专利名称：一种高红外反射的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品的制作方法
技术领域：
本发明涉及玻璃镀膜领域，特别是涉及高可见光透过率、高红外反射和可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品，尤其适用于交通工具上面的双银或三银镀膜夹层玻
璃O
背景技术：
低辐射薄膜(low-e膜)玻璃具有透过可见光和反射红外线的优点，因此作为ー种緑色环保产品在建筑和交通工具上面有巨大的市场需求。低辐射薄膜的核心材料是ー层或者多层的银层(9纳米 15纳米)，由于银层容易被腐蚀和氧化，所以必须在银层的上、下方都沉积能够透过可见光的透明介质层；这些介质层能够保护银层在后续加工，特别是高温热处理(如钢化和烘弯成型)过程中不被破坏；此外，银层上、下方的介质层还起到减反射 的作用，能够提高低辐射镀膜玻璃的可见光透过率。在具有至少ー层银层的低辐射薄膜结构中，沉积在最远离玻璃基片的银层上方的介质层或者介质层组合必须具有优良的氧原子阻隔能力、优良的化学稳定性和机械稳定性。表I列举了专利文献中披露的常见的沉积在最远离玻璃基片的银层上方的上介质层膜层搭配结构，主要的膜层材料选自Si3N4、ZnSnOx、SnO2等，同时在银层的上、下方设置ZnO膜层以增强热稳定性，在最外层设置保护涂层例如TiO2, SiOxNy、ZrO2, Zn2TiO4, TiN等改善膜层的机械和化学耐久性。表I专利文献中披露的部分上介质层结构
专利__上介质层结构_
CN1020639C··-IZn2SnO4ITiO2,其中TiO2层厚度为几个纳米，可被SiOxNy或者
US6495251 _ ZrO,取代 _
CN12U9489C — ".IZnOIZiiSiiCKITia _
U SB 15 8263 B2 — ---IZnOISnO,_
—CN1272271C — "·| ZnOISi3N4, _··-IZnOITiNZNbNISi3Ni _
US6159621 _IZnSnOxiAl.SblSnO.ITiO^_
CNI906136B -"IZnOISi3N,-----
US7858I93B2 -..iZiiC^AliShNUIZnSnSbCKIZn^TiC^
US8043707B2 —…|ZnO:Al|NiCrOx|Si;N4|TiZrHrYCK，_---|ZnO:Al|ZnSnOx|NiCrOx|SiN _ CN100349819C -.-ISnO2IZri2TiO4: Al
CN1852871B -"ITiO, _
US8142622 __-iSnO；|Si；N4 _
_US78972.60B2 — ...!ZnOISiiO .IShN4 _
_US6730352 _ ".ISi3N4 _
US5450238_し··| TiO^ 成 Nb^O,|SiO^ _表I披露的现有技术存在若干缺点，例如专利US6495251和CN1209489C公开了 ZnSnOx作为上介质层的ー种膜层结构，但Zn2SnO4基材料偏软；专利CN100349819C、US615962UUS8142622和US7897260公开了 SnO2作为上介质层的ー种膜层结构，但SnO2偏软、致密性和氧原子阻隔能力较差；专利CN1906136B公开了 ZnO作为上介质层，Si3N4作为保护层的ー种膜层结构，但Si3N4和ZnO之间的界面稳定性不够。专利US5450238公开了TiO2作为上介质层的ー种膜层结构，但以TiO2作为上介质层的主体的高温热处理稳定性不足，同时Ti金属靶材的溅射效率低，不能满足大批量高效的生产。因此需要获得氧原子阻隔能力强、致密、硬度高、化学稳定性好和镀膜生产过程中溅射速度快的上介质层，以改善low-e镀膜产品的特性。ZrO2或者ZrOxNy膜层具有很高的硬度，而且难溶于普通的酸、碱溶液，常用为low-e膜的最外保护层，其作用类似于TiO2，如专利US7314668所描述的；鉴于Zr对氧原子的高亲和能力，ZrO2作为银的牺牲层保护银不被氧化，其作用类似于Ti和NiCr，如US7713587所描述的；Zr02作为封闭层直接沉积在玻璃表面，如专利W02008060453A2所描述的；此外专利US7951473还披露了…| ZrO2或ZrOxNy | ZnO| Ag|…的叠层结构，其中ZrO2或者ZrOxNy作为力学稳定性增强层。
尽管ZrO2在溅射镀膜和low-e薄膜领域是公知的材料，然而依据本领域技术人员的一般认识，ZrO2.—种优良的氧离子导体，不适合于作为low-e膜层的上介质层来阻隔氧原子的扩散。但是令人惊讶的，ZrO2膜层作为双银和三银low-e膜层的上介质层的主体而不是常规的最外层保护层，在ZrO2膜层上增加ー层保护层之后，在高温热处理过程中有效的保护了银层不被氧化。此外，以ZrO2膜层作为low-e膜的上介质层，体现出了优异的机械稳定性。
发明内容
本发明的目的在于克服上述缺陷，提供ー种具有改进的机械稳定性和高温热处理稳定性以及高可见光透过率的高红外反射的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品。本发明采用的技术方案是一种高红外反射的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替叠加的至少三个介质层和至少两个红外反射层，交替叠加的顺序为先介质层后红外反射层，交替叠加的膜层的最上层为介质层，其特征在干位于最上层的上介质层包括1)第二介质膜，选自ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)中的至少ー种；2)沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少ー种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮化物中的至少ー种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮氧化物中的至少ー种。优选地，所述低辐射镀膜玻璃包括两个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层、上介质层。优选地，所述低辐射镀膜玻璃包括三个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层、第三介质层、第三红外反射层、上介质层。优选地，所述上介质层还包括沉积在所述第二介质膜之下的第一介质膜，所述第一介质膜包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー种。
优选地,所述上介质层的第二介质膜的几何厚度为5 40nm ;所述上介质层的第三介质膜的几何厚度为5 lOOnm。优选地，所述红外反射层为银层或含银的合金层，膜层的几何厚度为7 20nm。优选地，所述低辐射镀膜 玻璃至少有ー个红外反射层之上在沉积其他膜层之前沉积有阻隔层，所述阻隔层的材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少ー种，所述阻隔层的几何厚度为O. 5 10nm。优选地,第一介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少ー种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物，第一介质层的几何厚度为10 50nm ;第二介质层包含至少ー种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物，第二介质层的几何厚度为40 lOOnm。优选地，第三介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少ー种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物，第三介质层的几何厚度为40 lOOnm。本发明还提供一种夹层玻璃制品，包括两块玻璃和两块玻璃之间的夹层聚合物，两块玻璃中至少ー块选自以上任一所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，所述高红外反射的低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。与现有技术相比，本发明能够提供光学质量合格、化学耐久性和机械耐久性均有改善的低辐射镀膜玻璃，体现出了如下主要优点第一，ZrO2和ZrOxNy膜层折射率高，利于获得中性外观的镀膜产品；第二，ZrO2和ZrOxNy的化学稳定性和机械性能均优于ZnSnOx、SnO2等常规膜层；第三，与Si3N4相比，ZrO2在和ZnO等膜层接触时能够保持热处理过程中的界面稳定性，不会出现热处理时的界面破坏，或者在构成产品后的膜层之间或者膜层最外层和夹层聚合物之间粘结カ不够造成产品不合格；第四，在采用同种溅射靶材(金属靶或者陶瓷靶)的情况下，ZrO2和ZrOxNy的溅射速率高于TiO2，保证了足够的生产效率。
图I为本发明所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃的双银膜系结构示意图；图2为本发明所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃的三银膜系结构示意图；图3为本发明所述的夹层玻璃制品的一种结构示意图；图4为本发明所述的夹层玻璃制品的另ー种结构示意图。图中1为玻璃基板；2为第一介质层,21为第一介质层下层,22为第一介质层上层；3为第一红外反射层；4为第一阻隔层；5为第二介质层，51为第二介质层下层，52为第ニ介质层中间层，53为第二介质层上层；6为第二红外反射层；7为第二阻隔层；8为第三介质层，81为第三介质层下层，82为第三介质层中间层，83为第三介质层上层；9为第三红外反射层；10为第三阻隔层；11为上介质层，111为上介质层的第一介质膜，112为上介质层的第二介质膜，113为上介质层的第三介质膜；12为外层玻璃板；13为内层玻璃板；14为夹层聚合物；15为低辐射薄膜。
具体实施例方式以下结合附图对本发明的内容作进ー步说明。如图I和图2所示，本发明所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替叠加的至少三个介质层和至少两个红外反射层，交替叠加的顺序为先介质层后红外反射层，交替叠加的膜层的最上层为介质层，其特征在于位于最上层的上介质层11包括1)第二介质膜112，选自ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)中的至少ー种；2)沉积在所述第二介质膜112上的第三介质膜113，所述第三介质膜113选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少ー种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮化物中的至少ー种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮氧化物中的至少ー种。其中，ZrO2和ZrOxNy膜层具有优良的化学、力学耐久性；Zr02和ZrOxNy膜层折射率高，利于获得中性外观的镀膜产品；在采用同种溅射靶材(金属靶或者陶瓷靶)的情况 下，ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)的溅射速率高于TiO2，保证了足够的生产效率。上介质层中包含…I ZrO2或ZrOxNy |第三介质膜的叠层结构，ZrO2或ZrOxNy膜层112和第三介质膜113直接接触，ZrO2或ZrOxNy膜层作为low-e膜层的上介质层的主体而不是常规的最外层保护层，在其上沉积第三介质膜113作为保护层之后，在高温热处理过程中有效的保护了银层不被氧化。其中，ZrO2或ZrOxNy膜层112的几何厚度范围为5 40nm，第三介质膜113的几何厚度为5 lOOnm。优选地，所述上介质层11还包括沉积在所述第二介质膜112之下的第一介质膜111，所述第一介质膜111包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自 Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー种。ZnO 膜或掺杂的ZnO膜可以提高银层在高温热处理中的稳定性。ZnO膜层中的掺杂元素利于提高膜层溅射过程中的稳定性和減少膜层缺陷，可以为银层提供有利的生长界面，提高银层的导电性，降低辐射率。此外，ZnO和ZrO2膜层接触时能够保持热处理过程中的界面稳定性，不会出现热处理时的界面破坏，或者在构成产品后的膜层之间或者膜层的最外层和夹层聚合物之间粘结カ不够造成产品不合格。本发明的实施例中上介质层11的厚度不限制本发明的保护范围，并且可以选择，上介质层11的几何厚度范围10 140nm，优选厚度为20 80nm。优选地，所述低辐射镀膜玻璃包括两个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括玻璃基板I、第一介质层2、第一红外反射层3、第二介质层5、第二红外反射层6、上介质层11。优选地，所述低辐射镀膜玻璃包括三个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括玻璃基板I、第一介质层2、第一红外反射层3、第二介质层5、第二红外反射层6、第三介质层8、第三红外反射层9、上介质层11。设置三个红外反射层具有更高的红外反射率，可以获得极佳的保温和隔热效果。在本发明中，所述第一红外反射层3、第二红外反射层6和第三红外反射层9的主要功能是用于反射红外线，減少红外线从低辐射镀膜玻璃中透射，所以上述反射层的膜层材料可以选用能够反射红外线的任何材料，例如(但不局限干)银、金、铜、铝等，在本发明中优选为银或含银的合金，其中含银的合金在本发明中优选为银与金、铝、铜中至少ー种的合金。在本发明的实施例中均选用了银，能够有效降低辐射率，提高隔热和保温性能。实施例中银的厚度不限制本发明的保护范围，并且可以选择，以提供低辐射系数的镀膜玻璃。本发明的实施例中优选厚度为7 20nm的银作为红外反射金属层。在本发明中，第一介质层2用于减少可见光区域的反射、阻止热处理过程中玻璃表面的破坏性原子(例如Na和O原子)向第一红外反射层3的扩散以及引导第一红外反射层3的结晶。第一介质层2选自Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物中的至少ー种，或者选自Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物中的至少ー种。优选地，第一介质层2至少包含第一介质层下层21和第一介质层上层22,其中第一介质层上层22直接和第一红外反射层3接触,第一介质层上层22的优选材料为ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、SC等元素中的至少ー种，用于提高红外反射层的结晶质量、降低镀膜产品
的方块电阻和可见光吸收。本发明的实施例中第一介质层2的厚度不限制本发明的保护范围，并且可以选择，第一介质层2的优选厚度为10 50nm。在本发明中，第二介质层5用于减少可见光区域的反射、保持膜系热稳定性和引导第二红外反射层6的結晶。第二介质层5选自Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物中的至少ー种，或者选自Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物中的至少ー种。优选地，第二介质层5至少包含第二介质层下层51、第二介质层中间层52和第二介质层上层53，其中第二介质层下层51和第二介质层上层53的优选材料为ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー种。在本发明中，第三介质层8用于减少可见光区域的反射、保持膜系热稳定性和引导第三红外反射层9的結晶。第三介质层8选自Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物中的至少ー种，或者选自Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物中的至少ー种。优选地，第三介质层8至少包含第三介质层下层81、第三介质层中间层82和第三介质层上层83，其中第三介质层下层81和第三介质层上层83的优选材料为ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー种。本发明实施例中所述第一介质层2、第二介质层5、第三介质层8和上介质层11中的膜层是由本领域技术人员所公知的磁控溅射技术沉积到玻璃基板I上的，其中，上介质层11的第二介质膜112的膜层材料选用ZrO2或ZrOxNy膜层，上介质层11的第三介质膜113的膜层材料选用SiO2或TiO2膜层。所述ZrO2膜层采用Zr金属靶在Ar/02流量比例为3/1 1/1的气氛下中频反应派射沉积，或者采用ZrOx陶瓷祀在O2的流量为I 10%的Ar、02混合气氛中中频派射沉积的；所述ZrOxNy (0〈y〈x〈2)膜层是用Zr金属祀在Ar/02/N2混合气氛下中频反应溅射沉积的，其中N2占总气体流量的比例不超过20% ;所述SiO2膜层采用SiAl合金靶在Ar/02流量比例为1/1 1/2的气氛下中频溅射沉积；所述TiO2膜层是采用TiOx靶在O2的流量为I 10%的Ar、O2混合气氛中中频溅射沉积的。优选地，所述低辐射镀膜玻璃至少有ー个红外反射层之上在沉积其他膜层之前沉积有阻隔层，所述阻隔层的材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少ー种，所述阻隔层的几何厚度为O. 5 10nm。
在本发明中，如图I所示，在所述第一红外反射层3上设置第一阻隔层4，以防止第ー红外反射层3在后续膜层沉积以及高温热处理过程中受到氧化破坏，在所述第二红外反射层6上设置第二阻隔层7，以防止第二红外反射层6在后续膜层沉积以及高温热处理过程中受到氧化破坏；如图2所示，在所述第一红外反射层3上设置第一阻隔层4，以防止第一红外反射层3在后续膜层沉积以及高温热处理过程中受到氧化破坏，在所述第二红外反射层6上设置第二阻隔层7，以防止第二红外反射层6在后续膜层沉积以及高温热处理过程中受到氧化破坏，在所述第三红外反射层9上设置第三阻隔层10，以防止第三红外反射层9在后续膜层沉积以及高温热处理过程中受到氧化破坏；进ー步地，以上所述的阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属及其不完全氧化物或者不完全氮化物中的至少ー种。如图3和图4所示的本发明所述的夹层玻璃制品，包括外层玻璃板12、内层玻璃板13、夹层聚合物14和低辐射薄膜15，所述外层玻璃板12是指装配在汽车上时面向车外的玻璃；所述内层玻璃板13是指装配在汽车上时面向车内的玻璃；所述夹层聚合物14是 指PVB膜片；在图3中，低辐射薄膜15位于内层玻璃板13的上面，且位于内层玻璃板13上靠近夹层聚合物14的一面，即此夹层玻璃制品的内层玻璃为低辐射镀膜玻璃；在图4中，低辐射薄膜15位于外层玻璃板12的上面，且位于外层玻璃板12上靠近夹层聚合物14的一面，即此夹层玻璃制品的外层玻璃为低辐射镀膜玻璃；可以理解的是，本发明保护的夹层玻璃制品，包括两块玻璃和两块玻璃之间的夹层聚合物，其中，两块玻璃中至少ー块选自以上所述的低辐射镀膜玻璃，所述高红外反射的低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。以下为了更详细地说明和更具说服力地支撑本发明的发明点，现列举一些实施例进行详细阐述。实施例I 6 :以厚度为2. I毫米的钠钙硅酸盐浮法绿玻为基片，经过了切割、磨边、洗涤、烘干后，进入磁控溅射镀膜线进行沉积，本底真空度高于9X 10_4Pa。根据如表2所示不同膜系结构在玻璃上依次沉积。其中ZrO2采用Zr金属靶在Ar/02流量比例为3/1的混合气氛下中频反应溅射沉积，TiO2采用TiOx陶瓷靶在Ar和含有微量O2 (O2流量比例为5%)的气氛中中频溅射沉积。其余各层的膜层材料和厚度在表2中均有体现，其溅射エ艺也均为本领域技术人员所公知，故在此不一一详述。表2 :对比例I 3和实施例I 6膜系结构以及烘弯热处理前后的外观和关键
技术指标比较
权利要求
1.一种高红外反射的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替叠加的至少三个介质层和至少两个红外反射层，交替叠加的顺序为先介质层后红外反射层，交替叠加的膜层的最上层为介质层，其特征在于位于最上层的上介质层包括1)第二介质膜，选自ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)中的至少一种；2)沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮氧化物中的至少一种。
2.根据权利要求I所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述低辐射镀膜玻璃包括两个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层、上介质层。
3.根据权利要求I所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述低辐射镀膜玻璃包括三个红外反射层，膜层结构自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介质层、第一红外反射层、第二介质层、第二红外反射层、第三介质层、第三红外反射层、上介质层。
4.根据权利要求I所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述上介质层还包括沉积在所述第二介质膜之下的第一介质膜，所述第一介质膜包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc等元素中的至少一种。
5.根据权利要求I所述的的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述上介质层的第二介质膜的几何厚度为5 40nm ;所述上介质层的第三介质膜的几何厚度为5 IOOnm0
6.根据权利要求I所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述红外反射层为银层或含银的合金层，膜层的几何厚度为7 20nm。
7.根据权利要求I所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述低辐射镀膜玻璃至少有一个红外反射层之上在沉积其他膜层之前沉积有阻隔层，所述阻隔层的材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种，所述阻隔层的几何厚度为O. 5 10nm。
8.根据权利要求2或3所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于第一介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物,第一介质层的几何厚度为10 50nm ;第二介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物，第二介质层的几何厚度为40 lOOnm。
9.根据权利要求3所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，其特征在于第三介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物,第三介质层的几何厚度为 40 lOOnm。
10.一种夹层玻璃制品，包括两块玻璃和所述两块玻璃之间的夹层聚合物，其特征在于两块玻璃中至少一块选自权利要求I 9任一所述的高红外反射的低辐射镀膜玻璃，所述高红外反射的低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。
全文摘要
本发明涉及玻璃镀膜领域，特别是涉及高可见光透过率、高红外反射和可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品。膜层结构包括自玻璃基板向上交替叠加的介质层和红外反射层，交替叠加的顺序为先介质层后红外反射层，其特征在于位于最上层的上介质层包括第二介质膜，选自ZrO2和ZrOxNy中的至少一种；沉积在第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y的氧化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr的氮化物、氮氧化物中的至少一种。优点在于该镀膜玻璃及其夹层玻璃制品可见光透过率高，机械稳定性和高温热处理稳定性好。
文档编号C03C17/36GK102807330SQ20121030429
公开日2012年12月5日 申请日期2012年8月24日 优先权日2012年8月24日
发明者曹晖, 林柱, 袁军林, 朱谧, 何立山, 卢国水, 彭颖昊, 福原康太 申请人:福耀玻璃工业集团股份有限公司