信息，运算处理器100类似于根据第一实施例的位置识别器42。
[0081]图13是在对成像装置70进行调节中调节装置90的处理的程序的流程图。这里，在图13的流程图中从步骤SlOl到S105的流程适用于根据第一实施例的对成像装置10的调节。
[0082]在对成像装置70进行调节中，调节装置90首先使得检验光产生器60工作，以在依次改变检验光的波长的同时使得具有单色性的检验光进入成像装置70的滤光单元2 (步Ms1Do
[0083]接下来，调节装置90的光谱响应重合度计算器101获得由成像装置70的光接收元件阵列4输出的该组光场图像(步骤S102)，并且基于该组光场图像来计算构成光场图像的每一个像素的光谱响应度(步骤S103)。
[0084]接下来，光谱响应重合度计算器101对于构成光场图像的每一个像素计算表示在步骤S103所计算出的光谱响应度与期望的波长选择性之间的重合度的光谱响应重合度(步骤 S104) ο
[0085]接下来，调节装置90的位置识别器102使用通过由光谱响应重合度计算器101进行的处理所获得的每一个像素的光谱响应重合度来识别宏观像素内的对应于滤光单元2的滤光区域FX、FY以及Fz的图像区域MX、MY以及Mz的各个位置(步骤S105)，并结束成像装置70的调节。
[0086]如到目前为止所说明的，在第二实施例中，调节装置90被配置成对于光场图像的每一个像素进行计算光谱响应重合度的处理，并且通过使用光谱响应重合度识别图像区域Mx、My以及Mz的位置并在存储单元45中存储位置信息的处理。因此，可以在减少在成像装置70中的处理的负载的同时，获得与第一实施例相同的优点。
[0087]第一变形例
[0088]在第一和第二实施例种，衍射光栅63、狭缝64以及移位单元65构成检验光产生器60的光谱单元62。然而，本发明不限于这个实例，例如，使用颜料的吸收滤光片或者使用多层电介质的干涉滤光片可被用作光谱单元62。
[0089]第二变形例
[0090]在第一和第二实施例中，氙灯被用作检验光产生器60的光源61。然而，本发明不限于氙灯和卤灯，例如，发光二极管等等可被用作光源61。因为卤灯虽然在短波长侧的光强度低于氙灯，但是其具有类似于氙灯的在大波长范围的强度，因此，卤灯可用作光源61。此夕卜，尽管发光二极管相比于氙灯和卤灯波长的范围大体上是窄的，但是发光二极管可被用作光源61。
[0091]根据如上所述的实施例，有能够精确地识别图像内对应于滤光单元的每个滤光区域的位置的优点。
[0092]虽然本发明已相对具体的实施例被描述用于完全的和清楚的公开，但是所附权利要求并不因此被限制，而是被解释为具体化完全属于在此阐述的基本教导的本领域技术人员可以想到的所有修改以及替代构造。
【主权项】
1.一种成像装置，其特征在于，包括: 滤光单元，所述滤光单元包括具有不同波长选择性的多个滤光区域； 光接收元件阵列，所述光接收元件阵列被配置成接收透射通过所述滤光单元的光并输出图像； 存储单元，所述存储单元被配置成对于每一个所述滤光区域，存储位置信息，所述位置信息指示在所述光接收元件阵列上接收透射通过每一个所述滤光区域的光的位置； 区域检测器，所述区域检测器被配置成当来自物体的光进入所述滤光单元时，基于所述位置信息，从所述光接收元件阵列输出的所述图像中检测与透射通过每一个所述滤光区域的所述光相对应的图像区域；以及 颜色检测器，所述颜色检测器被配置成基于检测到的图像区域的输出值，检测所述物体的颜色， 其中，对应于每一个所述滤光区域的所述位置信息指示通过使用光谱响应重合度被识别的所述光接收元件上的位置，所述光谱响应重合度指示每一个像素的光谱响应度与期望的波长选择性之间的重合度，当具有不同的波长的单色的检验光依次进入所述滤光单元时，基于所述光接收元件输出的一组图像来计算每一个像素的所述光谱响应度。2.如权利要求1所述的成像装置，其特征在于，进一步包括: 光谱响应重合度计算器，所述光谱响应重合度计算器被配置成计算每一个像素的所述光谱响应重合度；以及 位置识别器，所述位置识别器被配置成通过使用所述光谱响应重合度来识别在所述光接收元件阵列上接收透射通过每一个所述滤光区域的所述光的所述位置，并且在所述存储单元中存储指示识别出的位置的所述位置信息作为对应于每一个所述滤光区域的所述位置信息。3.如权利要求1或2所示的成像装置，其特征在于， 所述光谱响应重合度是所述期望的波长选择性与所述光谱响应度的内积。4.如权利要求1或2所述的成像装置，其特征在于， 所述滤光单元包括具有基于颜色匹配函数的光谱透射率的至少三个滤光区域。5.一种用于调节成像装置的调节装置，其特征在于，所述成像装置包括滤光单元、光接收元件阵列以及存储单元，所述滤光单元包括具有不同的波长选择性的多个滤光区域，所述光接收元件阵列被配置成接收透射通过所述滤光单元的光并输出图像，所述存储单元被配置成对于每一个所述滤光区域，存储位置信息，所述位置信息指示在所述光接收元件阵列上接收透射通过每一个所述滤光区域的光的位置，所述调节装置包括: 检验光产生器，所述检验光产生器被配置成使得具有不同波长的单色检验光依次进入所述滤光单元； 光谱响应重合度计算器，所述光谱响应重合度计算器被配置成当所述检验光进入所述过滤单元时，基于所述光接收元件阵列输出的一组图像，计算每一个像素的光谱响应度，以及计算指示期望的波长选择性与所述光谱响应度之间的重合度的光谱响应重合度；以及 位置识别器，所述位置识别器被配置成通过使用所获得的光谱响应重合度来识别在所述光接收元件阵列上接收透射通过每一个所述滤光区域的所述光的所述位置，并且在存储单元中存储指示识别出的位置的所述位置信息作为对应于每一个滤光区域的所述位置信息。6.如权利要求5所述的调节装置，其特征在于， 所述检验光产生器包括光源和光谱单元，所述光谱单元被配置成透射从所述光源发出的光，并将所述光用作所述检验光。7.如权利要求6所述的调节装置，其特征在于，所述光谱单元包括: 衍射光栅，所述衍射光栅被配置为使从所述光源发出的所述光色散成具有不同波长的光， 狭缝，所述狭缝被配置成选择性地透射由所述衍射光栅色散的具有不同波长的所述光，以及 移位单元，所述移位单元被配置成改变所述狭缝相对于所述衍射光栅的位置，以选择要透射通过所述狭缝的光的波长。8.如权利要求6所述的调节装置，其特征在于，所述光谱单元是使用颜料的吸收滤光片和使用多层电介质的干涉滤光片中的一个。9.如权利要求6所述的调节装置，其特征在于，所述光源是氙灯、卤灯以及发光二极管中的任何一个。10.—种用于调节成像装置的调节方法，其特征在于，所述成像装置包括滤光单元、光接收元件阵列以及存储单元，所述滤光单元包括具有不同波长选择性的多个滤光区域，所述光接收元件阵列被配置成接收透射通过所述滤光单元的光并输出图像，所述存储单元被配置成对于每一个所述滤光区域，存储位置信息，所述位置信息指示在所述光接收元件阵列上接收透射通过每一个所述滤光区域的光的位置，所述调节方法包括: 使得具有不同波长的单色检验光依次进入所述滤光单元； 当所述检验光进入所述滤光单元时，基于所述光接收元件输出的一组图像，计算每一个像素的光谱响应度； 计算光谱响应重合度，所述光谱响应重合度指示期望的波长选择性与所述光谱响应度之间的重合度； 通过使用所获得的光谱响应重合度，识别透射通过每一个所述滤光区域的所述光在所述光接收元件阵列上被接收的所述位置；以及 在所述存储单元中存储指示识别出的位置的所述位置信息作为对应于每一个所述滤光区域的所述位置信息。
【专利摘要】一种成像装置，包括滤光单元，包括具有不同波长选择性的滤光区域；光接收元件阵列，被配置成接收透射通过滤光单元的光；存储单元，被配置成对于每一个滤光区域，存储位置信息，位置信息指示在光接收元件阵列上接收透射的光的位置；区域检测器，被配置成当光从物体进入滤光单元时，基于位置信息检测，从光接收元件阵列输出的图像中检测与透射的光相对应的图像区域；以及颜色检测器，被配置基于图像区域的输出值来检测物体的颜色。位置信息指示通过使用光谱响应重合度被识别的光接收元件阵列上的位置，光谱响应重合度指示每一个像素的光谱响应度和期望的波长选择性之间的重合度。还提供一种调节装置以及调节方法。
【IPC分类】G01J3/46, H04N5/232
【公开号】CN104902165
【申请号】CN201510094575
【发明人】山中祐治, 增田宪介, 丸山刚, 永井祥
【申请人】株式会社理光
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年3月3日
【公告号】US20150256801