专利名称：具有近红外屏蔽功能和透明性的电磁波屏蔽膜、包括该电磁波屏蔽膜的滤光片和等离子 ...的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种电磁波屏蔽膜以及包括该电磁波屏蔽膜的滤光片和等离 子显示面板，所述电磁波屏蔽膜包括粘合剂透明层，该粘合剂透明层在电磁 波屏蔽层上形成以填充电磁波屏蔽层的导电图案的沟槽并且包含近红外吸收 染料。
背景技术：
通常，显示器是TV和计算机监视器的常用名称，并且包括用于形成图 像的具有显示面板的显示组件以及支撑显示组件的外壳。
显示组件包括用于形成图像的CRT(阴极射线管)，显示面板例如LCD(液 晶显示器)和等离子显示面板(等离子显示面板，在下文中称作"PDP")，以 及用于驱动显示面板的驱动电路基片。PDP可进一步包括设在其前面的滤光 片。
滤光片设在PDP的前面，并且包括减反射膜，其防止从外部入射的光线 被反射；近红外吸收膜，其吸收由显示面板产生的近红外线以防止电子设备 如远距离控制器的故障；色彩补偿膜，其包含色彩补偿染料以改善色纯度； 以及电磁波屏蔽膜，其屏蔽在显示器件运行过程中由显示面板产生的电磁波。
在图1中所示的电磁波屏蔽膜30包括透明基板31和电磁波屏蔽层，该 电磁波屏蔽层形成在透明基板31上并且包括具有沟槽和凸起的导电图案32。
如果将另外的功能膜，例如减反射膜、近红外吸收膜和色彩补偿膜中的 任一种粘附到在其上部具有导电图案的电磁波屏蔽膜上，由于导电图案，电 磁波屏蔽膜和另外的功能膜彼此粘附不充分。
另外，因为由于电磁波屏蔽膜的沟槽而形成了薄空气层并且由于该薄空 气层使得光线被散射，所以存在的问题是，很难获得清晰的图像。
为了避免上述问题，需要用粘合剂将两层膜彼此粘附在一起并且随后进 行透明化处理以除去薄空气层。术语"透明化处理"是指一种避免由薄空气层引起的光的散射造成不清
晰和起霜(frosty)的图像的方法，这是通过向薄空气层中充入透明树脂以使薄 空气层透明而实现的，从而提供清晰的图像。
此外，已知的滤光片的问题在于，由于功能膜是分别制备的并且随后通 过采用粘合剂成层而形成整体，所以很难进行该处理，制备成本增加，并且 很难制备薄的PDP。
发明内容
技术问题
本发明的目的是提供一种具有近红外吸收功能和透明性的电磁波屏蔽 膜，以及包括该电磁波屏蔽膜的滤光片和PDP。 技术方案
本发明提供了一种电磁波屏蔽膜，该电磁波屏蔽膜包括透明基板；电磁 波屏蔽层，其包括在透明基板的至少一部分上形成的导电图案；以及粘合剂 透明层，其在电磁波屏蔽层上形成以填充导电图案的沟槽并且包含近红外吸 收染料。
本发明提供了包括所述电磁波屏蔽膜的滤光片。
本发明提供了包括所述电磁波屏蔽膜的等离子显示面板。
有益效果
根据本发明，包含近红外吸收染料的粘合剂透明层在其上面形成有导电 图案的电磁波屏蔽膜的上表面形成，以容易地进行透明化处理。
另外，由于不必形成具有近红外吸收功能的单独的层，所以能够制备薄 的滤光片。
此外，由于制备工艺因显著简化的结构而被简化，所以能够提高生产率 并降低生产成本。
图1为已知电磁波屏蔽膜的剖视图2、 3和4为根据本发明的实施方式的电磁波屏蔽膜的剖视图； 图5和6为根据本发明的实施方式的电磁波屏蔽膜的剖视图； 图7、 8和9为根据本发明的实施方式的滤光片的剖视图；图10、 11和12显示的是将根据本发明实施方式的滤光片应用于PDP的 视图13、 14、 15、 16和17为在将滤光器置于PDP之前的滤光器的剖视图， 其中，透明玻璃在根据本发明实施方式的滤光片上成层；
图18和20为示例说明所测量的根据本发明实施方式的电磁波屏蔽膜耐 久性的曲线图，该电磁波屏蔽膜包括含有近红外吸收染料的粘合剂透明层； 以及
图19和21为示例说明所测量的根据本发明实施方式的电磁波屏蔽膜耐 久性的曲线图，该电磁波屏蔽膜包括含有近红外吸收染料和色彩补偿染料的 粘合剂透明层。
具体实施例方式
根据本发明的电磁波屏蔽膜包括透明基板；电磁波屏蔽层，其包括在透 明基板的至少一部分上形成的导电图案；以及粘合剂透明层，其在电磁波屏 蔽层上形成以填充导电图案的沟槽并且包含近红外吸收染料。
透明基板可由任何材料制成，只要该材料具有优异的透光率即可。
例如，透明基板可由选自由聚压克力(polyacryls)、聚氨酯、聚酯、聚环 氧化物(polyepoxys)、聚烯烃、聚碳酸酯、纤维素和玻璃组成的组中的一种或 多种制成。优选透明基板由透明PET(聚对苯二甲酸乙二酯)制成。
导电图案可具有包括凸起和沟槽的网状形状。
导电图案可由铜、银、金、铁、镍、铝或其合金制成。优选导电图案由 铜或银制成。
只要粘合剂可用于形成常规的粘合片或粘合剂膜，就不限制用于形成粘 合剂透明层的粘合剂类型。
用于形成粘合剂透明层的粘合剂的实例可包括压敏粘合剂。只要粘合剂 不限制光的透过，可使用任何类型的压敏粘合剂。
粘合剂的实例可包括选自由压克力(acryls)、聚氨酯橡胶、聚异丁烯、 SBR(丁苯橡胶)、橡胶、聚乙烯醚、环氧化物、三聚氰胺、聚酯、酚、聚硅 氧垸及其共聚物组成的组中的粘合剂。优选使用压克力粘合剂。
优选压克力粘合剂的玻璃化转变温度(Tg)为0'C或更低。通过共聚合75-99.89重量％的包含含有l-12个碳原子的烷基的(甲基) 丙烯酸酯单体、0.1-20重量X的作为功能性单体的a， P不饱和羧酸单体以及 0.01-5重量％的具有羟基的聚合单体可以获得压克力粘合剂。由于对本领域 的技术人员来说，共聚合它们的方法是已知的，所以省略详细描述及其条件。
更优选的压克力粘合剂的实例可包括丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸羟乙 酯(HEMA)的共聚物和丙烯酸丁酯/丙烯酸(AA)的共聚物。
如果使用上述的共聚物，则和其它的压克力粘合剂相比，可确保膜在可 见光范围和近红外范围内具有优异的吸收功能，并且近红外吸收染料被有效 地稳定。
在制备粘合剂透明层的过程中，可以进一步使用溶剂，并且可以使用常 规有机溶剂作为溶剂。
优选地，可以使用甲乙酮(MEK)、四氢呋喃(THF)、乙酸乙酯或甲苯。另 外，不限制溶剂的用量。
粘合剂透明层可进一步包含交联剂和偶联剂。
交联剂的实例可包括多官能化合物，例如异氰酸酯交联剂、环氧交联剂、 氮丙啶交联剂和金属螯合物交联剂。
更优选地，使用异氰酸酯交联剂，并且异氰酸酯交联剂的实例包括，但 不限于甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、二苯甲烷二异氰酸酯和1,6-己 二异氰酸酯。
基于100重量份的粘合剂组分，交联剂的用量可在0.01-2重量份的范围内。
优选偶联剂为硅垸偶联剂。
特别地，当硅垸偶联剂在高的温和湿度条件下放置长时间时，硅烷偶联
剂有助于改进粘合可靠性
硅垸偶联剂的实例可包括乙烯基硅垸、环氧硅烷或甲基丙烯酰基硅垸。 具体地，硅垸偶联剂的实例可包括乙烯基三甲氧基硅垸、乙烯基三乙氧
基硅烷、Y-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅
烷及其混合物。
基于100重量份的粘合剂组分，硅烷偶联剂的用量可在0.01-2重量份的 范围内。
粘合剂透明层可进一步包括添加剂。添加剂的实例可包括选自抗氧化剂，例如酚和磷(phosphori);阻燃剂， 例如卤素和磷酸；紫外吸收剂，例如硅酸、苯甲酮、苯并三唑和氰基丙烯酸 脂；以及例如烯化氧的抗静电剂中的一种或多种。
基于100重量份的粘合剂组分，添加剂的用量可在0.01-10重量份的范围内。
粘合剂透明层的近红外吸收染料的实例可包括选自由金属配合物染料、 酞菁染料、萘酞菁染料(naphthalocyanine dye)、分子间金属配合物型花青染料 和二亚铵染料(diimmoniumdye)组成的组中的一种或多种。
在它们中间，优选使用金属配合物染料和酞菁染料，因为其具有在粘合 剂中的优异耐久性和所需要的近红外吸收功能。
金属配合物染料可为由如下通式1或2表示的化合物
<formula>formula see original document page 14</formula>
其中，R,至R4彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；硝基； 氰基；羟基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基；用卤素原 子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2()芳基；用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6垸氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.2()芳氧 基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用卤素原子、
氰基或硝基取代或未取代的<:6.2。芳基氨基；用卤素原子、氰基或硝基取代或
未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.2o
芳基硫基，
Yi至Y4各自独立地为S或0，以及
M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子，
<formula>formula see original document page 14</formula>
其中，R5和R6彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；硝基; 氰基；羟基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.20芳基；用卤素原子、氰基或硝基取代或
未取代的Cw6垸氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-20芳氧 基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用卤素原子、 氰基或硝基取代或未取代的C6-20芳基氨基；用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.20 芳基硫基，
^至Y4各自独立地为S或0，以及 M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子。 金属配合物染料具有所期望的在粘合剂中的耐久性和最大化的在近红外 范围内的吸收能力，并且在可见光范围内稍微吸收光。 酞菁染料可为由如下通式3表示的化合物<formula>formula see original document page 15</formula>其中，R7至Ru)彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羟基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的CM6
垸基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的(:6.2。芳基；用卤素原子、氰
基或硝基取代或未取代的Cw6垸氧基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6-2o芳氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基; 用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2()芳基氨基；用卤素原子、氰基 或硝基取代或未取代的C,—16烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的(36.2()芳基硫基，以及
M'选自选自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、钌(Ru)、铷(Rb)、钯(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti组成的组中的二价金属原子；选自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl 和Ru-Cl组成的组中的l-取代的三价金属原子；选自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2组成的组中的2-取代的四价 金属原子；以及选自由VO、 MnO和TiO组成的组中的氧合金属原子中。
萘酞菁染料可为由如下通式4表示的化合物
其中，Rh至Rm彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羟基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cl16 烷基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2o芳基；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6^芳氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基； 用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.2()芳基氨基；用卤素原子、氰基 或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的(36.2()芳基硫基，以及
M'选自选自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、钌(Ru)、铷(Rb)、钯(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti组成的组中的二价金属原子；选自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl 和Ru-Cl组成的组中的l-取代的三价金属原子；选自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2组成的组中的2-取代的四价 金属原子；以及选自由VO、 MnO和TiO组成的组中的氧合金属原子中。
分子间金属配合物型花青染料可为由如下通式5、 6或7表示的化合物[通式5]<formula>formula see original document page 17</formula>
其中，Ri5和R,6彼此相同或不同，并独立地为氢原子；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直链或支链CL3o烷基；用卤素原子、氰基或硝基取 代或未取代的CL8烷氧基;或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30
芳基，
&至Xs彼此相同或不同，并独立地为氢原子；硝基；羧基；苯氧基羰 基；羧酸酯基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的d.s烷基；用卤素 原子、氰基或硝基取代或未取代的CL8垸氧基；或者用卤素原子、氰基或硝 基取代或未取代的C6-30芳基，以及
M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子， [通式6]<formula>formula see original document page 17</formula>
其中，R15、 R16、 Xi至Xs和M与通式5中的定义相同， [通式7]<formula>formula see original document page 17</formula>其中，R15、 R16、 Xi至Xs和M与通式5中的定义相同。 二亚铵染料可为由如下通式8表示的化合物 [通式8]
21
一R22
其中，Rn至R24彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羟基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的 烷基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2()芳基；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取
代的0).2()芳氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基;
用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的(:6.2。芳基氨基；用卤素原子、氰基
或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或
未取代的(:6.2()芳基硫基，
R25至R28各自独立地为氢原子；卣素原子；氰基；硝基；羧基；用卤素 原子、氰基或硝基取代或未取代的烷基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代 或未取代的垸氧基，以及
Z为有机酸单价阴离子、有机酸二价阴离子或无机酸单价阴离子。 有机酸单价阴离子的实例可包括有机羧酸离子、有机磺酸离子和有机硼 酸离子。
有机羧酸离子的实例可包括乙酸根离子、乳酸根离子、三氟乙酸根离子、 丙酸根离子、苯甲酸根离子、草酸根离子、琥珀酸根离子和硬脂酸根离子。
有机磺酸离子的实例可包括甲磺酸根离子、甲苯磺酸根离子、萘磺酸根 离子、氯代苯磺酸根离子、硝基苯磺酸根离子、十二烷基苯磺酸根离子、苯 磺酸根离子、乙磺酸根离子和三氟代甲磺酸根离子。
有机硼酸离子的实例可包括四苯硼酸根离子和丁基三苯基硼酸根离子。有机酸二价阴离子的实例可包括萘-l,5-二磺酸、萘-l,6-二磺酸和萘二磺
酸衍生物。
无机酸单价阴离子的实例可包括卤化物离子。
卤化物离子的实例可包括氟离子、氯离子、溴离子、碘离子、硫氰酸根 离子、六氟锑酸根离子、高氯酸根离子、高碘酸根离子、硝酸根离子、四氟 硼酸根离子、六氟磷酸根离子、钼酸根离子、钨酸根离子、钛酸根离子、钒 酸根离子、磷酸根离子和硼酸根离子。
基于100重量份的粘合剂，近红外吸收染料的添加量可为0.01-10重量份。 粘合剂透明层可进一步包含氖削减染料(neon-cut dye)作为色彩补偿染料。
色彩补偿染料的实例可包括选自由分子中含有金属配合物的卟啉染料和 分子间金属配合物型花青染料组成的组中的一种或多种。
分子中含有金属配合物的卟啉色彩补偿染料可为由如下通式9表示的化 合物
其中，R29至R36彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；用卤 素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基；用卤素原子、氰基或硝基取 代或未取代的Cw6垸氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代并且用氟 取代的Cw6烷氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cm。芳基； 用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C2.2。芳氧基；或者用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代并且具有一个或多个氮原子的五元环，以及
M"选自选自由氢原子、氧原子、卤素原子、Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、钌(Ru)、 铷(Rb)、钯(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti组成的组中的二价金属原子；选自 由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl和Ru-Cl组成的组中的1-取代的三价金属原子；选自由SiCl2、GaCl2、TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、Ge(OH)2、Mn(OH)2和Sn(OH)2 组成的组中的2-取代的四价金属原子；以及选自由VO、 MnO和TiO组成的
组中的氧合金属原子中。
分子间金属配合物型花青色彩补偿染料可为由通式10或11表示的化合
物
其中，R37和R38彼此相同或不同，并独立地为氢原子；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直链或支链C,^烷基；用卤素原子、氰基或硝基取 代或未取代的d-8垸氧基;或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6_30 芳基，
X6至Xh)彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素基团；硝基；羧基; 苯氧基羰基；羧酸酯基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C^烷基;
用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cj.8烷氧基；或者Q-30芳基，以及
M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子， [通式11]
其中，Rw和R4(,彼此相同或不同，并独立地为氢原子；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直链或支链Ci.3o垸基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的CL8烷氧基;或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，以及
M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子。
基于100重量份的粘合剂，色彩补偿染料的添加量可为0.005-10重量份。
粘合剂透明层的粘合强度在180。的剥离角和300mm/min的剥离速度下 为2N/25mm或更高，并且优选在180。的剥离角和300mm/min的剥离速度下 为4N/25mm或更高。
如果粘合强度在180。的剥离角和300mm/min的剥离速度下小于 2N/25mm，则可能产生气泡或者发生层间的剥离，从而降低耐久性。
如上所述，根据本发明，关于具有透明基板和形成在透明基板上的导电 图案的电磁波屏蔽膜，将含有近红外吸收染料的粘合剂涂敷在其上面形成有 导电图案的电磁波屏蔽层的上表面，从而通过填充导电图案的沟槽而使电磁 波屏蔽层的上表面平坦。接着，进行透明化处理以在电磁波屏蔽层的上表面 上形成粘合剂透明层。
当形成粘合剂透明层时，透明树脂填充沟槽，结果沟槽的内部变得透明。 这样，能够避免产生不清晰和轻微起霜的图像(由于槽内存在的空气造成的光 的散射而引起的)。因此，能够确保得到清晰的图像。
在涂敷含有近红外吸收染料的粘合剂之后，可向其施加预定的压力以进 行透明化处理。压力可由相关领域的技术人员根据粘合剂的类型和用量以及 其它工艺条件来确定。
制备根据本发明的具有近红外吸收功能的粘合剂透明层的方法并不限于此。
在制备好根据本发明的含有近红外吸收染料的涂渍溶液之后，用不同的 方法将涂渍溶液涂敷到平坦基板的至少一面上，然后干燥以形成具有近红外 吸收功能的粘合剂层。暴露的表面可用剥离片覆盖。或者，可将溶液涂敷到 剥离片的剥离表面上，然后干燥以形成具有近红外吸收功能的粘合剂层。
具体地，将添加的染料和粘合剂彼此混合，以预定的用量将交联剂和偶 联剂加入其中以制备涂渍溶液，可将涂渍溶液涂敷到剥离膜和透明基板上并 固化以形成粘合剂层。形成的涂层的厚度大于5 nm并且优选为10 nm或更大。涂敷方法的实 例包括喷涂法、辊涂法、棒涂法、旋涂法、凹版印刷涂敷法(gmvure coating method)禾卩舌lj涂法(blade coating method)。
可将制备好的具有近红外吸收功能的粘合剂透明层附到具有导电图案的 电磁波屏蔽层上以制备所期望的根据本发明的电磁波屏蔽膜。
在下文中，参照附图将详细描述本发明。但是，本发明可以多种不同形 式体现并且不应被限制于此。
如图2所示，粘合剂层20填充在透明基板31上形成的导电图案32的沟 槽中，并且进行透明化处理，以使粘合剂层具有与导电图案32的凸起的上表 面相同的高度，从而提供给电磁波屏蔽膜透明性。
如图3所示，在根据本发明的透明化处理中，将含有近红外吸收染料的 粘合剂涂敷到电磁波屏蔽膜的整个上表面上。
关于这一点，含有近红外吸收染料的粘合剂填充导电图案32的沟槽，以 使粘合剂层具有与导电图案32的凸起的上表面相同的高度。
因此，如图3所示，粘合剂透明层20在包括透明基板31和导电图案32 的电磁波屏蔽层上形成。
另外，在根据本发明的透明化处理中，如图4所示，将含有近红外吸收 染料和色彩补偿染料，特别是氖削减染料的粘合剂涂敷到电磁波屏蔽膜的整 个上表面上。
关于这一点，含有近红外吸收染料和色彩补偿染料的粘合剂填充导电图 案32的沟槽，以使粘合剂层具有与导电图案32的凸起的上表面相同的高度。
因此，如图4所示，由含有近红外吸收染料和色彩补偿染料的粘合剂制 成的粘合剂透明层20在包括透明基板31和导电图案32的电磁波屏蔽层上形 成。
如果形成粘合剂透明层20以使粘合剂透明层20具有与电磁波屏蔽层的 凸起的上表面相同的高度，则可以无框架地蚀刻电磁波屏蔽层的整个表面以 仅形成导电图案32。或者，导电图案32和框架均形成，那么在这种情况下， 在粘合剂透明层上可进一步提供接地单元(earthunit)。
通过将导电胶带附在粘合剂透明层20上表面的周围，或者通过将导电浆 料涂敷在粘合剂透明层20上表面的周围，可以形成接地单元。导电胶带可为其上应用了金属，例如镍、铜、铝和金的织物，导电浆料 可通过将银粉或铜粉分散到聚合物粘合剂和溶剂中而获得。
如果形成粘合剂透明层20以使粘合剂透明层20具有与导电图案32的凸 起的上表面相同的高度，则优选粘合剂透明层20在导电图案32的凸起的上 表面上形成的厚度在5至30 ,的范围内，以使电流在接地(earth)和电磁波 屏蔽层的周围之间理想地流动。
为了改进电流的流动，可以向粘合剂透明层20添加导电颗粒。 导电颗粒的实例可包括金属粉例如银或铜、炭黑和碳纳米管(CNT)。 如图5和图6所示，在使用上述方法制备的电磁波屏蔽膜的粘合剂透明 层20上可设有具有其它功能的剥离膜、透明膜或者层31'。
另外，可将具有其它功能的层或者粘合剂层20'添加到电磁波屏蔽膜透明 基板31的下表面上。在这种情况下，在透明基板31的下表面上形成的粘合 剂层20'上可设有具有其它功能的剥离膜、透明膜或者层。
如果图5的粘合剂透明层20是由吸收近红外线的粘合剂制成的层，则添 加的粘合剂层20'可为由含有色彩补偿染料，特别是氖削减染料的粘合剂制成 的层。
如果图6的粘合剂透明层20是由含有近红外吸收染料和色彩补偿染料的 粘合剂制成的层，则粘合剂层20'可为由常规粘合剂制成的层。
同时，本发明提供了包括上述电磁波屏蔽膜的滤光片。
本发明的滤光片可进一歩包括在上述电磁波屏蔽膜的上表面和下表面中 的至少一个表面上形成的另外的功能膜。
功能膜可为图7的减反射膜40、用于改进电磁波屏蔽膜的色彩补偿功能 的色彩补偿膜、振动减缓膜(shock relaxation film)或对比度改进膜。
功能膜可设在根据本发明的电磁波屏蔽膜的粘合剂透明层20的上表面 或者在透明基板31的下表面上形成的粘合剂层20'的下表面上。
滤光片的实例包括图4的滤光片。滤光片可进一步包括在电磁波屏蔽膜 的上表面成层的减反射膜40和在电磁波屏蔽膜的下表面上成层的包含色彩 补偿染料的粘合剂层20'，所述电磁波屏蔽膜包括具有透明性和近红外吸收功 能的粘合剂透明层20。另外，图8的滤光片可进一步包括在电磁波屏蔽膜的上表面成层的减反
射膜40和在电磁波屏蔽膜的下表面上成层的粘合剂层20'，所述电磁波屏蔽 膜包括具有透明性、近红外吸收功能和色彩补偿功能的粘合剂透明层20。
此外，图9的滤光片可包括具有导电图案32的电磁波屏蔽层和具有透明 性、近红外吸收功能和色彩补偿功能的粘合剂透明层20，所述导电图案32 在设置在减反射膜40下表面上的透明基板31的下表面上。
同时，本发明提供了包括具有电磁波屏蔽膜的滤光片的PDP。
例如，如图10和图11所示，PDP10可被附在图7和图8中所示的滤光 片的粘合剂层20'的下表面上。
例如，如图12所示，PDP10可被附在图9中所示的滤光片的粘合剂透 明层20上。
可选择地，在将透明玻璃基板附在根据本发明的滤光片上之后，可将形 成的滤光器附在PDP上，以使透明玻璃基板置于滤光片和PDP之间。
也就是说，如图13和图14所示，透明玻璃基板50可被附在图7和图8 所示的粘合剂层20'的下表面上，并随后将其附在PDP上。
另外，如图15所示，透明玻璃基板50可被附在图9所示的滤光片的粘 合剂透明层20的下表面上，并随后将其附在PDP上。
此外，如图16和图17所示，如果必要，在透明玻璃基板50的上表面或 下表面上可成层单独的功能膜。
实施例
根据下面的实施例可以获得对本发明更好的理解，这些实施例是用于示 例的，但不应被理解为限制本发明。
通过采用下述方法制备根据本发明的电磁波屏蔽膜，该电磁波屏蔽膜包 括具有近红外吸收功能的粘合剂透明层。吸收近红外线的粘合剂透明层的物 理性质的测试条件如下。
膜的制备
1.涂渍溶液的制备在实施例中，通过采用丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸
羟乙酯(HEMA)的共聚物或丙烯酸丁酯/丙烯酸(AA)的共聚物作为粘合剂树脂 来彼此混合近红外吸收染料或近红外吸收染料和色彩补偿染料或氖削减染 料，以便制备用于制造吸收近红外线的粘合剂膜的涂渍溶液。2. 涂敷将涂渍溶液涂敷到剥离基板上至25pm的厚度并在12(rC下干 燥3分钟以层压剥离基板和涂层。
3. 老化常温下进行老化7天。 耐久性的测试条件
在将制备好的粘合剂膜应用到电磁波屏蔽膜上以进行透明化处理之后， 一高温条件膜在80'C下放置500小时之前和之后，根据波长比较各自
的透光度。
一高的温度和湿度条件膜在65"C的温度和96%的湿度(朋)下放置500 小时之前和之后，根据波长比较各自的透光度。 实施例1
将69 g的含有溶于乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸羟乙酯 (HEMA)的共聚物溶液、0.06 g基于金属配合物的V-63(Epolin， INC)、 0.14 g 的基于酞菁的906B(日本催化剂)、0.037 g异氰酸酯交联剂和0.048 g硅垸偶 联剂加入到31 g甲乙酮(MEK)中，随后彼此混合以制备涂渍溶液。
将涂渍溶液涂敷到剥离基板膜上至25 )im的厚度，并且用剥离基板的另 一面层压剥离基板以制备吸收近红外线的粘合剂膜。
将制备好的膜应用在电磁波屏蔽膜上以进行透明化处理，并且在高温(80 。C)和高的温度和湿度(65T:，相对湿度96%)的条件下贮存500小时，然后 测量透光度。结果在图18中得以描述。在根据本发明的包括近红外吸收粘合 剂透明层的电磁波屏蔽膜的耐久性测试之前和之后进行评价。在高温下进行 贮存之后在可见光范围内的透光度变化为0.6%，而近红外透光度的变化在 850 nm处为1.6%，在950 nm处为1.3%。在高温和高湿度下进行贮存之后 在可见光范围内的透光度变化为0.6。％ ，而近红外透光度的变化在850 nm处 为0.5%，在950nm处为1.1%。
实施例2
将69 g的含有溶于乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/甲基丙烯酸羟乙酯 (HEMA)的共聚物溶液、0.06 g基于金属配合物的V-63(Epolin, INC)、 0.14 g 的基于酞菁的906B(日本催化剂)、0.014 g卟啉PD-319(三井公司)、0.037 g 异氰酸酯交联剂和0.048 g硅垸偶联剂加入到31 g甲乙酮(MEK)中，随后彼
此混合以制备涂渍溶液。将涂渍溶液涂敷到剥离基板膜上至25 pm的厚度，并且用剥离基板的另 一面层压剥离基板以制备吸收近红外线的粘合剂膜。
将制备的膜应用于电磁波屏蔽膜上以进行透明化处理，并且在高温(8(TC) 和高的温度和湿度(65。C，相对湿度96%)的条件下贮存500小时，然后测 量透光度。结果在图19中得以描述。在根据本发明的包括近红外吸收和色彩 补偿粘合剂透明层的电磁波屏蔽膜的耐久性测试之前和之后进行评价。在高 温下进行贮存之后在可见光范围内的透光度变化为0.5% ，而近红外透光度的 变化在850nm处为1.7%，在950 nm处为0.4% 。在高温和高湿度下进行贮 存之后在可见光范围内的透光度变化为0.5%，而近红外透光度的变化在850 nm处为0.9X，在950 nm处为0.4% 。
实施例3
将69 g的含有溶于乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/丙烯酸(AA)的共聚物溶 液、0.06 g基于金属配合物的EP4445 (Epolin， INC)、 0.14 g的基于酞菁的 910B(日本催化齐lJ)、0.137 g异氰酸酯交联剂和0.021 g硅烷偶联剂加入到31 g 甲乙酮(MEK)中，随后彼此混合以制备涂渍溶液。
将涂渍溶液涂敷到剥离基板膜上至25 pm的厚度，并且用剥离基板的另 一面层压剥离基板以制备吸收近红外线的粘合剂膜。
将制备的膜应用于电磁波屏蔽膜上以进行透明化处理，并且在高温(8(TC) 和高的温度和湿度(65。C，相对湿度96%)的条件下贮存500小时，然后测 量透光度。结果在图20中得以描述。在根据本发明的包括近红外吸收粘合剂 透明层的电磁波屏蔽膜的耐久性测试之前和之后进行评价。在高温下进行贮 存之后在可见光范围内的透光度变化为0.5%，而近红外透光度的变化在850 nm处为0.8X，在950 nm处为0.1 % 。在高温和高湿度下进行贮存之后在可 见光范围内的透光度变化为1.3%，而近红外透光度的变化在850nm处为1.9 %，在950nm处为0.3%。
实施例4
将69 g的含有溶于乙酸乙酯的丙烯酸丁酯(BA)/丙烯酸(AA)的共聚物溶 液、0.06 g基于金属配合物的EP4445 (Epolin, INC)、 0.14 g的基于酞菁的 910B(日本催化剂)、0.015 g卟啉PD-319(三井公司)、0.137 g异氰酸酯交联剂 禾口 0.021 g硅烷偶联剂加入到31 g甲乙酮(MEK)中，随后彼此混合以制备涂 渍溶液。将涂渍溶液涂敷到剥离基板膜上至25 pm的厚度，并且用剥离基板的另 一面层压剥离基板以制备吸收近红外线的粘合剂膜。
将制备的膜应用于电磁波屏蔽膜上以进行透明化处理，并且在高温(8(TC) 和高的温度和湿度(65t:，相对湿度96%)的条件下贮存500小时，然后测 量透光度。结果在图21中得以描述。在根据本发明的包括近红外吸收粘合剂 透明层的电磁波屏蔽膜的耐久性测试之前和之后进行评价。在高温下进行贮 存之后在可见光范围内的透光度变化为1.1%，而近红外透光度的变化在850 nm处为1.0X，在950nm处为0.3%。在高温和高湿度下进行贮存之后在可 见光范围内的透光度变化为1.6%，而近红外透光度的变化在850nm处为1.6 %，在950画处为0.6%。
权利要求
1、一种电磁波屏蔽膜，包括透明基板；电磁波屏蔽层，其包括在所述透明基板的至少一部分上形成的导电图案；以及粘合剂透明层，其在所述电磁波屏蔽层上形成以填充导电图案的沟槽并且包含近红外吸收染料。
2、 根据权利要求l所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述导电图案具有网状 形状。
3、 根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述导电图案由铜、银、 金、铁、镍、铝或其合金制成。
4、 根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述粘合剂透明层包含 选自由压克力、聚氨酯橡胶、聚异丁烯、SBR(丁苯橡胶)、橡胶、聚乙烯醚、 环氧化物、三聚氰胺、聚酯、酚、聚硅氧烷及其共聚物组成的组中的粘合剂。
5、 根据权利要求l所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述粘合剂透明层进一 步包含选自交联剂、偶联剂、抗氧化剂、阻燃剂、紫外吸收剂和抗静电剂中 的一种或多种。
6、 根据权利要求l所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述近红外吸收染料为 选自由金属配合物染料、酞菁染料、萘酞菁染料、分子间金属配合物型花青 染料和二亚铵染料组成的组中的一种或多种。
7、 根据权利要求6所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述金属配合物染料为 由通式1或2表示的化合物[通式1]<formula>formula see original document page 2</formula>其中，Ri至R4彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；硝基； 氰基；羟基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的d—16垸基；用卤素原 子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2o芳基；用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6烷氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的<36.2。芳氧 基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用卣素原子、 氰基或硝基取代或未取代的C6-2。芳基氨基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C, 芳基硫基，Yj至Y4各自独立地为S或0，以及M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子，[通式2]其中，R5和R6彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；硝基； 氰基；羟基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基；用卤素原 子、氰基或硝基取代或未取代的C6-20芳基；用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6垸氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6々o芳氧 基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基；用卤素原子、 氰基或硝基取代或未取代的(:6.2()芳基氨基；用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cw6垸基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.2o 芳基硫基，Yi至Y4各自独立地为S或O，以及 M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子。
8、根据权利要求6所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述酞菁染料为由通式 3表示的化合物 [通式3]其中，R7至Ru)彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羟基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取代的a16，、烷基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的06.2()芳基；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6-2o芳氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基;用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的(:6.2()芳基氨基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的Cmo芳基硫基，以及M'选自选自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、钌(Ru)、铷(Rb)、钯(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti组成的组中的二价金属原子；选自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl 和Ru-Cl组成的组中的l-取代的三价金属原子；选自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2组成的组中的2-取代的四价 金属原子；以及选自由VO、 MnO和TiO组成的组中的氧合金属原子中。
9、根据权利要求6所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述萘酞菁染料为由通 式4表示的化合物<formula>formula see original document page 4</formula>其中，Ru至Rm彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羟基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cl16 烷基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的<:6.2。芳基；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6垸氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取 代的C6^芳氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基氨基; 用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的q-2o芳基氨基；用卤素原子、氰基 或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的06.2()芳基硫基，以及M'选自选自由Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、钌(Ru)、铷(Rb)、钯(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti组成的组中的二价金属原子；选自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl[通式4]和Ru-Cl组成的组中的l-取代的三价金属原子；选自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2和Sn(OH)2组成的组中的2-取代的四价 金属原子；以及选自由VO、 MnO和TiO组成的组中的氧合金属原子中。
10、根据权利要求6所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述花青染料为由通 式5、 6或7表示的化合物[通式5]<formula>formula see original document page 5</formula>其中，Ri5和R^彼此相同或不同，并独立地为氢原子；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直链或支链CL3o垸基；用卤素原子、氰基或硝基取 代或未取代的d.s垸氧基;或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，&至X5彼此相同或不同，并独立地为氢原子；硝基；羧基；苯氧基羰 基；羧酸酯基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的d.s烷基；用卤素 原子、氰基或硝基取代或未取代的d-8烷氧基；或者用卤素原子、氰基或硝 基取代或未取代的<:6.3。芳基，以及M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子， [通式6]<formula>formula see original document page 5</formula>其中，R^至R,6、 Xi至Xs和M与通式5中的定义相同，[通式7]其中，1115至1116、 Xi至Xs和M与通式5中的定义相同。
11、根据权利要求6所述的电磁波屏蔽膜，其中所述二亚铵染料可为由 通式8表示的化合物 [通式8]其中，Rn至R24彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；三氟 甲基；硝基；氰基；羟基；用囱素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cl16 烷基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2()芳基；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的Cw6烷氧基；用卣素原子、氰基或硝基取代或未取代的(36.2()芳氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6烷基氨基; 用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6-2o芳基氨基；用卤素原子、氰基 或硝基取代或未取代的Cw6烷基硫基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代或 未取代的(^6.2。芳基硫基，R25至R28各自独立地为氢原子；卤素原子；氰基；硝基；羧基；用卤素 原子、氰基或硝基取代或未取代的垸基；或者用卤素原子、氰基或硝基取代 或未取代的垸氧基，以及Z为有机酸单价阴离子、有机酸二价阴离子或无机酸单价阴离子。
12、 根据权利要求l所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述粘合剂透明层进一步包括色彩补偿染料。
13、 根据权利要求12所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述色彩补偿染料为 氖削减染料。
14、 根据权利要求12所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述色彩补偿染料为 选自由分子内金属配合物型卟啉染料和分子间金属配合物型花青染料组成的 组中的一种或多种。
15、 根据权利要求14所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述分子内金属配合 物型卟啉染料为由通式9表示的化合物[通式9]其中，R29至R36彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素原子；用卤 素原子、氰基或硝基取代或未取代的Cw6垸基；用卤素原子、氰基或硝基取 代或未取代的Cw6垸氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代并且用氟 取代的Cw6垸氧基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C2.2。芳基； 用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C2-2o芳氧基；或者用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代并且具有一个或多个氮原子的五元环，以及M"选自选自由氢原子、氧原子、卤素原子、Cu、 Zn、 Fe、 Co、 Ni、钌 (Ru)、铷(Rb)、钯(Pd)、 Pt、 Mn、 Sn、 Mg和Ti组成的组中的二价金属原子； 选自由A1-C1、 Ga-Cl、 In-Cl、 Fe-Cl和Ru-Cl组成的组中的1-取代的三价金 属原子；选自由SiCl2、 GaCl2、 TiCl2、 SnCl2、 Si(OH)2、 Ge(OH)2、 Mn(OH)2 和Sn(OH)2组成的组中的2-取代的四价金属原子；以及选自由VO、 MnO和 TiO组成的组中的氧合金属原子中。
16、根据权利要求14所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述分子间金属配合 物型花青染料为由通式IO或11表示的化合物[通式10]<formula>formula see original document page 8</formula>其中，R37和R38彼此相同或不同，并独立地为氢原子；用卤素原子、氰 基或硝基取代或未取代的直链或支链CL30垸基；用卤素原子、氰基或硝基取 代或未取代的CL8烷氧基;或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，X6至Xk)彼此相同或不同，并独立地为氢原子；卤素基团；硝基；羧基; 苯氧基羰基；羧酸酯基；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的d-8烷基; 用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的CL8垸氧基；或者(^6.3()芳基，以及M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子，[通式11]<formula>formula see original document page 8</formula>其中，R39和R4。彼此相同或不同，并独立地为氢原子；用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的直链或支链CL30垸基；用卤素原子、氰基或硝基取 代或未取代的C,-8垸氧基;或者用卤素原子、氰基或硝基取代或未取代的C6.30 芳基，以及M为选自由Ni、 Cu、 Pt和Pd组成的组中的金属原子。
17、根据权利要求l所述的电磁波屏蔽膜，其中，基于所述导电图案最 上表面，所述粘合剂透明层的厚度在5至30pm的范围内。
18、 根据权利要求l所述的电磁波屏蔽膜，其中，所述粘合剂透明层的 粘合强度在180。的剥离角和300mm/min的剥离速度下为2N/25mm或更高。
19、 根据权利要求l所述的电磁波屏蔽膜，其进一步包括设在所述透明 基板下表面的粘合剂层。
20、 一种滤光片，其包括根据权利要求1至19中任一项所述的电磁波屏 蔽膜。
21、 根据权利要求20所述滤光片，其进一步包括设在所述电磁波屏蔽膜 的上表面和下表面中的至少一个表面上的功能膜。
22、 根据权利要求21所述滤光片，其中，所述功能膜包括选自减反射膜、 色彩补偿膜、振动减缓膜和对比度改进膜中的一种或多种膜。
23、 一种等离子显示面板，其包括根据权利要求1至19中任一项所述的 电磁波屏蔽膜。
全文摘要
本发明提供了一种电磁波屏蔽膜以及包括该电磁波屏蔽膜的滤光片和等离子显示面板，所述电磁波屏蔽膜包括透明基板；电磁波屏蔽层，其包括在所述透明基板的至少一部分上形成的导电图案；以及粘合剂透明层，其在电磁波屏蔽层上形成以填充导电图案的沟槽并且包含近红外吸收染料。
文档编号H05K9/00GK101530018SQ200780039678
公开日2009年9月9日 申请日期2007年10月25日 优先权日2006年10月25日
发明者崔玹硕, 朴相炫, 李修林, 李渊权, 金正斗 申请人:Lg化学株式会社