1.一种利用等离子体活化水溶液进行设备消毒杀菌的方法，其特征是：
(1)等离子体水发生装置：本装置主要包括有高压电极、地电极、介质管、介质板、固定架、水箱以及气室，其中气室的上下开口处均设介质板，气室与两介质板形成的空间内设若干个带孔的均流板，这些均流板组成上下开口的空间，所述气室上具有与其内部相通的进气管，上述位于气室上部开口处的介质板上设水箱，水箱的底部设固定架，该固定架是由上盖、托板以及连接管组成的，托板的上部设与其对应的上盖，托板的上端面与上盖的下端面之间设管槽，托板的下部设一端通向其上端面的连接管，连接管的另一端与气室相通，托板与上盖之间的管槽内设介质管，介质管内部具有高压电极，高压电极与一端伸出气室下部开口处介质板的高压线相接，所述水箱的内壁上并且靠近顶端位置设地电极，水箱上还具有与其内部相通的进水管；
(2)等离子体水发生装置通入工作气体；
(3)将水或者生理盐水或者需要消毒的水溶液放入等离子体水发生装置；
(4)待气流稳定后，等离子体水发生装置通电，20～30min，得到富含油活性粒子的活化溶液；
(5)如需消毒设备，将设备放入等离子体水发生装置中，通过活化溶液冲洗5～10min。
2.根据权利要求1所述的利用等离子体活化水溶液进行设备消毒杀菌的方法，其特征是：所述工作气体为空气。
3.根据权利要求1或2所述的利用等离子体活化水溶液进行设备消毒杀菌的方法，其特征是：作所述需要消毒的水溶液或生理盐水中的NaCl浓度为0.1％～6.9％。
4.根据权利要求3所述的利用等离子体活化水溶液进行设备消毒杀菌的方法，其特征是：所述工作气体的流量为0.5～1.5L/min。
5.根据权利要求1或2或4所述的利用等离子体活化水溶液进行设备消毒杀菌的方法，其特征是：所述等离子体水发生装置的高压电极采用钨丝或铂丝或金丝。
6.根据权利要求5所述的利用等离子体活化水溶液进行设备消毒杀菌的方法，其特征是：所述等离子体水发生装置的地电极为铜箔或铝箔。
7.根据权利要求6所述的利用等离子体活化水溶液进行设备消毒杀菌的方法，其特征是：所述等离子体水发生装置的介质管、介质板、固定架、水箱以及气室均由石英或陶瓷或聚四氟乙烯制成。