技术总结
一种用于处理基板的设备，包括：腔室，其具有供在其中处理基板的处理空间；基板支撑单元，其在处理空间中支撑基板；气体供应单元，其向处理空间内供应气体；排气管线，其连接到腔室；和减压构件，其降低排气管线中的压力并释放在处理空间中产生的工艺副产物。排气管线包括：第一管线，其连接到腔室；第二管线，其配备有减压构件；和过滤管，该过滤管连接第一管线和第二管线，并且，该过滤管具有波纹状侧表面。该过滤管具有波纹状侧表面。该过滤管具有波纹状侧表面。
技术研发人员：金成烨 李石鲁 魏永勋
受保护的技术使用者：细美事有限公司
技术研发日：2020.07.22
技术公布日：2021/1/29