专利名称：一种磁控溅射低成本low-e玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种磁控溅射低成本LOW-E玻璃。
背景技术：
随着节能减排的要求越来越高，普通的镀膜玻璃已满足不了人们的需求，人们追求一种更低辐射率的并可遮阳的LOW-E玻璃，但同时由于市场竞争越来越激励，人们更是寻求一种低成本的LOW-E玻璃。
发明内容本实用新型的目的是针对上述存在问题，提供一种透过率高、镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀的磁控溅射低成本LOW-E玻璃。本实用新型的目的是这样实现的包括有玻璃基片，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有五个膜层，其中，第一膜层即最内层为氧化锡层，第二膜层为铬层，第三膜层为金属铜层，第四膜层为氮氧化铬层，第五膜层为氧化锌锡层。本实用新型，氧化锡层的厚度为35 43nm，铬层的厚度为I. 5 3nm，金属铜层的厚度为12 16nm，氮氧化铬层的厚度为I. 5 3nm，氧化锌锡层的厚度为35 46nm。本实用新型，具有如下积极效果I)、采用磁控溅射法将镀膜层溅射在玻璃基片上，镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀；2)、作为溅射的靶材均采用物美价廉的材料，产品成本比同类产品下降30%以上；3)、透过率可任意调整，颜色丰富。本实用新型，具有透过率高、镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀的优点。下面实施例结合附图说明对本实用新型作进一步的说明。
图I是本实用新型的一个实施例的结构示意图。图中，I、玻璃基片；2、复合面；21、氧化锡层；22、铬层；23、金属铜层；24、氮氧化铬层；25、氧化锌锡层。
具体实施方式
参照图1，本实施例是一种磁控溅射低成本LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地磁控溅射有五个膜层，其中，第一膜层即最内层为氧化锡层21，第二膜层为铬层22，第三膜层为金属铜层23，第四膜层为氮氧化铬层24，第五膜层为氧化锌锡层25 ;第一膜层的氧化锡层21，即SnO2层，SnO2是一种折射率相对较高的材料，抗腐蚀性好，在可见光范围内对颜色敏感；从而不仅能获得较高的透过率，生产出的玻璃颜色丰富，SnO2层的厚度为35 43nm ;第二膜层的铬层22，即Cr层，为阻挡层，它阻挡了玻璃中渗出的Na+对Cu的腐蚀，Cr层的厚度为I. 5^3nm ;第三膜层的金属铜层23，即Cu层，为功能层，金属铜层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用；Cu层的厚度为12 16nm;第四膜层的氮氧化铬层24，即CrNxOy层，为阻挡层，它阻挡了从空气中渗入的氧气，防止对功能层的氧化；提高膜层耐磨性、提高透光率、CrNxOy层的厚度为I. 5^3nm ;第五膜层的氧化锌锡层26，即ZnSn3O4层，ZnSn3O4层的厚度为35 46nm。本实用新型，采用磁控溅射法将镀膜层溅射在玻璃基片上，镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀。本玻璃利用成本低廉的锡作为介质层，并用Cu代替传统LOff-E玻璃上用的Ag，进一步降低成本。本实用新型，透光率T (透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率) 可从40%到85%任意调整；本玻璃辐射率< 0. 09，玻璃的辐射率越接近于零，其绝热性能就越好。本实用新型，单位nm是纳米，Im=IO9 nm。
权利要求1.一种磁控溅射低成本LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(I)，其特征在于在玻璃基片的复合面(2)上由内到外依次相邻地复合有五个膜层，其中，第一膜层即最内层为氧化锡层(21)，第二膜层为铬层(22)，第三膜层为金属铜层(23)，第四膜层为氮氧化铬层(24)，第五膜层为氧化锌锡层(25)。
2.根据权利要求I所述的磁控溅射低成本LOW-E玻璃，其特征在于所述氧化锡层(21)的厚度为35 43nm，所述铬层(22)的厚度为I. 5 3nm，所述金属铜层(23)的厚度为12 16nm，所述氮氧化铬层(24)的厚度为I. 5 3nm，所述氧化锌锡层(25)的厚度为35 46nm。
专利摘要本实用新型涉及一种磁控溅射低成本LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有五个膜层，其中，第一膜层即最内层为氧化锡层，第二膜层为铬层，第三膜层为金属铜层，第四膜层为氮氧化铬层，第五膜层为氧化锌锡层。具有透过率高、镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀的优点。
文档编号C03C17/36GK202379894SQ20122001167
公开日2012年8月15日 申请日期2012年1月3日 优先权日2012年1月3日
发明者魏佳坤 申请人:揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司