传送系统、传送方法、器件制造装置及器件制造方法与流程

本发明涉及传送系统、传送方法、器件制造装置及器件制造方法。

背景技术：

近年来，有机el显示装置作为平板显示装置而备受关注。有机el显示装置是自发光显示器，响应速度、视场角、薄型化等特性比液晶面板显示器优异，在以监视器、电视机、智能手机为代表的各种便携终端等中正在以较快的速度取代既存的液晶面板显示器。而且，在机动车用显示器等中也正在扩宽其应用领域。

构成有机el显示装置的有机发光元件(有机el元件；oled)具有在2个面对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有包含产生发光的有机物层即发光层的功能层的基本结构。有机发光元件的功能层和电极层通过例如在真空腔室内，将蒸镀物质经由形成有像素图案的掩模向基板蒸镀来制造。

在这样的有机el显示装置的生产线中，使用在连杆结构的多关节臂上连结有手的传送机器人，将基板及/或掩模向成膜室、通路室、缓冲室、掩模贮存腔室等依次传送，并在基板的处理面上依次形成前述的电极及各种功能层。

通过传送机器人进行的载置有基板或掩模等处理体的状态下的传送动作可以包括前述的各种腔室间的移动用的前进/后退动作、横向的移动动作、回旋动作等各种移动动作，在该移动时基板或掩模等处理体在机器人手上可能会发生位置偏离。

当虽然发生这样的位置偏离但是未能对其进行识别而继续进行传送机器人的传送动作时，例如，如果要将以偏离的状态载置有基板或掩模等处理体的机器人手放入成膜室内，则处理体会在腔室的送入开口部发生碰撞而向成膜室的送入未正常地进行。

技术实现要素：

【要解决的课题】

本发明用于解决这样的问题，其目的在于提供一种在传送机器人进行的处理体的传送时，检测机器人手上的处理体的位置偏离，能够防止送入开口部处的处理体的碰撞的传送系统、传送方法、器件制造装置及器件制造方法。

【课题的解决方案】

本发明的一实施方式的传送系统从送出源腔室送出处理体并向送入目的地腔室送入，其特征在于，具有：传送机器人，所述传送机器人在机器人手部上载置所述处理体进行传送；控制部，所述控制部控制所述传送机器人的传送动作；及检测机构，所述检测机构设置在所述处理体的传送路径上，检测所述处理体在所述机器人手部上有无位置偏离，所述传送动作包括：使所述传送机器人以在所述机器人手部上载置有所述处理体的状态移动至与所述送入目的地腔室的送入开口部相向的位置的第一动作；使所述传送机器人从与所述送入开口部相向的位置朝向所述送入开口部进行直行移动而进入所述送入目的地腔室内的第二动作，所述控制部控制所述传送机器人，使得当在与所述送入目的地腔室的送入开口部相向的位置通过所述检测机构判定为所述处理体在所述机器人手部上没有位置偏离时进行所述第二动作。

本发明的一实施方式的传送方法使用传送系统，从送出源腔室送出处理体并向送入目的地腔室送入，所述传送系统具有在机器人手部上载置处理体进行传送的传送机器人、控制所述传送机器人的传送动作的控制部、及设置在所述处理体的传送路径上并检测所述处理体在所述机器人手部上有无位置偏离的检测机构，所述传送方法的特征在于，包括：使所述传送机器人以在所述机器人手部上载置有所述处理体的状态移动至与所述送入目的地腔室的送入开口部相向的位置的第一步骤；及使所述传送机器人从与所述送入开口部相向的位置朝向所述送入开口部进行直行移动而进入所述送入目的地腔室内的第二步骤，控制所述传送机器人，使得当在与所述送入目的地腔室的送入开口部相向的位置通过所述检测机构判定为所述处理体在所述机器人手部上没有位置偏离时进行所述第二步骤。

【发明效果】

根据本发明，在传送机器人对处理体进行传送时，检测机器人手上的处理体的位置偏离，能够防止送入开口部处的处理体的碰撞。

附图说明

图1是有机el显示装置的生产线的一部分的示意图。

图2是概略性地表示成膜室的结构的图。

图3是表示传送机器人的结构的示意图。

图4a～图4c及图5a～图5c是说明利用传送机器人从掩模贮存腔室送出掩模并向成膜室送入的一连串的传送动作的图。

图6a和图6b是表示本发明的一实施方式的位置偏离检测机构的设置例的图。

图7a～图7c是表示本发明的一实施方式的位置调整机构的一例的示意图。

图8是表示在向双台类型的成膜室传送掩模的传送动作中应用了本发明的实施方式的图。

图9是表示电子器件的示意图。

【符号说明】

1：成膜群集

11：成膜室

11a、11b：成膜室的开口部

12：掩模贮存腔室

13：传送室

14：传送机器人

23：机器人臂部

24：机器人手部

25：控制部

30：位置偏离检测机构

31：激光光源部

32：激光受光部

40：位置调整机构

41a、41b：掩模接触部

具体实施方式

以下，参照附图，说明本发明的优选的实施方式及实施例。但是，以下的实施方式及实施例例示性地表示本发明的优选结构，本发明的范围没有限定为这些结构。而且，在以下的说明中，装置的硬件结构及软件结构、处理的流程、制造条件、大小、材质、形状等只要没有特别特定的记载，就不旨在将本发明的范围限定于此。

本发明能够应用于一边向多个成膜室依次传送基板，一边使各种材料堆积于基板的表面进行成膜的装置，并能够优选应用于通过真空蒸镀来形成所希望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，可以选择玻璃、树脂、金属等任意的材料，而且，作为蒸镀材料，也可以选择有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等任意的材料。具体而言，本发明的技术能够应用于有机电子器件(例如，有机发光元件、薄膜太阳能电池)、光学构件等的制造装置。其中，通过使蒸镀材料蒸发并经由掩模向基板蒸镀来形成有机发光元件的有机发光元件的制造装置是本发明的优选的应用例。

<电子器件生产线>

图1是示意性地图示电子器件的生产线的结构的一部分的俯视图。

图1的生产线例如用于智能手机用的有机el显示装置的显示面板的制造。在智能手机用的显示面板的情况下，例如，对第6代基板全尺寸(约1500mm×约1850mm)或第6代基板半切断尺寸(约1500mm×约925mm)的基板进行了有机el的成膜之后，将该基板切割而制作出多个小尺寸的面板。

有机el显示装置的生产线的成膜群集1通常如图1所示，具备进行对于基板s的处理(例如，成膜)的多个成膜室11、对使用前后的掩模进行收纳的掩模贮存腔室12、以及在其中央配置的传送室13。

在传送室13内设置有在多个成膜室11之间传送基板s且用于在成膜室11与掩模贮存腔室12之间传送掩模的传送机器人14。传送机器人14是例如具有在多关节臂安装有对基板s或掩模进行保持的机器人手的结构的机器人。关于传送机器人14的结构的详情，在后文叙述。

在成膜群集1连结有在基板s的流动方向上将来自上游侧的基板s向成膜群集1传送的通路室15和将在该成膜群集1中完成了成膜处理后的基板s向下游侧的其他的成膜群集传送用的缓冲室16。传送室13的传送机器人14从上游侧的通路室15接收基板s，向该成膜群集1内的一个成膜室11传送。而且，传送机器人14从多个成膜室11的一个接收该成膜群集1中的成膜处理完成后的基板s，向在下游侧连结的缓冲室16传送。在缓冲室16与更下游侧的通路室15之间设有改变基板s的方向的回旋室17。由此，在上游侧成膜群集和下游侧成膜群集中，基板的方向变得相同，基板处理变得容易。

在掩模贮存腔室12中，供在成膜室11的成膜工序中使用的掩模及使用后的掩模被分开而收纳于多个盒中。传送机器人14将使用后的掩模从成膜室11向掩模贮存腔室12的盒传送，将掩模贮存腔室12的另一盒中收纳的新的掩模向成膜室11传送。

成膜室11、掩模贮存腔室12、传送室13、缓冲室16、回旋室17等各腔室在有机el显示面板的制造过程中维持为高真空状态。

参照图2，说明成膜室11的结构和通过成膜室11进行的蒸镀工序。如图2的(a)所示，成膜室11包括使蒸镀物质蒸发而向基板s放出的蒸发源单元100。蒸发源单元100包括收容蒸镀物质的收容部和由用于对蒸镀物质进行加热而使其蒸发的加热部等构成的蒸发源110。蒸发源110是具备多个朝向基板s的蒸镀面放出蒸镀材料的放出孔或喷嘴的结构，但是并不局限于此，只要与基板s、掩模m的图案、蒸镀物质的种类等相匹配地适当选定即可，例如，可以使用点(point)蒸发源、线(linear)蒸发源、或在小型的蒸镀物质收容部连接有具有放出蒸镀材料的多个放出孔的扩散室的结构的蒸发源等。而且，如图2的(b)所示，成膜室11还可以包括膜厚监视器114、膜厚计113、电源116、基板支架111、掩模支架112等其他的构成部件。膜厚监视器114对从蒸发源110放出的蒸镀材料的蒸发率(rate)进行监视。膜厚计113接收来自膜厚监视器114的输入信号并计测膜厚。电源116对设置于蒸发源110的加热装置进行控制。基板支架111保持基板s，能够使基板s相对于掩模m或蒸发源相对移动。掩模支架112保持掩模m，能够使掩模m相对于基板s或蒸发源110相对移动。图示的成膜室11示出了下述所谓“双台”结构的成膜室，在该成膜室中，向一个腔室内送入2个基板s，在对其中一个基板s进行蒸镀期间(例如，a侧台)，对另一基板s(例如，b侧台)进行掩模m与基板s间的对齐(对准)。

成膜室11内的蒸镀工序经由以下的过程进行。将作为蒸镀对象的基板s和形成有蒸镀图案的掩模m分别通过前述的传送机器人14向成膜室11内送入，分别配置在基板支架111及掩模支架112上。接下来，利用形成于掩模m的对准标记和形成于基板s的对准标记，进行掩模m与基板s的对准。掩模m与基板s的对准可以通过对基板支架111进行移动控制而使基板移动来进行，也可以通过对掩模支架112进行移动控制而使掩模移动来进行。对准结束后，将蒸发源110的挡板打开，一边使连接于蒸发源110的旋转移动部115移动，一边按照掩模m的图案向基板s蒸镀成膜材料。此时，水晶振子等膜厚监视器114计测蒸发率，并通过膜厚计113换算成膜厚。将蒸镀持续至通过膜厚计113换算的膜厚成为目标膜厚为止。当通过膜厚计113换算的膜厚达到目标膜厚时，将蒸发源110的挡板关闭而结束蒸镀。

以上，说明了本发明的成膜群集1，但是本发明的成膜群集1没有限定于此，也可以具有其他种类的腔室，腔室间的配置也可以不同。

以下，说明在传送室13的周围配置的各种腔室(成膜室、通路室、缓冲室、掩模贮存腔室)之间传送处理体(基板或掩模)的传送机器人14的结构、及传送机器人进行的传送动作的详情。

<传送机器人14的结构>

图3是表示传送室13内的传送机器人14的结构的示意图。

在以下的说明中，使用以与传送机器人14的机器人臂部和机器人手部的连接部的旋转轴平行的方向为z轴的xyz坐标系。

传送机器人14包括：在传送室13的底面设置的基体部21；从基体部21沿铅垂方向或z轴方向延长，能够沿z轴方向移动的轴部22；以及能够旋转地连结于轴部22的机器人臂部23。

机器人臂部23可以具有多个臂经由关节部而相互能够转动地连结的结构。例如，机器人臂部23可以包括：一端能够旋转地连结于轴部22的第一臂231；一端能够旋转地与第一臂231的另一端连结的第二臂232。在图3中，图示出2个臂经由关节部相互能够转动地连结的结构，但是本发明没有限定于此，也可以具有2个臂沿臂的长度方向相对地滑动位移且能够伸缩的结构。而且，虽然说明了第一臂231能够旋转地连结于轴部22的情况，但是没有限定于此，也可以将第一臂231固定地连结于轴部22，代之以轴部22自身旋转。

在第二臂232的另一端设有能够旋转的机器人手部24。机器人手部24具有能在其上载置基板或掩模等处理体的结构。机器人手部24为了稳定地载置处理体而可以具有从与机器人臂部连接的连接部向朝向机器人手部的自由前端的方向延长的多个手指。在机器人手部24的手指的处理体载置面，为了防止处理体的损伤，可以进行氟涂层等。

具有这样的结构的本发明的传送机器人14通过调节以轴部22为中心的第一臂231的旋转角度、第一臂231与第二臂232之间的角度、第二臂232与机器人手部24之间的角度、轴部22的高度，能够进行载置在机器人手部24上的基板或掩模等处理体的直线移动、旋转移动及它们的复合移动，能够使基板或掩模等处理体移动到xyz坐标系上的任意的所希望的位置。

控制部25控制传送机器人14的动作。控制部25通过具有处理器、存储器、贮存器、i/o等的计算机来具体实现。例如，控制部25包括：储存有用于控制传送机器人14的传送动作的程序的存储部251；执行该存储部251储存的程序来控制传送机器人14的处理器252。作为计算机，可以使用通用的个人计算机，也可以使用嵌入式的计算机或plc(programmablelogiccontroller，可编程序逻辑控制器)。或者，可以通过asic或fpga那样的电路来构成控制部25的功能的一部分或全部。在本实施例中，说明了控制部25与传送机器人14另行设置的情况，但是本发明没有限定于此，也可以是传送机器人14具有控制部25。

<传送动作的详情>

以下，关于传送机器人14进行的传送动作的详情，以掩模m的传送为例来说明。

图4a～图4c及图5a～图5c示出通过传送机器人14从掩模贮存腔室12送出使用前的掩模m并向成膜室11送入时的一连串的过程。在本实施方式中，示出向成膜室11内分别送入一个基板和1个掩模进行蒸镀的情况，但是本发明没有限定于此，例如，当然也能够如前所述适用于向所谓“双台”类型的成膜室的处理体(基板或掩模)的传送，在“双台”类型的成膜室中，向成膜室内分别送入2个基板s和2个掩模，在对一个基板进行蒸镀期间对另一个基板进行基板/掩模间的对准。

首先，传送机器人14为了送出使用前的掩模m而使机器人手部24位于向掩模贮存腔室12内进入之前的第一待机位置(图4a)。第一待机位置是传送机器人14的机器人臂部23收缩(机器人臂部23的关节以第一臂与第二臂之间的角度减小的方式折叠)，机器人手部24的自由前端指向掩模贮存腔室12的开口部12a的状态。更具体而言，本实施方式中的第一待机位置是将机器人臂部23收缩成机器人手部24的自由前端最接近位于传送室13的中央的传送机器人14的旋转轴(轴部22)的位置。

接下来，从该第一待机位置，使机器人臂部23伸长(即，以使第一臂与第二臂之间的角度增大的方式扩展机器人臂部23的关节)，使机器人手部24通过开口部12a而进入至掩模贮存腔室12内的掩模送出位置之后，通过机器人手部24接收掩模m(图4b)。

接下来，接收了掩模m的机器人手部24借助机器人臂部23的收缩动作，通过开口部12a而向掩模贮存腔室12之外后退，返回第一待机位置(图4c)。

接下来，机器人臂部23维持收缩状态，而且以传送机器人14的旋转轴(轴部22)为中心回旋，载置有掩模m的机器人手部24的自由前端移动到指向成膜室11的开口部11a的第二待机位置(图5a)。

接下来，使机器人臂部23再次伸长，由此使载置有掩模m的机器人手部24利用直行动作通过开口部11a而进入至成膜室11内的掩模送入位置(图5b)。然后，向成膜室11内的掩模支架112交接了掩模m之后，机器人手部24借助机器人臂部23的收缩动作通过开口部11a而向成膜室11之外后退，返回第二待机位置(图5c)。以上的一连串的传送机器人14的动作在前述的控制部25的控制下进行。

在以上的一连串的传送过程中，掩模m可能在机器人手部24上产生位置偏离。如前所述，掩模m载置于机器人手部24，从掩模贮存腔室12送出并向作为送入目的地的成膜室11送入为止的过程大致区分为机器人手部24向第一待机位置后退的动作、从第一待机位置向第二待机位置回旋的动作、从第二待机位置直行而进入成膜室11内的动作。在此，将向作为送入目的地的成膜室11内直行而进入的动作称为“第二动作”，将除了第二动作以外的之前进行的一连串的动作(基于机器人臂的收缩的向传送室内的待机位置的后退动作、及向与成膜室的送入开口部11a相向的位置的回旋动作等)称为“第一动作”。

机器人手部24上的掩模m的位置偏离在这样的传送动作中的第一动作，特别是其中向与成膜室11的送入开口部11a相向的位置回旋的动作中发生的可能性高。即，可能会由于进行回旋动作时产生的离心力而产生机器人手部24上的掩模m的位置偏离。特别是随着有机el显示装置的大型化而基板及掩模也大型化、高重量化，在这样的回旋动作时发生位置偏离的可能性进一步升高。

如果未能识别这样的机器人手部24上的掩模m的位置偏离而向前述的第二动作(使机器人臂部23伸长而使机器人手部24直行并进入成膜室11内的动作)转移，则偏离的掩模m会与成膜室11的送入开口部11a的外壁碰撞而无法正常地送入到成膜室11内。

在此，在本发明中，在传送室13设置有检测机构，在使载置有掩模m的机器人手部24向成膜室11的送入开口部11a进行直行移动(第二动作)之前，该检测机构用于确认机器人手部24上的掩模m有无位置偏离。

<位置偏离检测机构>

图6a和图6b是表示本发明的一实施方式的位置偏离检测机构的设置例的示意图。

图6a是表示从掩模贮存腔室12送出了掩模m之后，即将进行前述的第二动作(使机器人臂部23伸长而使机器人手部24直行并进入成膜室11内的动作)之前的状态的俯视图。图6b是从成膜室11的送入开口部11a侧观察图6a的状态的主视图。

如上所示，在本发明的一实施方式中，在从上方观察传送室13时，在与成膜室11的开口部11a相向的位置，位置偏离检测机构30设置于在传送机器人14载置有掩模m的状态下进行回旋动作的旋转半径(r)的范围内接近开口部11a侧的两处。具体而言，以比载置于机器人手部24的掩模m的宽度(w1)(从送入/送出方向观察时的宽度)稍宽的间隔(w2)配置于掩模两侧的相向的位置。

换言之，在前述的第二动作(向送入目的地的成膜室11直行移动而进入的动作)开始时成为移动的前端的掩模m的两侧位置配置检测机构30。通过将位置偏离检测机构30配置于该位置，在等候朝向作为送入目的地的成膜室11最终进行直行移动的第二动作的时点，能够最终确认机器人手部24上放置的掩模m的载置状态(有无位置偏离)。即，通过配置在第二动作的移动前端位置的检测机构30来最终确认在最后的直行移动即第二动作之前进行的(包含回旋动作等的)第一动作时机器人手部24上是否存在掩模m的位置偏离。

在从上方观察时，配置两处检测机构30的间隔(w2)可以在比位置偏离检测对象即掩模m的宽度(w1)大的范围内适当选择。虽然根据容许位置偏离的范围也可以扩宽检测机构30的配置间隔(w2)，但是如果以比成膜室11的送入开口部11a的宽度(w3)宽的间隔配置检测机构30，则会产生下述问题，即尽管发生与送入开口部11a的外壁发生碰撞的程度的大的位置偏离，但是未能将其检测为位置偏离，因此位置偏离检测机构30的配置间隔(w2)优选比成膜室11的送入开口部11a的宽度(w3)窄。即，为了有效的偏离检测，优选将配置在第二动作时的移动前端位置的检测机构30的配置间隔(w2)设定得比机器人手部24上载置的处理体(掩模m)的宽度(w1)大，且比送入目的地(成膜室11)的开口部的宽度(w3)小。而且，在处理体的传送路径上具有比成膜室11的送入开口部11a的宽度(w3)窄的场所(w4)的情况下，优选使检测机构30的配置间隔(w2)比窄的场所(w4)更窄。

作为位置偏离检测机构30的具体的实施方式，在本实施例中，如图6b所示，使用包含激光光源部31和激光受光部32的激光传感器。激光光源部31在形成传送室13的真空容器13a的铅垂方向上表面的外侧，具有前述的配置间隔(w2)地配置在前述的成为第二动作的移动前端的两处位置。激光受光部32具有相同配置间隔(w2)地配置在与上述的激光光源部31相向的真空容器13a的铅垂方向下表面的外侧。

即，从激光光源部31经由设置在真空容器13a上表面的窗来照射激光束，经由在真空容器13a下表面设置的窗，利用激光受光部31来接收该照射的激光束，由此确认激光束的路径是否被掩模m隔断，从而检测掩模m有无位置偏离。

激光光源部31和激光受光部32的配置没有限定于此，也可以为相反的配置，即，在真空容器13a的铅垂方向下表面的外侧设置激光光源部31，在真空容器13a的铅垂方向上表面的外侧设置激光受光部32。而且，在将激光受光部32与激光光源部31设置于相同侧(例如，将两方设置于真空容器13a的铅垂方向上表面的外侧)且掩模m位于光路径中的情况下，可以通过检测有无来自掩模m的反射光来确认掩模m的位置偏离。

如以上所述，在本发明中，为了防止在传送动作中位置偏离了的掩模m在向成膜室11送入时与开口部11a碰撞的问题，在使载置有掩模m的机器人手部24向作为送入目的地的成膜室11最终进行直行移动的第二动作的开始位置，通过检测机构30，最终确认机器人手部24上的掩模m有无位置偏离。

在通过检测机构30检测到位置偏离的情况下，控制部25对传送机器人14进行控制，暂缓使机器人手部24向成膜室11内进行直行移动的第二动作。

同时，控制部25可以进行控制，以将这样的位置偏离的检测及第二动作被暂缓的情况利用另行设置的灯等视觉性的通知机构及/或警报等听觉性的通知机构等向作业者通知。

另外，也可以在传送室13内的规定区域设置位置调整机构，当检测到机器人手部24上的掩模位置偏离时，如前所述将向成膜室11内的直行移动即第二动作临时暂缓，使机器人手部24向所述位置调整机构的方向移动来调整掩模m在机器人手部24上的位置。

图7a、图7b、图7c是表示这样的位置调整机构的一例的示意图。图7a是用于说明位置调整机构的配置区域的俯视图，图7b及图7c是用于说明位置调整机构的动作的主视图。

位置调整机构40包括通过隔着掩模m从两侧与掩模m的相向边的端面接触来调整掩模m的位置的一对掩模接触部41a、41b。一对掩模接触部41a、41b通过在形成传送室13的真空容器13a的铅垂方向上表面的外侧设置的各个驱动部42a、42b能够移动。具体而言，掩模接触部41a、41b以能够进行与掩模m载置面垂直的铅垂方向上的上下移动(z方向移动)、朝向隔着掩模m相向的掩模接触部的方向上的前后移动(y方向移动)、及与上述两个方向垂直地沿着掩模m的相向边的方向上的移动(x方向移动)的方式，由各个驱动部42a、42b进行驱动控制。

掩模接触部41a、41b在通常的状态下，如图7c所示，处于上升到传送室13的真空容器13a的铅垂方向上部附近的状态。通过检测机构30检测机器人手部24上的掩模位置偏离，当载置有掩模m的机器人手部24向位置调整机构40侧移动时，位置调整机构40的掩模接触部41a、41b由各个驱动部42a、42b驱动，沿z方向下降移动至夹着掩模m的位置。在该状态下，如图7b的箭头所示，掩模接触部41a、41b通过各个驱动部42a、42b的控制，一边反复进行朝向相向的掩模m的边的方向(y方向)上的前后移动和沿着掩模m的边的方向(x方向)上的移动，一边通过对于掩模m的端面的接触来修正掩模在机器人手部24上的位置偏离。当位置偏离的修正结束时，掩模接触部41a、41b再次向传送室13的真空容器13a的铅垂方向上部附近上升而移动到退避位置(图7c)。

这样，当掩模m在机器人手部24上的位置偏离修正完成时，机器人手部24恢复到与掩模m的送入目的地即成膜室11的开口部11a相向的位置，如果再一次进行前述的位置偏离检测动作并判定为无位置偏离，则进行暂缓的向成膜室11的直行动作即第二动作，向成膜室11内送入掩模m。

以上，说明了本发明的一实施方式，但是本发明没有限定为该例的结构。例如，在前述的实施方式中，说明了使用激光传感器作为位置偏离检测机构30的例子，但是位置偏离检测机构也可以是光电传感器或相机(包括光电转换元件)那样的其他的光学机构。例如，可以对在利用相机拍摄到的图像内是否检测到以位置偏离为起因的掩模的边缘进行图像解析，来检测有无位置偏离。光电变换元件也可以是ccd传感器、cmos传感器。

另外，在前述的实施方式中，说明了在传送机器人14以最小旋转半径(r)回旋的旋转范围，即，载置有掩模m的机器人手部24的自由前端以最接近传送机器人14的旋转轴(轴部22)的状态进行旋转时的旋转半径范围内设置位置偏离检测机构30的例子(参照图6a)，但是没有限定于此，也可以在机器人手部24的自由前端从传送机器人14的旋转轴更分离的距离处使传送机器人14回旋，在该旋转半径范围内设置位置偏离检测机构30。不过，传送机器人14载置掩模m等处理体而回旋的旋转半径越小，则在回旋动作时作用的离心力的大小也越小，相应地在机器人手部24上处理体发生位置偏离的可能性也越小，因此传送机器人14回旋的旋转半径及位置偏离检测机构的设置位置更优选如前述的实施方式那样设定在最小旋转半径范围内。

另外，位置偏离检测机构30的设置数不仅设为如前述的实施方式那样接近成膜室11的开口部11a侧的两处的位置(向成膜室的直行移动即第二动作开始时的成为移动前端侧的掩模的两侧位置)，还可以在掩模的相反侧端部(接近传送机器人14的旋转轴的端部)侧再设置一处或两处，从而在合计三处以上的位置设置位置偏离检测机构。这样，在掩模的相反侧端部的位置通过追加也设置检测机构的情况下，能够更可靠地检测掩模在机器人手部24上有无位置偏离，在向成膜室11的送入动作时能够进一步减少开口部11a处的碰撞可能性。

另外，在以上说明的实施方式中，主要以从掩模贮存腔室送出掩模并将其向成膜室送入的动作为中心进行了说明，但是在将基板作为处理体传送的情况下，即，在从通路室送出基板并向成膜室送入的动作，或者将成膜处理后的基板从成膜室送出并向缓冲室送入等的传送动作中也可以适用本发明。

另外，如图8那样，在处理体的送入用的开口部为2个时(例如，向一个成膜室内送入2个基板和2个掩模的“双台”类型时等)的处理体(基板或掩模)的传送中当然也可以适用本发明。在该情况下，从掩模贮存腔室12向成膜室11传送掩模m的传送动作包括：从掩模贮存腔室接收到掩模m的传送机器人14的机器人手部24向传送室13后退的动作；载置有掩模m的机器人手部24回旋至成膜室11的正面中央部的动作；从成膜室11的正面中央部向与成膜室11的2个开口部11a、11b中的1个开口部11a相向的位置平行移动的动作；以及朝向开口部11a直行移动而向成膜室11内最终送入掩模m的动作，与前述的实施方式同样，将最后朝向开口部11a直行移动的动作设为第二动作，在该第二动作即将开始之前的位置处能够检测、确认掩模m在机器人手部24上的位置偏离。

<电子器件的制造方法>

接下来，说明使用了本实施方式的成膜装置的电子器件的制造方法的一例。以下，作为电子器件的例子而例示出有机el显示装置的结构及制造方法。

首先，说明制造的有机el显示装置。图9的(a)表示有机el显示装置60的整体图，图9的(b)表示1个像素的剖面结构。

如图9的(a)所示，在有机el显示装置60的显示区域61，将具备多个发光元件的像素62呈矩阵状地配置多个。发光元件分别具有具备由一对电极夹持的有机层的结构，详情在后文进行说明。需要说明的是，在此所说的像素是指在显示区域61能够进行所希望的颜色显示的最小单位。在本实施例的有机el显示装置的情况下，通过表现出互不相同的发光的第一发光元件62r、第二发光元件62g、第三发光元件62b的组合来构成像素62。像素62多由红色发光元件、绿色发光元件、蓝色发光元件的组合构成，但也可以是黄色发光元件、青绿色发光元件、白色发光元件的组合，只要为至少1个颜色以上即可，没有特别限制。

图9的(b)是图9的(a)的a-b线的局部剖视示意图。像素62在基板63上具有有机el元件，该有机el元件具备阳极64、空穴传输层65、发光层66r、66g、66b的任一个、电子传输层67、以及阴极68。在它们之中，空穴传输层65、发光层66r、66g、66b、电子传输层67相当于有机层。而且，在本实施方式中，发光层66r是发出红色的有机el层，发光层66g是发出绿色的有机el层，发光层66b是发出蓝色的有机el层。发光层66r、66g、66b分别形成为与发出红色、绿色、蓝色的发光元件(有时也记述为有机el元件)对应的图案。而且，阳极64按照各发光元件而分离形成。空穴传输层65、电子传输层67以及阴极68可以与多个发光元件62r、62g、62b共用地形成，也可以按照各发光元件形成。需要说明的是，为了防止阳极64与阴极68因杂质发生短路而在阳极64间设置有绝缘层69。此外，由于有机el层因水分或氧而劣化，因此设置有用于保护有机el元件免于遭受水分或氧的保护层70。

在图9的(b)中，空穴传输层65或电子传输层67由一个层表示，但是根据有机el显示元件的结构，也可以由包含空穴阻挡层或电子阻挡层的多个层形成。而且，在阳极64与空穴传输层65之间也可以形成空穴注入层，该空穴注入层具有能够使空穴从阳极64向空穴传输层65的注入顺畅地进行的能带结构。同样，在阴极68与电子传输层67之间也可以形成电子注入层。

接下来，具体说明有机el显示装置的制造方法的例子。

首先，准备形成有用于驱动有机el显示装置的电路(未图示)及阳极64的基板63。

在形成有阳极64的基板63上通过旋涂形成丙烯酸树脂，将丙烯酸树脂通过光刻法以在形成有阳极64的部分形成开口的方式进行制图来形成绝缘层69。该开口部相当于发光元件实际发光的发光区域。

将制图有绝缘层69的基板63向第一有机材料成膜装置送入，利用基板保持单元以及静电卡盘保持基板，将空穴传输层65在显示区域的阳极64上成膜为共用的层。空穴传输层65通过真空蒸镀来成膜。实际上空穴传输层65形成为比显示区域61大的尺寸，因此不需要高精细的掩模。

接下来，将连空穴传输层65都形成了的基板63向第二有机材料成膜装置送入，利用基板保持单元以及静电卡盘进行保持。进行基板与掩模的对准，将基板载置于掩模上，在基板63的配置发出红色的元件的部分成膜出发出红色的发光层66r。

与发光层66r的成膜同样地，通过第三有机材料成膜装置成膜出发出绿色的发光层66g，而且通过第四有机材料成膜装置成膜出发出蓝色的发光层66b。在发光层66r、66g、66b的成膜完成之后，通过第五成膜装置在显示区域61的整体成膜出电子传输层67。电子传输层67在3色的发光层66r、66g、66b形成为共用的层。

使连电子传输层67都形成了的基板在金属性蒸镀材料成膜装置中移动而成膜出阴极68。

然后，向等离子体cvd装置移动而成膜出保护层70，有机el显示装置60完成。

从将制图有绝缘层69的基板63向成膜装置送入至保护层70的成膜完成为止，如果暴露在包含水分或氧的气氛中，则由有机el材料构成的发光层可能因水分或氧而劣化。因此，在本例中，在真空气氛或非活性气体气氛下进行成膜装置间的基板的送入送出。

上述实施例表现了本发明的一例，本发明没有限定为上述实施例的结构，在其技术思想的范围内可以适当变形。