专利名称：一种亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型属于一种镀膜玻璃，主要涉及一种亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃。
背景技术：
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银)，使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，玻璃自身又不存储能量，因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少，称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于窗户上，可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内，降低夏天室内温度，节约空调制冷费用，冬天可以阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。现在市场上已经有很多种可钢化低辐射镀膜玻璃产品，第一层膜有用氮化硅的， 也有用氧化钛的，第二层膜都是银膜，也有前面加一层镍铬膜的结构，第三层都用镍铬层， 第四层为保护膜，一般采用氧化锡或氮化硅作保护膜。这些产品的可见光反射率较高，会产生一定的“光污染”，市场上缺乏一种反射率较低的亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃。
发明内容本实用新型目的是提供一种八层膜结构的亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃，使其具有表面亮度低的优点。本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现其具有玻璃基片，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层、镍铬膜层、氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、氮化硅膜层，从而构成八层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，可以利用第二层镍铬膜产生光线干涉，降低镀膜玻璃表面亮度。第四、六层膜采用镍铬膜，可以保证银膜层在钢化炉内700度的高温下，不被氧化或与其它物质反应，具有可钢化性能。
附图1为本实用新型的具体结构示意图。图中1、玻璃基片，2、氮化硅膜层，3、镍铬膜层，4、氮化硅膜层，5镍铬膜层，6、银膜层，7、镍铬膜层，8、氧化锡膜层，9、氮化硅膜层。
具体实施方式
结合附图，说明本实用新型的具体实施例。如附图1所示其具有玻璃基片1，在玻璃基片表面上，从底层向上依次镀有氮化硅膜层2、镍铬膜层3、氮化硅膜层4、镍铬膜层5、银膜层6、镍铬膜层7，氧化锡膜层8、氮化硅膜层9，从而构成八层膜结构的亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃。本实用新型是在真空环境下，通过磁控溅射在玻璃表面沉积八层膜的方法，生产一种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1. 1 X IO-4Pa以下，充入工艺气体(氧气或氮气或氩气)，使镀膜室压力稳定在0. 3Pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氮气，靶材为硅靶，将氮化硅膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度10至60纳米；第二个镀膜室充入氩气，靶材为镍铬靶，在氮化硅上面沉积第二层镍铬膜，厚度1至10 纳米；第三个镀膜室充入氮气，靶材为硅靶，在镍铬膜上沉积第三层氮化硅膜，厚度10至60 纳米；第四个镀膜室充入氩气，靶材为镍铬靶，在氮化硅膜上沉积第四层镍铬膜，厚度1至 10纳米；第五个镀膜室充入氩气，靶材为银靶，在镍铬膜上面沉积第五层银膜，厚度1至20 纳米；第六个镀膜室充入氩气，靶材为镍铬靶，在银膜上沉积第六层镍铬膜，厚度1至10纳米；第七个镀膜室充入氧气，靶材为锡靶，在镍铬膜上沉积第七层氧化锡膜，厚度15至60纳米；第八个镀膜室充入氮气，靶材为硅靶，在氧化锡膜上沉积第八层氮化硅膜，厚度10 60 纳米。 第二层镍铬膜产生光线干涉，降低镀膜玻璃亮度，第一层、第三层氮化硅膜和第八层氮化硅膜起保护银膜和镍铬膜的作用，提高膜层的耐高温性能和耐氧化、耐腐蚀性能。采用该结构，可以使产品具有可钢化和表面亮度低的优点。
权利要求1. 一种亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上， 从底层向上依次镀有氮化硅膜层O)、镍铬膜层(3)、氮化硅膜层0)、镍铬膜层(5)、银膜层 (6)、镍铬膜层(7)，氧化锡膜层(8)、氮化硅膜层(9)，从而构成八层膜结构的亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃。
专利摘要本实用新型公开了一种亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上，从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、镍铬膜层(3)、氮化硅膜层(4)、镍铬膜层(5)、银膜层(6)、镍铬膜层(7)，氧化锡膜层(8)、氮化硅膜层(9)，从而构成八层膜结构的亚光型可钢化低辐射镀膜玻璃。采用该结构，可以使产品具有可钢化和表面亮度低的优点。
文档编号C03C17/36GK202170301SQ20112028879
公开日2012年3月21日 申请日期2011年8月4日 优先权日2011年8月4日
发明者张珮珮, 李劲飚, 王红兵, 郭明 申请人:洛阳新晶润工程玻璃有限公司