浊液，用空气或者氮气干燥。然后用无水酒精清洁镜面及周边的指纹、水渍等污染痕迹。
[0027](5)通过肉眼或者必要器具检查镜面是否有薄膜残余。如果镜面上残膜面积较大，重复步骤(I)?(4) 一至三次。
[0028]下面通过实施例对本发明技术方案作进一步说明，但是本发明并不局限于此。在阅读了本发明记载的内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，但这些等效变化和修饰同样落入本发明权利要求所限定的范围。
[0029]实施例1:
[0030]对达到使用寿命的以含铬材料为粘着层的老旧银反射薄膜进行退膜处理，其膜系结构如图2所示。
[0031]如图1所示，一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其步骤包含使用去离子水和无水酒精清洁薄膜表面、试剂I去银、试剂2去铬和试剂3缓冲研磨及水洗干燥步骤。
[0032]先用去离子水冲洗镜面3遍，干燥后，再用蘸有无水酒精的脱脂棉球均匀擦拭表面3遍。而后，将薄膜浸入由市售浓度为36?38%的盐酸与去离子水体积比为1:3、包含五水合硫酸铜20g/L的试剂I中2小时，期间每隔半小时用脱脂棉球对镜面进行擦拭，用去离子水冲洗、干燥。接着将浓度为70%的硝酸和硝酸铈氨分别按照90ml/L、165g/L的比例溶入去离子水制成试剂2，用蘸有试剂2的脱脂棉球均匀擦拭表面10分钟后，用去离子水冲洗、干燥。然后将100g/L的碳酸氢钠悬浊液作为试剂3，涂撒在元件光学表面，用脱脂棉球均匀擦拭10分钟后，用去离子水冲净，再涂抹试剂3、擦拭，反复3次。最后用去离子水冲净，干燥，用蘸有无水酒精的脱脂棉球擦拭表面。
[0033]经过以上退膜工艺处理后，旧膜被完全除去，元件表面质量良好，到达重新镀制银反射薄膜的要求，无需其他如抛光的冷加工过程。
[0034]实施例2:
[0035]对不合格的以含铬材料为粘着层的银反射薄膜进行退膜返工，其膜系结构如图2所示。
[0036]退膜步骤如实施例1，其详细操作过程如下:
[0037]先用去离子水冲洗镜面I遍，干燥后，再用蘸有无水酒精的脱脂棉球均匀擦拭表面I遍。而后，将薄膜浸入由市售浓度为36?38%的盐酸与去离子水体积比为1:2、包含五水合硫酸铜25g/L的试剂I中2小时，期间每隔半小时用脱脂棉球对镜面进行擦拭，用去离子水冲洗、干燥。接着将浓度为70%的硝酸和硝酸铈氨分别按照90ml/L、165g/L的比例溶入去离子水制成试剂2，用蘸有试剂2的脱脂棉球均匀擦拭表面10分钟后，用去离子水冲洗、干燥。然后将100g/L的碳酸氢钠悬浊液作为试剂3，涂撒在表面，用脱脂棉球均匀擦拭10分钟后，用去离子水冲净，再涂抹试剂3、擦拭，反复3次。最后用去离子水冲净，干燥，用蘸有无水酒精的脱脂棉球擦拭表面。检查元件表面发现局部还有未去除的银反射膜，于是重复上述步骤一次。
[0038]经过以上退膜工艺处理后，报废的银反射薄膜被完全除去，元件表面质量良好，到达重新镀制银反射薄膜的要求，无需其他如抛光的冷加工过程。
【主权项】
1.一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其特征在于实现步骤如下: 步骤(I)、用去离子水冲洗薄膜表面3?5遍后，干燥，再用蘸有无水酒精的脱脂棉球均匀擦拭表面； 步骤(2)、将薄膜浸没在试剂I中I?3小时，期间用脱脂棉球来回擦拭薄膜表面，然后，用去离子水冲洗，干燥； 步骤(3)、在表面残余薄膜上用蘸有试剂2的脱脂棉球均匀擦拭5?30分钟，然后，用去离子水冲洗，干燥； 步骤(4)、将试剂3涂抹在表面，均匀擦拭5?30分钟，然后，用去离子水冲洗3?5遍，干燥，用蘸有无水酒精的脱脂棉球均匀擦拭表面。2.根据权利要求1所述的一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其特征在于:所述试剂I中36%?38%浓度的盐酸与去离子水体积比为1:1?4，包含10?40g/L五水合硫酸铜；所述试剂2中每升溶液含有浓度为70%的硝酸50?120ml、硝酸铈氨100?200g ;所述试剂3中每升溶液中碳酸氢钠不低于80g。3.根据权利要求1所述的一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其特征在于:可将薄膜浸没于试剂I中和用去离子水冲洗表面，反复I?3次，直至银膜被完全除去。4.根据权利要求1所述的一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其特征在于:用蘸有试剂2的脱脂棉球均匀擦拭表面和用去离子水冲洗表面，反复I?3次，至残余粘着层完全消除。5.根据权利要求1所述的一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其特征在于:涂抹试剂3前应将悬浊液搅拌均匀后，涂抹于玻璃基底表面。6.根据权利要求1所述的一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其特征在于:用试剂3擦拭、去离子水冲洗后，用干燥空气或者干燥氮气吹干，用蘸有无水酒精的脱脂棉球均匀擦拭表面。7.根据权利要求2所述的一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其特征在于:使用所述的试剂3的过程中，保持温度不高于50°C。
【专利摘要】本发明公开了一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺，其包含使用去离子水和无水酒精清洁薄膜表面、试剂1去银、试剂2去铬和试剂3缓冲研磨、水洗干燥及无水酒精清洁步骤。试剂1由36％～38％浓度的盐酸、五水合硫酸铜及去离子水组成，试剂2由70％浓度的硝酸、硝酸铈氨及去离子水组成，试剂3由碳酸氢钠和去离子水组成。用量为：1L试剂1中盐酸和去离子水的体积比例为1:1～4，所需五水合硫酸铜10～40g/L；1L试剂2所需硝酸50～100ml、硝酸铈氨100～200g；试剂3需要过量碳酸氢钠与去离子水形成悬浊液。退膜工艺中不含氢氟酸HF和诸如氢氧化钠NaOH、氢氧化钾KOH之类强碱等物质。
【IPC分类】H01L31/0216
【公开号】CN104882494
【申请号】CN201510202701
【发明人】何文彦, 王长军, 李斌成
【申请人】中国科学院光电技术研究所
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年4月27日