一种在窑变釉面上移印后喷铁系析晶釉的方法

文档序号:1879512阅读:436来源:国知局
一种在窑变釉面上移印后喷铁系析晶釉的方法
【专利摘要】本发明涉及一种在窑变釉面上移印后再喷铁系析晶釉的方法,它是将陶瓷制品粗坯滚压成形及素烧、施内釉,施外釉,移印图案,喷铁系析晶釉,干燥,送入窑炉烧制而成,本发明的技术关键是通过运用窑变釉与铁系析晶釉的特点巧妙结合,再加上图案设计辅加其中,经过1180-1200℃氧化气氛烧成,所得釉面呈现出自然的肌理效果,光亮层次感清晰,凸现窑变釉与析晶釉交织的窑变釉的独特效果。
【专利说明】一种在窑变釉面上移印后喷铁系析晶釉的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种在窑变釉面上移印后喷铁系析晶釉的方法;它属日用陶瓷制品釉面装饰制作方法。
【背景技术】
[0002]目前,在陶瓷制品上移印图案时,大多数就是采用阻水油,然后直接填色;这样生产出来的产品,其效果是:移印线条较粗,凹坑明显且宽,釉色较呆板;而且不具有自然的肌理效果,光亮的层次感差。

【发明内容】

[0003]本发明的目的在于克服上述不足和缺陷,提供一种在窑变釉面上移印后喷铁系析晶釉的方法;所得釉面呈现出窑变釉与析晶釉交织独特的自然肌理和清晰光亮层次感效果。
[0004]本发明的技术方案:一种在窑变釉面上移印后喷铁系析晶釉的方法,其特征在于所述的该方法是将陶瓷制品粗坯滚压成形及素烧、施内釉、施外釉,移印图案,喷铁系析晶釉,干燥,送入窑炉烧制而成,具体步骤如下:
A、将陶瓷制品粗还滚压成形、干燥、洗水整修后,进行素烧,素烧温度为600V,素烧时间为5小时;
B、施内釉,将素烧后的粗 坯放置于施釉机上施内釉,内釉为窑变釉,内釉的浓度为58-61波美度;
C、沾外釉,按常规方法进行,外釉是根据设计的需要而定,外釉的浓度为49-52波美
度;
D、在内釉为窑变釉的釉面上移印图案,移印图案的移印液由熔块和强熔剂按其重量配比配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按按其重量配比混合均匀即成移印液;即熔块与强熔剂按7:1配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按1:1混合均匀即成移印液,上述熔块为市售常用熔块;
E、移印图案后,在移印图案整个面上进行喷雾状铁系析晶釉,铁系析晶釉的釉浆浓度为62-65波美度,喷雾状铁系析晶釉次数为3次;
F、将喷有铁系析晶釉的釉坯置于空气中自然干燥后,装入窑内,经1180-1200°C氧化气氛烧制即成,烧成周期为4-4.5小时。
[0005]本发明是通过运用窑变釉与铁系析晶釉的特点巧妙结合,再加上图案设计辅加其中,经过1180-1200°C氧化气氛烧成,所得釉面呈现出自然的肌理效果,光亮层次感清晰,凸现窑变釉与析晶釉交织的窑变釉的独特效果。
【专利附图】

【附图说明】
[0006]图1为本发明生产陶瓷制品(盘式产品)的效果照片。【具体实施方式】
[0007]—种在窑变釉面上移印后再喷铁系析晶釉的方法,其特征在于所述的该方法是将陶瓷制品粗坯滚压成形及素烧、施内釉,施外釉,移印图案,喷铁系析晶釉,干燥,送入窑炉烧制而成,具体步骤如下:
A、将陶瓷制品粗还滚压成形、干燥、洗水整修后,进行素烧,素烧温度为600V,素烧时间为5小时;
B、施内釉,将素烧后的粗坯放置于施釉机上施内釉,内釉为窑变釉,内釉的浓度为58-61波美度;
C、沾外釉,按常规方法进行,外釉是根据设计的需要而定,外釉的浓度为49-52波美
度;
D、在内釉为窑变釉的釉面上移印图案,移印图案的移印液由熔块和强熔剂按其重量配比配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按按其重量配比混合均匀即成移印液;即熔块与强熔剂按7:1配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按1:1混合均匀即成移印液,上述熔块为市售常用熔块;强熔剂是由氧化锌、氧化铅、碳酸锂等原料配制而成的,即强熔剂为市售品,各化工原料公司都有售;
E、移印图案后,在移印图案整个面上进行喷雾状铁系析晶釉,铁系析晶釉的釉浆浓度为62-65波美度,喷雾状铁系析晶釉次数为3次;
F、将喷有铁系析晶釉的釉坯置于空气中自然干燥后,装入窑内,经1180-1200°C氧化气氛烧制即成,烧成周期为44.5小时。`
[0008]本发明通过上述方法生产的陶瓷制品,所得釉面呈现出自然的肌理效果,光亮层次感清晰,凸现窑变釉与析晶釉交织的窑变釉的独特效果;即本发明是通过运用窑变釉与铁系析晶釉的特点巧妙结合,再加上图案设计辅加其中,经过1180-1200°C氧化气氛烧制即成。
【权利要求】
1.一种在窑变釉面上移印后再喷铁系析晶釉的方法,其特征在于所述的该方法是将陶瓷制品粗坯滚压成形及素烧、施内釉、施外釉、移印图案、喷铁系析晶釉、干燥、送入窑炉烧制而成,具体步骤如下: A、将陶瓷制品粗还滚压成形、干燥、洗水整修后,进行素烧,素烧温度为600°C,素烧时间为5小时; B、施内釉,将素烧后的粗坯放置于施釉机上施内釉,内釉为窑变釉,内釉的浓度为58-61波美度; C、沾外釉,按常规方法进行,外釉是根据设计的需要而定,外釉的浓度为49-52波美度; D、在内釉为窑变釉的釉面上移印图案,移印图案的移印液由熔块和强熔剂按其重量配比配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按按其重量配比混合均匀即成移印液;即熔块与强熔剂按7:1配兑成移印粉料,再将移印粉料与阻水油按1:1混合均匀即成移印液,上述熔块为市售常用熔块; E、移印图案后,在移印图案整个面上进行喷雾状铁系析晶釉,铁系析晶釉的釉浆浓度为62-65波美度,喷雾状铁系析晶釉次数为3次; F、将喷有铁系析晶釉的釉坯置于空气中自然干燥后,装入窑内,经1180-1200°C氧化气氛烧制即成,烧成周 期为4-4.5小时。
【文档编号】C04B41/86GK103449844SQ201310376215
【公开日】2013年12月18日 申请日期:2013年8月27日 优先权日:2013年8月27日
【发明者】林 智, 潘俊明 申请人:湖南泰鑫瓷业有限公司
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