本发明涉及全固态激光技术领域,特别涉及一种228nm深紫外激光发生装置。
背景技术:
激光材料处理和加工的原理是基于材料和工件对激光的吸收,最终导致激光对材料的破坏。激光的波长越短,光子的量子能量就越大,在同样吸收情况下,激光对材料的破坏就越强,激光的材料处理及加工就越有效。而且,绝大多数材料对激光的吸收在可见光到深紫外区随波长缩短而明显增加。同样光束质量及光斑尺寸的激光,聚焦点大小与波长成反比,因此要求越精密的加工,需要的激光波长就越短。这就是激光加工领域不断追求紫外及深紫外激光的原因。因此,深紫外激光是激光材料处理及精密加工领域中必不可少的激光光源。同时,深紫外激光可使激光精密加工范围从金属材料拓展到陶瓷、塑料、玻璃、有机材料和生化材料、半导体材料、聚合物以及其他特种材料等。
技术实现要素:
本发明的目的在于提出一种能产生波长为228nm深紫外全固态激光装置。
一种能产生波长为228nm深紫外全固态激光装置,包括半导体激光二极管、聚焦镜、Nd:YVO4激光晶体、平面镜M1、LBO倍频晶体、平面镜M2、BBO倍频晶体、凹平面镜M3和滤光片。
其特征在于:半导体激光二极管输出波长为808.5nm,连续输出最大功率为5W。
聚焦镜前后表面镀有808.5nm处透过率大于99%的光学膜。
Nd:YVO4激光晶体前表面镀有914nm处高反射率大于99%、808.5nm、1064nm和1342nm处透过率大于95% 的光学膜,后表面镀有914nm处透过率大于99%、1064nm和1342nm处透过率大于95%的光学膜。
平面镜M1前表面镀有914nm、1064nm和1342nm处透过率大于99%的光学膜,后表面镀有457nm处高反射率大于99%、914nm、1064nm和1342nm处透过率大于99%的光学膜。
LBO倍频晶体前后表面镀有914nm和457nm处透过率大于99%的光学膜。
平面镜M2前表面镀有914nm处高反射率大于99%、457nm、1064nm和1342nm处透过率大于99%的光学膜,后表面镀有457nm、 1064nm和1342nm处透过率大于99%、228nm处高反射率大于98%的光学膜。
BBO倍频晶体前后表面镀有457nm和228nm处透过率大于99%的光学膜。
凹平面镜M3凹面表面镀有457nm处高反射率大于99%、228nm处透过率大于95%的光学膜,平面表面镀有228nm处透过率大于99%的光学膜。
滤光片中心波长为228nm±5nm、半高全宽为35nm±10nm、峰值透过率大于30%、截止带为350nm到1150nm。
附图说明
图1是本发明具体实施方式的装置图。
具体实施方式
下面结合图1对本发明进一步详细说明。
本发明公开了一种能产生波长为228nm深紫外全固态激光装置,包括1—808.5nm半导体激光二极管、2—聚焦镜、3—Nd:YVO4激光晶体、4—平面镜M1、5—LBO倍频晶体、6—平面镜M2、7—BBO倍频晶体、8—凹平面镜M3和9—滤光片。
将1—808.5nm半导体激光二极管输出的808.5nm的激光通过2—聚焦镜会聚到3—Nd:YVO4激光晶体上,由于808.5nm激光的泵浦,3—Nd:YVO4激光晶体产生914nm、1064nm和1342nm三种激光,从3—Nd:YVO4激光晶体出来的三种914nm、1064nm和1342nm激光经过前表面镀有914nm、1064nm和1342nm处透过率大于99%的光学膜,后表面镀有457nm处高反射率大于99%、914nm、1064nm和1342nm处透过率大于99%的光学膜的4—平面镜M1;再经过前后表面镀有914nm和457nm处透过率大于99%光学膜的5—LBO倍频晶体;再经过前表面镀有914nm处高反射率大于99%、457nm、1064nm和1342nm处透过率大于99%的光学膜,后表面镀有457nm、 1064nm和1342nm处透过率大于99%、228nm处高反射率大于98%光学膜的6—平面镜M2,输出457nm激光;4—平面镜M1和6—平面镜M2的作用是抑制1064nm和1342nm两波长激光的谐振,实现914nm激光的谐振,5—LBO倍频晶体作用是对914nm激光倍频产生457nm激光;457nm激光再经过前后表面镀有457nm和228nm处透过率大于99%光学膜的7—BBO倍频晶体,457nm激光经过7—BBO倍频晶体产生228nm激光;228nm激光再经过凹面表面镀有457nm处高反射率大于99%、228nm处透过率大于95%的光学膜,平面表面镀有228nm处透过率大于99%的8—凹平面镜M3;最后经过中心波长228nm±5nm、半高全宽35nm±10nm和峰值透过率大于30%、截止带为350nm到1150nm的9—滤光片,输出228nm激光。