后，第一层载物台停止，其停止位置满足于离子束穿过第一层载物台上的离子束窗口。此时，第二层载物台及其下方的载物台继续旋转，第二层载物台上的基片进行刻蚀；以此往复，逐渐递减，完成每层载物台上的基片的刻蚀。
[0019]利用本实施例中的系统具有如下刻蚀方法:
打开离子源2使其发出离子束，驱动旋转轴4旋转，此时第一层载物台3随旋转轴4旋转。第一层载物台3上具有若干基片，离子源2所发出的离子束穿过修正板7上的离子束窗口对第一层载物台3上的基片进行刻蚀。当承载在载物台表面的基片全部通过离子源2刻蚀完毕后，将第一层载物台上的离子束窗口 6调整至与修正板7上开设的离子束窗口俯视时重叠并固定。此时，第一层载物台上的离子束窗口与修正板7上的离子束窗口在高度方向上构成位置重叠。
[0020]保持所述第一层载物台静止，驱动所述旋转轴旋转，使位于旋转轴4轴向的第二层载物台所承载的基片依次经过修正板7上的离子束窗口和第一层载物台上的离子束窗口，使离子束穿过修正板7上的离子束窗口和第一层载物台上的离子束窗口对第二层载物台所承载的基片依次进行刻蚀。
[0021]当对第i层(i为I至η层之间的任一层载物台)载物台上基片进行刻蚀时，第一层至第(1-Ι)层载物台上的离子束窗口 6与修正板7的窗口呈俯视重叠位并固定，即使得离子源2可通过离子束窗口依次穿过修正板7以及第一层至第(1-Ι)层载物台后，对第i层载物台所承载的基片进行刻蚀。刻蚀完毕后，将第i载物台上的离子束窗口 6通过旋转轴4的旋转调整至与修正板7上的窗口以及第一层至第(1-Ι)层载物台上的离子束窗口呈俯视重叠位并固定后，开始进行下一载物台(第i+Ι层)上所承载的基片的刻蚀，以此往复直至本次所有载物台上的所有基片的刻蚀工作完毕。
[0022]本实施例在具体实施时:根据每一层载物台在刻蚀时与离子源2之间的距离的不同，调整离子源2的参数、功率、刻蚀时间，离子源2的调整满足于每一层载物台上的基片的刻蚀精度要求。在具体使用时，可配备自动化的控制器或控制系统来控制离子源2的工作状态，从而提高刻蚀作业的精度和效率。
[0023]载物台3上设置有若干工位，每个工位均承载有基片。旋转轴4所带动的载物台3的旋转的角度满足于，每次转动均有一个工位对准其上方的修正板或载物台上的离子束窗口，即当旋转轴4每旋转一次，一个工位内的基片被离子束刻蚀，保持旋转轴4的转向，依次完整载物台3上所有工位内的基片的离子束刻蚀。
[0024]虽然以上实施例已经参照附图对本发明目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本发明作出各种改进和变换，如:载物台3的形状、大小，离子束窗口 6的形状、大小等，故在此不一一赘述。
【主权项】
1.一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，包括离子源和载物台，所述离子源对承载于所述载物台上的基片进行刻蚀，其特征在于:所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口，所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应，满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。2.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于:所述载物台上方设置有修正板，所述修正板上开设有所述离子束窗口。3.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于:所述离子束窗口的轮廓形状、大小与所述基片的轮廓形状、大小吻合适配。4.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于:位于所述旋转轴轴向最底部的所述载物台为完整平台。5.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于:所述系统包括控制器，所述控制器根据所述载物台的层数信息连接控制所述离子源的工作状??τ O6.根据权利要求1所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统，其特征在于:若干所述载物台可随所述旋转轴同时旋转。7.一种涉及权利要求1-6所述的具备多层载物能力的离子束刻蚀系统的刻蚀方法，其特征在于:所述刻蚀方法至少包括以下步骤: 打开所述离子源使其发射离子束，同时驱动所述旋转轴旋转，使位于所述旋转轴轴向最顶部的第一层载物台所承载的基片依次经过所述修正板上的所述离子束窗口，使所述离子束穿过所述修正板上的所述离子束窗口对所述第一层载物台所承载的基片依次进行刻蚀； 当所述第一层载物台所承载的基片全部经所述离子束刻蚀完毕后，驱动所述旋转轴旋转，使所述第一层载物台上的离子束窗口位于所述修正板上的所述离子束窗口下方，两个离子束窗口构成高度方向上的位置重叠； 保持所述第一层载物台静止，驱动所述旋转轴旋转，使位于所述旋转轴轴向的第二层载物台所承载的基片依次经过所述修正板上的所述离子束窗口和所述第一层载物台上的所述离子束窗口，使所述离子束穿过所述修正板上的所述离子束窗口和所述第一层载物台上的所述离子束窗口对所述第二层载物台所承载的基片依次进行刻蚀； 以此往复，完成所述旋转轴上所有载物台上的基片的离子束刻蚀。8.根据权利要求7所述的一种具备多层载物能力的离子束刻蚀系统的刻蚀方法，其特征在于:根据每一层载物台在刻蚀时与所述离子源之间的距离的不同，调整所述离子源的参数、功率、刻蚀时间，所述离子源的调整满足于每一层载物台上的基片的刻蚀精度要求。
【专利摘要】本发明涉及微细加工技术领域，尤其是具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法，其特征在于：所述系统包括若干载物台和旋转轴，所述载物台沿所述旋转轴的轴向间隔设置在所述旋转轴上，所述载物台可随所述旋转轴转动，所述载物台上开设有离子束窗口，所述离子束窗口的开设位置与所述离子源所发射的离子束构成位置对应，满足于所述离子源所产生的离子束可穿过的要求。本发明的优点是：提高了离子束刻蚀系统单次开机所能刻蚀的基片总数量，降低了批量作业时离子束刻蚀系统的开停机次数，提高了离子束刻蚀系统利用率，减少了工时，满足刻蚀工作需要。
【IPC分类】H01J37/305, H01J37/20
【公开号】CN105047512
【申请号】CN201510284879
【发明人】戴秀海, 余海春, 龙汝磊
【申请人】光驰科技(上海)有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年5月29日