1.一种固定装置，其特征在于，包括用于对待加工基片进行一对一吸附固定的真空吸附单元，所述真空吸附单元包括抽真空结构和设置在所述抽真空结构上的承载部，所述承载部用于承载所述基片；
所述抽真空结构包括轴体和套设在所述轴体上的环体，所述抽真空结构中开设有第一抽真空通道，所述轴体能绕其轴线在所述环体内自转，以开启或关闭所述第一抽真空通道；所述承载部中开设有第二抽真空通道，所述第一抽真空通道和所述第二抽真空通道贯通，能对所述基片进行吸附固定。
2.根据权利要求1所述的固定装置，其特征在于，所述轴体为阀杆，所述环体为阀体；
所述第一抽真空通道包括开设在所述阀杆内且沿所述阀杆中心轴延伸的第一孔道以及开设在所述阀杆中的第二孔道，所述第二孔道与所述第一孔道贯通，所述第二孔道与所述第一孔道成设定夹角，且所述第二孔道从所述第一孔道延伸至所述阀杆表面并在所述阀杆表面形成开口；
所述第一抽真空通道还包括开设在所述阀体中的第三孔道，所述第三孔道从所述阀体的与所述阀杆接触的面延伸至所述阀体的表面并在所述阀体表面形成开口，且所述第三孔道能与所述第二孔道贯通；
所述第一孔道的一端连接抽真空器件，另一端封闭。
3.根据权利要求2所述的固定装置，其特征在于，所述阀杆的一端连接驱动部件，所述驱动部件能驱动所述阀杆以其中心轴为轴在所述阀体内自转；所述阀体的与所述阀杆相接触的壁上开设有第一凹槽，所述第一凹槽的延伸方向沿所述阀杆的自转方向，且所述第一凹槽与所述第三孔道贯通；
所述阀体的与所述阀杆相接触的壁上还设置有凸起块，所述凸起块位于所述第一凹槽的一端，且所述凸起块沿所述阀杆的自转方向延伸；
所述第二孔道在所述阀杆表面的开口能随着所述阀杆的自转被所述凸起块封闭或者与所述第一凹槽贯通。
4.根据权利要求3所述的固定装置，其特征在于，所述阀杆的与所述阀体接触的壁上开设有第二凹槽，所述第二凹槽的延伸方向沿所述阀杆的自转方向，所述第二孔道在所述阀杆表面的开口位于所述第二凹槽内；
所述抽真空结构还包括第一密封件，所述第一密封件设置于所述第二凹槽中，且所述第一密封件与所述第二凹槽的大小形状相适配；
所述第一抽真空通道还包括开设在所述第一密封件中的第四孔道，所述第四孔道的一端开口与所述第二孔道在所述阀杆表面的开口对接，所述第四孔道能与所述第三孔道贯通。
5.根据权利要求4所述的固定装置，其特征在于，所述承载部包括第一载板，所述第一载板设置在所述阀体的开设有所述第三孔道的一侧；
所述第二抽真空通道包括开设在所述第一载板中的第五孔道，所述第五孔道贯穿所述第一载板的厚度，且所述第五孔道与所述第三孔道贯通；
所述承载部还包括第二载板，所述第二载板设置在所述第一载板的背离所述阀体的一侧，所述第二载板上用于放置所述基片；
所述第二抽真空通道还包括开设在所述第二载板中的多个第六孔道，所述第六孔道贯穿所述第二载板的厚度，且多个所述第六孔道均匀分布于所述第二载板的对应所述第五孔道的区域；
所述第一载板的背离所述阀体的一面在对应所述第五孔道的区域开设有第三凹槽；
所述承载部还包括密封板，所述密封板设置于所述第一载板和所述第二载板之间，所述密封板上设置有镂空区，所述镂空区与所述第三凹槽位置相对应，且所述镂空区与所述第三凹槽大小形状相同。
6.根据权利要求5所述的固定装置，其特征在于，一根所述阀杆上贯穿有多个所述阀体，所述承载部还延伸至覆盖各个所述阀体的开设有所述第三孔道的一侧，以构成一组所述真空吸附单元。
7.根据权利要求6所述的固定装置，其特征在于，沿所述阀杆的延伸方向，所述阀杆上各个所述阀体的所述凸起块沿所述阀杆的自转方向延伸的长度依次增大。
8.根据权利要求7所述的固定装置，其特征在于，所述真空吸附单元包括多组，多组所述真空吸附单元沿垂直于所述阀杆延伸方向的方向依次排布，构成所述真空吸附单元阵列。
9.根据权利要求8所述的固定装置，其特征在于，所述阀杆的延伸方向为所述真空吸附单元阵列的列方向，排布在所述真空吸附单元阵列的同一行中的所述阀体的所述凸起块沿所述阀杆的自转方向延伸的长度相同；
所述真空吸附单元阵列中，任意相邻两列所述真空吸附单元之间的间距相等，任意相邻两行所述真空吸附单元之间的间距相等。
10.一种加工设备，用于对基片进行加工，其特征在于，包括权利要求1-9任意一项所述的固定装置，所述固定装置能对所述基片进行吸附固定。