一种激光剥离示意图；
图4为图1中具有多个微结构的载板本体的一种结构示意图；
图5为图1中具有多个微结构的载板本体的另一种结构示意图；
图6为本申请实施例提供的另一种承载由柔性衬底的衬底载板的结构示意图；
图7为本申请实施例提供的一种柔性显示面板的制作方法流程图；
图8a、图8b、图8c、图8d为图7中步骤s101中制作微结构的各个步骤示意图；
图9为图7中步骤s102的示意图；
图10为图7中步骤s104的示意图；
图11为图7中步骤s105的示意图。
附图标记：
01-柔性衬底；10-衬底载板；101-载板本体；102-平坦层；20-微结构；201-第一有机薄膜层；202-第二有机薄膜层；211-第一无机薄膜层；212-第二无机薄膜层；30-压印胶；31-模具。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
本申请实施例如图1所示，提供一种衬底载板10，该衬底载板10包括刚性的载板本体101。其中，该载板本体101的承载面用于承载柔性显示面板的柔性衬底01。
需要说明的是，载板本体101的承载面在对柔性衬底01进行承载的过程中，可以与该柔性衬底01直接接触，或者该载板本体101的承载面与柔性衬底01之间还可以设置其他薄膜层，本申请对此不作限制，只要使得载板本体101的承载面为该载板本体101上靠近柔性衬底01一侧的表面即可。
可选的，上述载板本体101可以为玻璃载板，或者硬质的透明树脂材料构成的载板，本申请对该载板本体101的材料不做限定，只要能够保证该载板本体101具有一定的刚性，且在柔性显示器制作过程中，能够对位于柔性衬底01以及制作于该柔性衬底01上的显示器的主体部件进行承载即可。
此外，上述显示器的主体部件可以包括阵列基板，该阵列基板上设置有多个亚像素，每个亚像素内制作有像素电路。此外，上述主体部件还包括设置于阵列基板上，且位于各个亚像素内的发光器件，以及覆盖阵列基板和发光器件的封装盖板。
其中，该发光器件可以为有机发光二极管(organiclightemittingdiode，oled)或者发光二极管(lightemittingdiode，led)。本发明对此不做限定。
在此基础上，上述载板本体101的承载面上设置有多个微结构20，上述多个微结构20用于对入射光进行扩散并传输至柔性衬底01。
例如，如图2所示，在激光剥离的过程中，当激光照射至未制作有上述微结构20的载板本体101后，由于入射的激光得不到有效的扩散，因此透过该载板本体101的激光光斑的直径较小。
而如图3所示，在激光剥离的过程中，当激光照射至制作有上述微结构20的载板本体101后，在上述微结构20对激光进行扩散的作用下，可以使得透过该载板本体101的激光光斑的直径较大，从而使得入射至柔性衬底01的激光更加的均匀。
基于此，为了提高上述微结构20对入射光的扩散作用，上述微结构20的尺寸可以为纳米级别。
以下对多个微结构20的具体结构进行说明：
例如，如图4所示，上述多个用于对入射光进行扩散的微结构20可以构成一维光栅。
在此情况下，上述一维光栅是指，在载板本体101的承载面所在的平面(xoy平面)内，上述光栅中多个微结构20沿同一个方向，例如y方向，平行设置。此外，该光栅中任意一个微结构20在xoy平面中，沿其中一个方向(y方向)的尺寸远大于微结构20沿另一个方向(x方向)的尺寸。例如，微结构20沿y方向的尺寸可以与载板本体101沿y方向的尺寸相同，而微结构20沿x方向的尺寸，以及相邻两个微结构20之间的间距可以为纳米级别。
此外，在使得衬底载板10的厚度(沿z方向的尺寸)满足生产工艺的要求的情况下，本申请对微结构20在z方向(与xoy平面垂直)上的尺寸不做限定。
又例如，如图5所示，上述多个微结构20阵列排布。上述微结构20可以如图5所示为圆柱体，或者，还可以为立方体。在此情况下，在载板本体101的承载面所在的平面(xoy平面)内，上述微结构20沿x方向和y方向的尺寸可以相同，也可以不同，但均属于纳米级别。此外，在使得衬底载板10的厚度满足生产工艺的要求的情况下，本申请对微结构20在z方向上的尺寸不做限定。
综上所述，由于刚性的载板本体101的承载面上设置有多个微结构20，而该多个微结构20能够对入射的激光进行扩散，并将扩散后的光线传输至柔性衬底01以及位于该柔性衬底01下方的柔性显示器的主体部件。在此情况下，即使激光源输出相邻的激光脉冲之间存在发光间隙，使得激光源发光不均匀，但是入射至载板本体101的激光在多个微结构的扩散作用，能够使得形成于该柔性衬底01下方柔性显示器背板中的各个tft的受光量大致相同，从而使得各个tft的特性均一，有利于提升显示均一性。
需要说明的是，本申请中，“上”和“下”等方位术语是相对于附图中的柔性衬底01示意置放的方位来定义的，应当理解到，这些方向性术语是相对的概念，它们用于相对于的描述和澄清，其可以根据柔性衬底01所放置的方位的变化而相应地发生变化。
由上述可知，载板本体101的承载面上制作有多个微结构20，基于此，当设置有微结构20的承载本体101直接与柔性衬底01相接触时，受到上述微结构20的影响，使得载板本体101与柔性衬底01之间的接触面凹凸不平，降低了衬底载板10与柔性衬底01的粘结性。
在此情况下，为了提高载板本体101与衬底载板10的粘结性，防止在柔性衬底01背离载板本体101的一侧表面制作柔性显示器的主体部件的过程中，导致柔性衬底01与衬底载板10发生脱离。可选的，如图1所示，上述衬底载板10还包括覆盖载板本体101承载面和微结构20的平坦层102。
该平坦层102背离载板本体101的一侧与柔性衬底01相接触。此外，如图1或图3所示，上述平坦层102可以将相邻两个微结构20之间的间隙填充。从而能够通过平坦层102对载板本体101制作有微结构20的一侧表面进行平坦化处理，使得平坦层102与柔性衬底01相接触的一侧表面具有较高的平坦度，进而能够提高载板本体101与柔性衬底01的粘结性。
此外，柔性衬底01可以由单独的一层有机薄膜层构成，或者，如图6所示，上述柔性衬底01可以由多层薄膜层构成。
其中，上述用于构成柔性衬底01的多层薄膜层中可以包括无机薄膜层和有机薄膜层。具体的，如图6所示，上述多层薄膜层沿背离载板本体101的方向依次包括第一有机薄膜层201、第一无机薄膜层211、第二有机薄膜层202以及第二无机薄膜层212。
基于此，构成上述第一有机薄膜层201和第二有机薄膜层202的材料可以包括聚酰亚胺。上述第一有机薄膜层201和第二有机薄膜层202为用于构成柔性衬底01的主要结构。
此外，构成第一无机薄膜层211和第二无机薄膜层212的材料包括氧化硅(sio2)或氮化硅(sinx)中的至少一种。上述第一无机薄膜层211和第二无机薄膜层212用于对水氧进行阻隔，避免空气中的水汽或氧气进入到位于柔性衬底01背离载板本体101一侧的柔性显示器的主体部件中。
在此基础上，上述柔性衬底01中与平坦层102相接触的薄膜层，例如上述第一有机薄膜层201的材料可以与平坦层102的材料不同。这样一来，在进行激光剥离工艺的过程中，可以使得在激光作用下，柔性衬底01中与平坦层102相接触的薄膜层例如上述第一有机薄膜层201与平坦层102之间的化学键更容易打开，从而更容易将柔性衬底01从衬底载板10上剥离。
此外，平坦层102的折射率小于载板本体101的折射率。可选的，该平坦层102的折射率与该载板本体101的折射率之差的绝对值可以位于0.1～0.5的范围内。由于平坦层102的折射率小于载板本体101的折射率，因此平坦层102相对于载板本体101而言为光疏介质，而载板本体101相对于平坦层102而言为光密介质。这样一来，当激光由载板本体101背离柔性衬底01的一侧入射时，上述入射至载板本体101的光线，可以由光密介质向下传输至光疏介质，从而能够使得光线入射至平坦层102，以及平坦层102与柔性衬底01的接触面。
基于此，当平坦层102的折射率与该载板本体101的折射率之差的绝对值小于0.1时，载板本体101与平坦层102的折射率之差太小，会增加载板本体101和平坦层102材料的选择难度和制备工艺难度。
此外，当平坦层102的折射率与该载板本体101的折射率之差的绝对值大于0.5时，入射至载板本体101的光线向下传输至平坦层102的过程中，光线在载板本体101和平坦层102的界面会发生较大的折射，使得光线在平坦层102中的传播方向发生较大的变化，从而对激光剥离工艺的精度和效果造成影响。
在此情况下，当平坦层102的折射率与该载板本体101的折射率之差的绝对值位于0.1～0.5的范围内时，可以在不增加载板本体101和平坦层102的制备难度的基础上，减小对激光剥离工艺的精度和效果的影响。
需要说明的是，上述仅仅是以柔性衬底01背离衬底载板10的一侧用于形成柔性显示器的主体部件为例进行的说明。此外，本申请提供的衬底载板10还可以用于承载制作于柔性衬底01背离衬底载板10的一侧的其他电子部件，例如封装芯片等结构。本申请对此不做限定，但均属于本申请的保护范围。
以下基于在柔性衬底01背离衬底载板10的一侧用于形成柔性显示器的主体部件为例，对该柔性显示器中柔性显示面板的制作方法进行详细的说明。
具体的，如图7所示，上述制作方法包括：
s101、在一刚性的载板本体101的承载面上，通过构图工艺形成多个微结构20。
例如，上述步骤s101可以包括：如图4所示，通过纳米压印工艺或光刻工艺，在载板本体101的承载面上，形成一维光栅。
或者，又例如，上述步骤s101可以包括：如图5所示，通过纳米压印工艺或光刻工艺，在载板本体101的承载面上，形成阵列排布的圆柱体或立方体。
需要说明的是，上述纳米压印工艺是指，如图8a所示，在载板本体101的承载面上形成压印胶30。
然后，如图8b所示，采用模具31对压印胶30进行压印，使得一部分压印胶30被挤出载板本体101的承载面，且未被压印胶30覆盖。
接下来，如图8c所示，通过刻蚀工艺对载板本体101的承载面上未被压印胶30覆盖的部分进行刻蚀。
最后，如图8d所示，将压印胶30剥离，从而完成上述微结构20的制备。
其中，纳米压印过程中，形成的微结构20的部分尺寸为纳米级别。例如，如图4所示，由多个微结构20构成的一维光栅中，微结构20沿x方向的尺寸，以及相邻两个微结构20之间的间距可以为纳米级别。或者，如图5所示，阵列排布的多个微结构20中，微结构20沿x方向和y方向的尺寸均属于纳米级别。
此外，上述均是以通过纳米压印工艺形成微结构20为例进行的说明，此外，还可以通过光刻(mask)工艺制作上述微结构20，本申请对此不做限定。其中，该光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。
s102、如图9所示，通过成膜工艺，在微结构20和载板本体101的承载面上覆盖平坦层102，以形成衬底载板10。
其中，平坦层102的材料以及该材料的折射率等设置方式同上所述，此处不再赘述。
s103、如图1所示，在平坦层102背离载板本体101的一侧形成柔性衬底01。
具体的，上述步骤s103可以包括：通过成膜工艺，在平坦层102背离载板本体101的一侧依次形成第一有机薄膜层201、第一无机薄膜层211、第二有机薄膜层202以及第二无机薄膜层212。
其中，用于形成第一有机薄膜层201和第二有机薄膜层202的成膜工艺可以为真空镀膜工艺。
用于形成第一无机薄膜层211和第二无机薄膜层212的成膜工艺可以为涂覆工艺。
此外，上述第一有机薄膜层201和第二有机薄膜层202的材料同上所述，此处不再赘述。第一无机薄膜层211和第二无机薄膜层212的材料同上所述，此处不再赘述。
当上述步骤s103制作完成之后，可以在柔性衬底01背离平坦层102的一侧制作上述柔性显示面板，具体的包括：
首先，在柔性衬底01背离平坦层102的一层，形成阵列基板。该阵列基板上具有阵列排布的像素电路，像素电路主要由多个tft和电容构成。
然后，在该阵列基板背离衬底载板10的一侧制作阵列排布的发光器件。每个发光器件与一个像素电路相连接，通过该像素电路可以驱动发光器件发光。
此外，该发光器件中的有机功能层(空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层等)可以位于阵列基板中像素界定层(pixeldefinitionlayer，pdl)的凹槽内。
基于此，还可以在形成有阵列基板和发光器件的柔性衬底01上形成覆盖发光器件和阵列基板的封装基板。
s104、如图10所示，采用激光由载板本体101背离平坦层102的一侧入射。
具体的，用于发出激光脉冲的激光源会沿如图10所示的箭头(虚线)方向，从左至右或从右至左对形成有柔性显示面板的衬底载板10进行照射。虽然，激光源发射激光脉冲时，相邻两个激光脉冲之间具有发光间隙，但是入射至载板本体101的激光，可以在多个微结构20的作用下扩散，并将扩散后的光线传输至柔性衬底01以及该柔性衬底01下方的柔性显示面板，使得该柔性显示面板中各处的tft受光均匀，有利于提升显示均一性。
s105、如图11所示，将上述衬底载板10与柔性衬底01剥离，从而完成柔性显示面板的制备。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。