1.一种采用气态加热介质对烹调物料进行加热的烹调系统，其包括：
桶状锅体，用于容纳烹调物料；
旋转驱动装置，与所述锅体连接，用于驱动所述锅体绕其旋转轴线旋转；
气态加热装置，用于向所述锅体内喷射气态加热介质，以对所述烹调物料进行直接加热；
其中，所述锅体的锅口位置处设置有阻挡气流从所述锅体内部外泄的密闭装置，使得一段时间内进入锅体内部的气流量大于溢出锅体内部的气流量，从而所述锅体内的压力大于外部环境的压力；
其中，所述烹调系统进一步包括控制器，其根据转速控制指令控制所述锅体旋转。
2.如权利要求1所述的烹调系统，其中，所述气态加热装置包括热风加热装置和/或过热水蒸汽加热装置。
3.如权利要求1所述的烹调系统，其中，所述气态加热介质中基本上不含氧气。
4.如权利要求1所述的烹调系统，其中，所述的密闭装置上设置有进气口，所述气态加热装置通过所述进气口向所述锅体内喷射气态加热介质。
5.如权利要求1所述的烹调系统，其中，所述密闭装置上设置有可开闭和/或口径可调的排气口。
6.如权利要求1所述的烹调系统，其进一步包括用于检测所述锅体内湿度的传感器，所述烹调系统根据所测量到的湿度与设定的湿度比对的结果，对所述气态加热介质的流量、压力和/或流速进行控制或调节。
7.如权利要求1所述的烹调系统，其中，所述烹调系统根据转速控制指令控制所述锅体在第一模式下以大于或等于临界转速的第一转速旋转，使得所述烹调物料附着在所述锅体上并随所述锅体作旋转运动；
其中，所述的临界转速是指能使烹调物料附着在锅体上并随锅体作圆周运动的最低转速。
8.如权利要求1所述的烹调系统，其中，所述烹调系统根据转速控制指令控制所述锅体在第二模式下以小于临界转速的第二转速旋转，使得所述烹调物料在所述锅体的带动下旋转上升后下落；其中,在第二模式下优选使得所述烹调物料基本上随所述锅体旋转至90度到180度的范围内下落，更优选使得所述烹调物料基本上随所述锅体旋转至135度到180度的范围内下落。
9.如权利要求7所述的烹调系统，其中，在第一模式下，所述锅体的旋转轴线基本上处于水平状态。
10.如权利要求8所述的烹调系统，其中，在第二模式下，所述锅体的旋转轴线与水平面的夹角大于0度、小于20度，且所述锅体以锅口向上的状态倾斜。