专利名称：一种曝光机基台的清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及设备清洗技术领域，特别涉及一种曝光机基台的清洗装置。
背景技术：
曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备。曝光机基台表面需要保持清洁，每半月或一月清理擦拭一次，现有技术下，清理曝光机基台的方法是:操作人员穿上无尘衣服，用手拿着沾有清洗液的无尘布，将手臂伸入曝光机内部对曝光机的基台进行擦拭。但是，清洗液中常含有大量的工业酒精，工业酒精中含有许多危害人体健康的物质。工业酒精中含有的甲醇对人视觉神经有严重的伤害作用，摄入一定量的甲醇可造成让人失明，甚至死亡。甲醇吸入过多后会感到眩晕，头痛；有害的醛类中甲醛是细胞原浆毒，超过30mg/L的浓度即发生粘膜刺激症状出现烧灼感。
实用新型内容本实用新型提供了一种曝光机基台的清洗装置，减少操作人员与清洗液直接接触，从而保证操作人员的人身安全。为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案:一种曝光机基台的清洗装置，包括:固定架，固定在所述曝光机上；安装于所述固定架上的清洗耙本体，所述清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通所述容腔的开口；密封所述开口的塞盖；位于所述清洗耙本体的清洁面上的海绵，以及一端与所述容腔连通、且将所述容腔内的清洗液引至所述海绵的导液通道；包裹所述海绵的无尘布。优选地，所述导液通道为引流管，所述清洗耙本体具有容纳所述引流管的腔室，所述引流管的一端插入所述海绵，另一端与所述容腔相通。优选地，所述引流管为带有塑料薄管的尼龙线。优选地，所述清洗耙本体上具有把手，且所述把手的外端安装于所述固定架。优选地，所述固定架上设有圆形孔，所述把手的横截面为圆形，所述把手的外端插入所述圆形孔内，并通过紧固螺钉安装在所述固定架上。优选地，所述固定架包括:导轨；与所述导轨滑动配合的滑块；驱动所述滑块往复运动的驱动装置；[0021 ] 所述把手的另一端固定于所述滑块。优选地，所述驱动装置包括:与所述导轨相对固定的电机；与所述电机的输出轴传动连接的螺纹丝杠；所述螺纹丝杠与所述滑块传动连接。优选地,所述驱动装置包括:与所述导轨相对固定的电机；固定于所述电机输出轴上的齿轮；与所述滑块固定连接、且与所述导轨平行设置的齿条，所述齿条与所述齿轮啮合。优选地，所述把手上设有位移传感器。 优选地，所述清洗耙本体具有耙形结构。优选地，所述开口位于所述清洗耙本体中与所述清洁面相对的一端。优选地，上述曝光机基台的清洗装置还包括:固定所述无尘布的固定机构，所述固定机构包括:设置在所述清洗耙本体上的的卡槽以及与所述卡槽配合的圆环。优选地，所述海绵为晴纶棉。本实用新型提供了一种曝光机基台的清洗装置，包括:固定架，固定在所述曝光机上；安装于所述固定架上的清洗耙本体，所述清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通所述容腔的开口；密封所述开口的塞盖；位于所述清洗耙本体的清洁面上的海绵，以及一端与所述容腔连通、且将所述容腔内的清洗液引至所述海绵的导液通道；包裹所述海绵的无尘布。本实用新型提供的曝光机基台的清洗装置，在使用时，将无尘布包裹在清洗耙本体的清洁面上，打开所述塞盖，将清洗液从开口处倒入所述容腔内，盖合所述塞盖。容腔内的清洗液通过所述导液通道导入海绵中，海绵中的清洗液慢慢的渗入到无尘布中，无尘布呈半湿状态时，便可以对曝光机的基台进行清洗。具体的清洗过程为:在本实施例中，优选地是将固定架固定在曝光机门的内侧，打开曝光机基台的门，清洗耙本体安装在固定架上，使得清洗耙本体的清洁面上的无尘布与曝光机基台表面紧密贴合，关闭曝光机门。打开控制曝光机基台移动的电机，曝光机基台开始前后左右移动，这样便可以对曝光机基台表面的每一处进行擦洗。上述清洗装置，避免了上述背景技术中提到的操作人员手拿沾有清洗液的无尘布去清洗曝光机基台，且清洗装置清理曝光机基台过程中，曝光机的门是关闭的，挥发出的清洗液中的工业酒精将被曝光机空气过滤系统清除。所以，本实用新型提供的曝光机基台的清洗装置，减少操作人员与清洗液直接接触，从而保证操作人员的人身安全。
图1为本实用新型提供的清洗装置结构示意图；[0045]图2为本实用新型提供的固定架结构示意图；图3为本实用新型提供的清洗耙底部结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型提供了一种曝光机基台的清洗装置，如图1所示，包括:固定架1，固定在曝光机上；安装于固定架I上的清洗耙本体2，清洗耙本体2具有容纳清洗液的容腔21以及连通所述容腔的开口 ；密封开口的塞盖22;位于清洗耙本体2的清洁面上的海绵23，以及一端与容腔21连通、且将容腔21内的清洗液引至海绵23的导液通道；包裹海绵23的无尘布3。本实用新型提供的曝光机基台的清洗装置，在使用时，将无尘布3包裹在清洗耙本体2的清洁面上，如图1所示，打开塞盖22，将清洗液从开口处倒入容腔21内，盖合塞盖22。容腔21内的清洗液通过导液通道导入海绵23中，海绵23中的清洗液慢慢的渗入到无尘布3中，无尘布3呈半湿状态时，便可以对曝光机的基台进行清洗。具体的清洗过程为:在本实施例中，优选地是将固定架I固定在曝光机门的内侧，打开曝光机基台的门，清洗耙本体2安装在固定架I上，使得清洗耙本体2的清洁面上的无尘布3与曝光机基台表面紧密贴合，关闭曝光机门。打开控制曝光机基台移动的电机，曝光机基台开始前后左右移动，这样便可以对曝光机基台表面的每一处进行擦洗。上述清洗装置，避免了上述背景技术中提到的操作人员手拿沾有清洗液的无尘布去清洗曝光机基台，且清洗装置清理曝光机基台过程中，曝光机的门是关闭的，挥发出的清洗液中的工业酒精将被曝光机空气过滤系统清除。所以，本实用新型提供的曝光机基台的清洗装置，减少操作人员与清洗液直接接触，从而保证操作人员的人身安全。进一步地，导液通道为引流管24，清洗耙本体2具有容纳引流管24的腔室，引流管24的一端插入海绵23，另一端与容腔22相通。这样，可以使容腔21内的清洗液顺着引流管24的方向，流入海绵23中。更进一步地，为了控制清洗液在清洗耙本体2内的流速，引流管24为带有塑料薄管的尼龙线。尼龙线将吸收部分清洗液，从而减慢清洗液在清洗耙本体2内的流速。如图2所示，上述技术方案中，清洗耙本体2上具有把手26，且把手26的外端安装于固定架I。把手26的设计可以加长清洗耙本体2，使清洗耙本体2清洗到曝光机基台的
每一处。进一步地，如图2所示，上述固定架I上设有圆形孔13，把手26的横截面为圆形，把手26的外端插入圆形孔内，并通过紧固螺钉5安装在固定架I上。上述技术方案中，进一步地，如图1所示，固定架I包括:导轨11 ;与导轨11滑动配合的滑块12 ;驱动滑块12往复运动的驱动装置；把手26的另一端固定于滑块12。本实用新型提供的曝光机基台的清洗装置，可以通过滑块12和导轨11调节清洗耙本体2上的无尘布3与曝光机基台表面的距离。驱动装置控制滑块12沿着导轨11滑动，当清洗耙本体2清洁面上的无尘布3与曝光机基台表面紧密贴合时，关闭驱动装置。清洗完毕后，驱动装置驱动滑块12回到导轨11的一端。上述技术方案中提到驱动滑块12往复运动的驱动装置可以通过多种方式驱动滑块12:方式一上述驱动装置包括:与导轨11相对固定的电机；与电机的输出轴传动连接的螺纹丝杠；螺纹丝杠与滑块传动连接。具体的驱动过程为:按下电机正向旋转按钮，电机驱动螺纹丝杠正向旋转，从而带动滑块12沿着导轨11滑动，当清洗耙本体2清洁面上的无尘布3与曝光机基台表面接触时，关闭电机。清洗完毕后，按下电机方向旋转按钮，电机驱动螺纹丝杠反向旋转，从而带动滑块12回到导轨11的一端。方式二上述驱动装置包括:与导轨11相对固定的电机；固定于电机的输出轴上的齿轮；与滑块固定连接、且与导轨平行设置的齿条，齿条与齿轮啮合。具体的驱动过程为:按下电机正向旋转按钮，电机带动齿轮顺时针旋转，齿轮带动齿条移动，齿条再带动滑块12沿着导轨11滑动，当清洗耙本体2清洁面上的无尘布3与曝光机基台表面接触时，关闭电机。清洗完毕后，按下电机方向旋转按钮，电机驱动齿轮反向旋转，齿轮带动齿返方向移动，从而带动滑块12回到导轨11的一端。上述方案一和方案二中，进一步地，为了更好的控制清洗耙本体2与曝光机基台的距离，把手26上设有位移传感器261。设置把手26与曝光机基台表面的距离为30毫米，在电机驱动的过程中，当清洗耙本体2的清洁面与曝光机基台表面贴合时，位移传感器261接收到信号，并将信号传送给电机，电机停止转动。本实施例中，优选地，位移传感器261为WenglOrd03nb3型号的传感器，当然，位移传感器261也可以为其它型号的传感器，这里就不再一一赘述。由于曝光机基台与上面镜片LENS固件之间的空间狭小，所以，优选地，清洗耙本体2具有耙形结构，耙形结构紧凑，可以有效解决曝光机内部空间狭小带来的清洗不便的问题。为了便于向容腔21内倒入清洗液，优选地，开口位于清洗耙本体2中与清洁面相对的一端。如图3所示，为了防止无尘布3在清洗过程中，从清洗耙本体2上脱落，上述曝光机基台的清洗装置还包括:固定无尘布3的固定装置25，固定机构25包括:设置在清洗耙本体2上的卡槽以及与卡槽配合的圆环。当然，无尘布3也可以通过其它形式的固定机构固定在清洗耙本体2上，如铆钉等，这里就不再一一赘述。为了提高清洗装置的清理曝光机基台的洁净度，优选地，上述圆环的材料为不锈钢材料，同时可以防止圆环被腐蚀，延长圆环的使用寿命。上述技术方案中，优选地，海绵23为晴纶棉。曝光机基台的表面一般都凹凸不平，晴纶棉具有良好的伸展收缩性，可以使晴纶棉下的无尘布3无缝隙的贴合在曝光机基台表面，从而使曝光机基台表面更清洁。本实用新型提供的曝光机基台的清洗装置，优选的实施例中，是应用在尼康FX601曝光机基台清洗，当然，本实用新型提供的曝光机基台的清洗装置也可以应用在的其它型号的曝光机基台清洗，这里就不再一一赘述。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种曝光机基台的清洗装置，其特征在于，包括: 固定架，固定在所述曝光机上； 安装于所述固定架上的清洗耙本体，所述清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通所述容腔的开口； 密封所述开口的塞盖； 位于所述清洗耙本体的清洁面上的海绵，以及一端与所述容腔连通、且将所述容腔内的清洗液引至所述海绵的导液通道； 包裹所述海绵的无尘布。
2.根据权利要求1所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述导液通道为引流管，所述清洗耙本体具有容纳所述引流管的腔室，所述引流管的一端插入所述海绵，另一端与所述容腔相通。
3.根据权利要求2所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述引流管为带有塑料薄管的尼龙线。
4.根据权利要求1所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述清洗耙本体上具有把手，且所述把手的外端安装于所述固定架。
5.根据权利要求4所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述固定架上设有圆形孔，所述把手的横截面为圆形，所述把手的外端插入所述圆形孔内，并通过紧固螺钉安装在所述固定架上。
6.根据权利要求5所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述固定架包括: 导轨； 与所述导轨滑动配合的滑块； 驱动所述滑块往复运动的驱动装置； 所述把手的另一端固定于所述滑块。
7.根据权利要求6所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述驱动装置包括: 与所述导轨相对固定的电机； 与所述电机的输出轴传动连接的螺纹丝杠； 所述螺纹丝杠与所述滑块传动连接。
8.根据权利要求6所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述驱动装置包括: 与所述导轨相对固定的电机； 固定于所述电机输出轴上的齿轮； 与所述滑块固定连接、且与所述导轨平行设置的齿条，所述齿条与所述齿轮啮合。
9.根据权利要求5所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述把手上设有位移传感器。
10.根据权利要求Γ9任一项所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述清洗部具有耙型结构。
11.根据权利要求10所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述开口位于所述清洗耙本体中与所述清洁面相对的一端。
12.根据权利要求1所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，还包括固定所述无尘布的固定机构，所述固定机构包括:设置在所述清洗耙本体上的的卡槽以及与所述卡槽配合的圆环。
13.根据权利要 求10所述的曝光机基台的清洗装置，其特征在于，所述海绵为晴纶棉。
专利摘要本实用新型涉及设备清洗技术领域，公开了一种曝光机基台的清洗装置。包括固定架，固定在曝光机上；安装于固定架上的清洗耙本体，清洗耙本体具有容纳清洗液的容腔以及连通容腔的开口；密封开口的塞盖；位于清洗耙本体的清洁面上的海绵，以及一端与容腔连通、且将容腔内的清洗液引至海绵的导液通道；包裹海绵的无尘布。上述清洗装置在使用时，避免了操作人员手拿沾有清洗液的无尘布去清洗曝光机基台，且清洗装置清理曝光机基台过程中，曝光机的门是关闭的，挥发出的清洗液中的工业酒精将被曝光机空气过滤系统清除。所以，上述曝光机基台的清洗装置，减少操作人员与清洗液直接接触，从而保证操作人员的人身安全。
文档编号B08B3/08GK202951681SQ201220704080
公开日2013年5月29日 申请日期2012年12月18日 优先权日2012年12月18日
发明者肖磊, 卜斌, 邓世刚, 陈一民 申请人:京东方科技集团股份有限公司