消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置，其特征在于，该装置包括：石墨坩埚，所述石墨坩埚上扣合有坩埚盖，所述坩埚盖的内侧固定有籽晶，石墨坩埚内装有原料，石墨坩埚的内侧壁和内底壁上贴附有隔离层，所述隔离层为厚度在0.1-1mm范围内的石墨纸或Ta（钽）片。该装置有效的降低了生长升华过程中气相组分对反应系统石墨内壁的腐蚀。
【专利说明】
消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及碳化硅生长技术领域，特别是一种消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置。
【背景技术】
[0002]以第三代半导体中技术最为成熟的就是SiC(碳化硅XSiC作为间接带隙半导体，其特点主要有带隙宽、热导率高、击穿强度高、化学性能好、抗辐射能力强等，在半导体应用领域具有非常明显的优势。
[0003]目前生长大直径碳化硅单晶的主流方法是物理气相输运法(PVT法)。典型的生长结构组成包括坩祸和坩祸盖两大部分，生长机理是将SiC粉源放置在坩祸中，籽晶固定在粉源上部盖子上，进行生长。PVT法SiC单晶生长的基本过程分别为:原料分解升华、质量传输和在籽晶上结晶。在原料的分解传输过程中主要驱动力来自原料间的温度梯度。在原料分解到凝结过程中气相组分主要为Si，Si2C和SiC2因为在生长温度下Si组分的饱和分压较大，造成Si气氛占据组分比例较大，该组分在传输过程中与石墨坩祸侧壁进行反应如下:
[0004]Si(g)+C(s) = SiC(g)
[0005]2Si(g)+C(s) = Si2C(g)
[0006]Si(g)+2C(s) = SiC2(g)
[0007]石墨坩祸中C元素参与反应，造成坩祸内表面出现缺失、腐蚀。本实用新型提供了一种阻断Si组分与石墨坩祸内表面反应造成腐蚀的方法。
【实用新型内容】
[0008]针对现有技术存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置。
[0009]为实现上述目的本实用新型消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的方法，该方法包括如下步骤:
[0010]步骤I选取厚度在0.1-1mm范围内的石墨纸或Ta(钽)片；
[0011]步骤2将石墨纸或Ta片裁切成高度与石墨坩祸内壁一致，长度于石墨坩祸内周长一致的长条，曲卷放入石墨坩祸内，调整位置使其与石墨坩祸内侧表面贴合；
[0012]步骤3将石墨纸或Ta片裁剪成厚度一致、直径与石墨坩祸内底直径一致，将裁剪后的石墨纸或Ta片置于坩祸内底，与坩祸底部贴合；
[0013]步骤4将原料放入石墨坩祸中夯实，进行碳化硅单晶生长。
[0014]基于上述方法的消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置，该装置包括:石墨坩祸，所述石墨坩祸上扣合有坩祸盖，所述坩祸盖的内侧固定有籽晶，石墨坩祸内装有原料，石墨坩祸的内侧壁和内底壁上贴附有隔离层，所述隔离层为厚度在0.1-1mm范围内的石墨纸或Ta(钽)片。
[0015]通过本实用新型的消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的方法和装置有效的降低了生长升华过程中气相组分对反应系统石墨内壁的腐蚀。
【附图说明】
[0016]图1为本实用新型消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置的结构示意图；
[0017]其中，I石墨坩祸、2坩祸盖、3籽晶、4原料、5隔离层。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细说明。
[0019]如图1所示的消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置，该装置包括:石墨坩祸I，石墨坩祸I上扣合有坩祸盖2，坩祸盖2的内侧固定有籽晶3，石墨坩祸I内装有用于碳化硅单晶生长的原料4，石墨坩祸I的内侧壁和内底壁上贴附有隔离层5，隔离层5为厚度在0.1-1mm范围内的石墨纸或Ta(钽)片。
[0020]制作上述消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置的方法，该方法包括如下步骤:
[0021 ] 步骤I选取厚度在0.1-1mm范围内的石墨纸或Ta(钽)片；
[0022]步骤2将石墨纸或Ta片裁切成高度与石墨坩祸I内壁一致，长度于石墨坩祸I内周长一致的长条，曲卷放入石墨坩祸I内，调整位置使其与石墨坩祸I内侧表面贴合；
[0023]步骤3将石墨纸或Ta片裁剪成厚度一致、直径与石墨坩祸I内底直径一致，将裁剪后的石墨纸或Ta片置于石墨坩祸I的内底壁上，与石墨坩祸I的内底壁贴合；
[0024]步骤4将原料4放入石墨坩祸I中夯实，进行碳化硅单晶生长。
[0025]下面选取四组实例说明本实用新型的效果:
[0026]实例1:选用0.1111111的了&，生长温度2100°(:，压力1000?&，生长80小时，结束后坩祸侧壁轻微腐蚀。
[0027]实例2:选用0.1mm的石墨纸，生长温度2100°C，压力100pa，生长80小时，结束后坩祸侧壁腐蚀较多。
[0028]实例3:选用0.3mm的石墨纸，生长温度2100 °C，压力100pa，生长80小时，结束后坩祸侧壁轻微腐蚀。
[0029]实例4:选用0.5mm的石墨纸，生长温度2100 °C，压力100pa，生长80小时，结束后坩祸侧壁较轻腐蚀失重较少。
[0030]因此:由于稀有金属Ta价格昂贵，故本方法实施优选石墨纸，从实例中优选0.5-1mm厚度的石墨纸更有利与阻断腐蚀。
[0031]上述示例只是用于说明本实用新型，本实用新型的实施方式并不限于这些示例，本领域技术人员所做出的符合本实用新型思想的各种【具体实施方式】都在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.消除碳化硅单晶生长过程中硅对石墨体腐蚀的装置，其特征在于，该装置包括:石墨坩祸，所述石墨坩祸上扣合有坩祸盖，所述坩祸盖的内侧固定有籽晶，石墨坩祸内装有原料，石墨坩祸的内侧壁和内底壁上贴附有隔离层，所述隔离层为厚度在0.1-1mm范围内的石墨纸或Ta片。
【文档编号】C30B23/00GK205474111SQ201620103701
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年2月2日
【发明人】张云伟, 韩金波, 靳丽婕
【申请人】北京华进创威电子有限公司