专利名称：流体喷射装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种流体喷射装置，尤其涉及一种可应用于基板处理装置中
将液体(DIW)和气体(CDA)的混合流体喷射到基板上而对基板进行清洗，且容 易制作，并可以提高流体喷射效率的流体喷射装置。
背景技术：
通常，流体喷射装置可应用于为清洗基板而对基板喷射混合流体的过程。 这种流体喷射装置中，形成有气体腔室的第一垫板和形成有液体腔室的第二 垫板相重叠并藉由连接部件相互结合。并且，第一垫板和第二垫板之间形成 有用于喷射供给到气体腔室的气体(CDA，清洁用干燥气体)的喷射管道。另 外，第二垫板上形成有以倾斜状态设置、并用于连接液体腔室和喷射管道的 多个连接管道。
艮口，液体腔室的液体(DI water,去离子水)依据汽化器原理经气体和连
接管道被喷射到喷射管道内而形成混合流体，然后喷射到基板上。
上述连接管道是通过铣削(milling)作业等工序形成细长的孔而制作的。
这种现有的流体喷射装置在对所述连接管道进行加工时，由于处理基板逐渐 大型化，流体喷射装置的长度明显变大，而且连接管道的数增加，从而导致 加工时间和加工成本增加。
而且，向气体腔室供给气体的压力大于向液体腔室供给液体的压力。在 气体从气体腔室向喷射管道喷射的过程中，液体腔室侧的连接管道与喷射管
道相连接的位置上有部分气体没有喷射到喷射管道外部，而与液体流出的连 接管道的末端壁相撞,从而改变移动方向，反而流入压力较弱的液体腔室内， 这种现象会降低流体的喷射效率。
而且，现有的流体喷射装置的底面为平面形状，因此混合流体喷射到基 板上时，喷射的流体周围会产生负压，从而发生基板被吸附到流体喷射装置 上的现象，因此会导致基板处理不良的问题。
发明内容
本发明鉴于上述问题而作，本发明的目的在于提供一种具有可易于加工 的用于连接液体腔室和喷射单元的连接流道结构，从而减少生产成本并节约 生产时间，以此来提高生产效率的流体喷射装置。
并且，本发明的又一目的在于提供一种可以防止气体向液体腔室逆流的 现象，以提高流体喷射效率的流体喷射装置。
另外，本发明的另一目的在于提供一种可去除在流体喷射装置中因喷射 的混合流体周围产生负压，导致基板被吸附到流体喷射装置上的现象，从而 防止基板处理不良的流体喷射装置。
为了实现上述目的，本发明提供一种流体喷射装置，其包括第一垫板， 其用于形成气体供给单元；第二垫板，其用于形成液体供给单元，并与所述 第一垫板结合而构成主体；喷射单元，其设置在相互结合的所述第一垫板和 所述第二垫板的末端，并用于喷射混合流体；以及间隙垫板，其设置在所述 第一垫板和所述第二垫板之间，并且其下面设有用于连接所述液体供给单元 和所述喷射单元的连接流道。
所述气体供给单元最好包括气体腔室；以及气体供给流道，其一端与所 述气体腔室连接，另一端与所述喷射单元连接，从而使气体流动。
所述液体供给单元最好包括液体腔室；以及液体供给流道，其一端与所 述液体腔室连接，另一端与所述连接流道连接，从而使液体流动。
所述间隙垫板的下面最好相隔预定距离设置用于形成所述连接流道的多
曰所述喷射单元的宽度最好大于所述气体供给流道的宽度。 所述第一垫板和所述第二垫板之间最好放置所述间隙垫板，并且两者相 面对的侧面分别形成有气体腔室和液体腔室。
所述第一垫板和第二垫板的前端部最好是倾斜面。
所述第二垫板的前端部上最好形成有朝所述第一垫板方向延伸的延伸部。
如上所述的本发明，在间隙垫板的下端部以相同距离隔开形成连接流道 并将其结合到第一垫板和第二垫板之间，所述连接流道由将液体输送到喷射 管道上的多个槽组成。因此其加工容易，生产成本低廉，可提高生产效率。并且，本发明中喷射单元的宽度大于气体供给流道的间距，因此从气体供 给流道向喷射单元供给的部分气体不会流入流体腔室内，而全部被喷射出去， 从而提高了流体的喷射效率。
另外，本发明中流体喷射装置的第一垫板和第二垫板的前端部为倾斜 面，因此可以防止从喷射单元喷射的混合流体的周围产生负压，而避免基板 被吸附到流体喷射装置上的现象，从而防止基板的处理不良。
图1是本发明流体喷射装置一个实施例的的外观结构图。
图2是图1中主要部分的分解立体图。
图3是图i中m-m向剖面图。
图4是图3中A部分的放大图。
图5是用于说明本发明实施例作用的示意图。
具体实施例方式
以下参照附图详细说明本发明的优选实施例。 图.l是用于说明本发明流体喷射装置一个实施例的的外观结构图。 流体喷射装置具有较长的狭缝，其可将在处理槽内混合的液体(DI Water) 和气体(CDA， Clean Dry Air)的混合流体喷射到基板G上，而对基板G进行 清洗。所述流体喷射装置中第一垫板1和第二垫板3藉由连接部件5相互连 接。如图2和图3所示，上述第一垫板1和第二垫板3之间配置有间隙垫板 7。
第一垫板1上形成有气体供给单元2。气体供给单元2可以包括气体腔 室la、用于输送气体腔室la中气体的气体供给流道lb。气体腔室la形成于 第一垫板1上，并可以暂时存储从气体供给装置(省略图示)供给的气体。
而且，第二垫板3上形成有液体供给单元4。液体供给单元4可以包括 液体腔室3a、用于输送液体腔室3a中液体的液体供给流道3b。液体腔室3a 形成于第二垫板3上，并可以暂时存储从液体供给装置(省略图示)供给的液 体。如图3所示，第一垫板1和第二垫板3相互结合，并在其间设有间隙垫 板7，并且第一垫板1和第二垫板3相互面对的侧面分别形成有气体腔室la 和液体腔室3a。
并且，第一垫板1和间隙垫板7之间形成有与气体腔室la连接的气体供 给流道lb。另外，第二垫板3和间隙垫板7之间形成有与液体腔室3a连接 的液体供给流道3b。
另外，第一垫板1和第二垫板3之间的前端上形成有供混合流体通过的 喷射单元13。 g卩，第一垫板1和第一垫板3的前端具有一定间距(gap)，从 而形成了可喷射混合流体的空间，该空间即为喷射单元13。
换句话说，气体供给流道lb是由气体腔室la流出的气体通过的区域， 喷射单元13是由气体腔室la流出的气体和液体的混合流体通过并喷射到基 板G上的区域。
所述喷射单元13的宽度b (如图4所示)最好大于上述气体供给流道lb 的宽度a (如图4所示)。
另外，第二垫板3的前端部朝第一垫板1的方向延伸而形成突出形状的 延伸部3c。
并且，如图2所示，间隙垫板7在其下端形成有等距离隔开的多个槽7a， 所述槽7a具有朝下的开口部。所述多个槽7a是用于连接液体腔室3a和喷射 单元13的连接流道9 (如图4所示)，从而向喷射单元13喷射液体腔室3a 内的液体。即，间隙垫板7与第二垫板3相结合后，间隙垫板7下面的多个 槽7a成为输送液体的连接流道9。
如上所述，间隙垫板7可通过在其下端部以相同间距隔开形成的多个槽 7a来制作使液体流到喷射单元13的连接流道9。如此，通过对间隙垫板7 的下端部进行加工来制作多个槽而形成连接流道9的方式具有加工性优秀、 减少生产成本和时间，从而可提高生产效率的效果。
另外，第一垫板1和第二垫板3的下端部形成有朝两侧倾斜的倾斜面le、 3e。当混合流体以高压状态经喷射单元13喷射到基板G上时，所述倾斜面 le、 3e的周围会形成充分的闲置空间，从而防止喷射的混合流体周围产生负 压。
下面参照附图具体说明如上所述的本发明的作用。并且详细说明向通过 输送装置移送到处理槽内部的基板G喷射混合流体的过程。通过气体供给装置供给到气体腔室la内的气体经由气体供给流道lb和 喷射单元13喷射。此时，液体腔室3a内的液体流过液体供给流道3b，并沿 由间隙垫板7的槽7a构成的连接流道9喷射到喷射单元13上。gp，根据汽 化器的原理，气体从气体供给流道lb和喷射单元13流出时，液体就会与气 体一起通过连接流道9，此时液体和气体混合的混合流体被喷射到基板G上。
此时，如图5所示，气体从气体喷射流道lb流过喷射单元13。并且， 随着喷射单元13的扩充，可防止现有技术中气体向液体喷射流道3b逆流的 现象。
当然气体流过喷射单元13时，液体腔室3a的液体流过连接流道9的同 时成为混合流体，然后喷射到基板G上。
如上所述，由于第一垫板1和第二垫板3的前端部被构成为斜面le、 3e， 因此喷射到基板G上的混合流体的周围会形成充分的空间，从而防止喷射到 基板G上的混合流体的周围产生负压。因此，可以避免基板G被吸附到流体 喷射装置上或者摇晃，从而防止基板处理不良的现象。
权利要求
1.一种流体喷射装置，其特征在于，包括第一垫板，其用于形成气体供给单元；第二垫板，其用于形成液体供给单元，并与所述第一垫板相结合而构成主体；喷射单元，其设置在相结合的所述第一垫板和所述第二垫板的末端，用于喷射混合流体；以及间隙垫板，其设置在所述第一垫板和所述第二垫板之间，并且其下面设有用于连接所述液体供给单元和所述喷射单元的连接流道。
2. 根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于，所述气体供给单 元包括气体腔室，其设置于所述第一垫板上并用于暂时存储气体；以及 气体供给流道，其一端与所述气体腔室连接，另一端与所述喷射单元连 接，从而使气体流动。
3. 根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于，所述液体供给单 元包括液体腔室，其设置于所述第二垫板上并用于暂时存储液体；以及 液体供给流道，其一端与所述液体腔室连接，另一端与所述连接流道连 接，从而使液体流动。
4. 根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于 所述间隙垫板的下面相隔预定距离设置有用于形成所述连接流道的多个槽。
5. 根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于所述喷射单元的宽度大于所述气体供给流道的宽度。
6. 根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于所述第一垫板和所述第二垫板之间放置有所述间隙垫板，并且两者相面 对的侧面分别形成有气体腔室和液体腔室。
7. 根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于 所述第一垫板和第二垫板的前端部为倾斜面。
8. 根据权利要求1所述的流体喷射装置，其特征在于 所述第二垫板的前端部形成有朝所述第一垫板方向延伸的延伸部。
全文摘要
本发明涉及一种可以应用于基板处理装置中将液体(DIW)和气体(CDA)的混合流体喷射到基板上而对基板进行清洗，且容易制作，并可以提高流体喷射效率的流体喷射装置。本发明的流体喷射装置包括第一垫板，其用于形成气体供给单元；第二垫板，其用于形成液体供给单元，并与所述第一垫板相结合而构成主体；喷射单元，其设置在相互结合的所述第一垫板和所述第二垫板的末端，而用于喷射混合流体；以及间隙垫板，其设置在所述第一垫板和所述第二垫板之间，且在下面设有用于连接所述液体供给单元和所述喷射单元的连接流道。
文档编号B08B3/02GK101632991SQ200910136428
公开日2010年1月27日 申请日期2009年5月8日 优先权日2008年7月24日
发明者朴镐胤, 李承俊 申请人:显示器生产服务株式会社