Tft玻璃基板减薄液及其制备方法、tft玻璃基板减薄工艺的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种TFT玻璃基板减薄液，包括：氢氟酸10%～12%，氟化氢铵4%～6%，硝酸5%～8%，硫酸5%～8%，水余量。将TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得成品。本发明提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。
【专利说明】TFT玻璃基板减薄液及其制备方法、TFT玻璃基板减薄工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及TFT玻璃基板减薄领域，具体涉及一种TFT玻璃基板减薄液及其制备方法，还涉及一种TFT玻璃基板减薄工艺。
【背景技术】
[0002]液晶显示屏目前通常的减薄方法有两种，一为物理抛光研磨，一为化学蚀刻，其中化学薄化玻璃有一下几个特点:
[0003]1、薄化时间短；
[0004]2、薄化产量较高；
[0005]3、成分简单，配制比较容易。
[0006]目前，有进行TFT玻璃减薄的厂家，大部分是以氢氟酸为主要原料，且有些仅使用单一氢氟酸溶液，这种做法存在以下缺点:1，直接接触氢氟酸，毒性高，且该药液易产生氢氟酸气体，生产过程中特别是配制时危险性高，如果辅以加热，则危险性更高；2，蚀刻过程产生白色难溶物，容易悬浮在蚀刻液中及粘附于管道槽壁，难于处理。而且该难溶物吸附性较强，容易粘附在FPD玻璃表面，使TFT玻璃基板的边缘产生凸起，对TFT玻璃基板外观良品率以及后处理造成了很大的影响；3，生产过程中速率不稳定且利用率较低；4，由于利用率低，废液处理困难，与之相配套的废液处理成本较高；5，蚀刻过程中，玻璃上的凹点、划伤缺陷等会放大。
[0007]随着薄化TFT市场发展越来越大，TFT玻璃基板的减薄将有越来越多的企业加入，采用单一氢氟酸根本满足不了 TFT玻璃基板减薄品质要求，适量添加其它辅助酸液来增加其TFT玻璃减薄的品质是必行之势。
【发明内容】
[0008]本发明的目的在于克服上述不足，提供一种TFT玻璃基板减薄液，为TFT玻璃基板提供安全、稳定、高效的生产环境的同时，能有效避免控制蚀刻过程中TFT玻璃基板产生的凹点、划伤缺陷的放大，解决凸起的问题。
[0009]本发明的第一个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄液，按照质量百分比计，其组分包括:
[0010]氢氟酸10% ~12%，
[0011]氟化氢铵4%~6%，
[0012]硝酸5% ~8%，
[0013]硫酸5% ~8%
[0014]水余量。
[0015]优选地，所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为:
[0016]氧氣酸10 .5% ~11.5%,
[0017]氟化氢铵4.5%~5.5%,[0018]硝酸5.5% ~7.5%，
[0019]硫酸5.5% ~7.5%，
[0020]水余量。
[0021]进一步优选地，所述TFT玻璃基板减薄液的各组分重量配比为:
[0022]氢氟酸10%，
[0023]氟化氢铵5%，
[0024]硝酸8%，
[0025]硫酸8%，
[0026]水69%。
[0027]其中所述水为超纯水，其纯度≥99%，优选为≥99.9%，更优选为≥99.99%。
[0028]本发明的第二个方面是提供一种本发明第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的制备方法:将本发 明第一个方面所述的TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得。
[0029]本发明的第三个方面是提供一种TFT玻璃基板减薄工艺，包括以下步骤:
[0030]步骤I，对TFT玻璃基板进行封胶处理，UV固化；
[0031]步骤2，将步骤I处理后的TFT玻璃基板置入装有权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻；
[0032]步骤3，清洗。
[0033]优选地，所述TFT玻璃基板减薄工艺，还包括:
[0034]步骤4，对步骤3处理后的TFT玻璃基板进行成品质量检验，不合格进行步骤5，合格进行步骤6 ；
[0035]步骤5，物理抛光处理，清洗后进行步骤4 ；
[0036]步骤6，进行出货品质检验，合格进行步骤7，不合格进行步骤4，
[0037]步骤7，包装入库。
[0038]本发明提供的TFT玻璃基板减薄液可以稳定蚀刻速率，针对硼硅玻璃材质蚀刻效果更佳，能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求。
【专利附图】
【附图说明】
[0039]图1为本发明提供的TFT玻璃基板减薄工艺流程图。
【具体实施方式】
[0040]下面参照附图，结合具体的实施例对本发明作进一步的说明，以更好地理解本发明。
[0041]实施例1
[0042]一种TFT玻璃基板减薄液，按照质量百分比计，其组分包括:
[0043]氢氟酸10%，
[0044]氟化氢铵5%，
[0045]硝酸8%，[0046]硫酸8%，
[0047]超纯水69%。
[0048]将配方中的超纯水、氢氟酸、氟化氢铵、硝酸、硫酸依次加入配酸容器中混合，用搅拌机以搅拌速度120r/min~200r/min的速度搅拌分散40~60min后，即可得到成品TFT玻璃基板减薄液。
[0049]实施例2
[0050]本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0051]氢氟酸12%，
[0052]氟化氢铵4%，
[0053]硝酸7%，
[0054]硫酸5%，
[0055]超纯水72%。
[0056]实施例3
[0057]本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0058]氢氟酸11%，
[0059]氟化氢铵6%，
[0060]硝酸8%，
[0061]硫酸5%，
[0062]超纯水70%。
[0063]实施例4
[0064]本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0065]氢氟酸10.5%，
[0066]氟化氢铵5.5%,
[0067]硝酸7%，
[0068]硫酸6%，
[0069]超纯水71%。
[0070]实施例5
[0071]本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0072]氢氟酸12%，
[0073]氟化氢铵5%，
[0074]硝酸5%，
[0075]硫酸5%，
[0076]超纯水73%。
[0077]实施例6
[0078]本实施例与实施例的不同在于，TFT玻璃基板减薄液的组分包括:
[0079]氢氟酸10.5%，
[0080]氟化氢铵5.5%，
[0081]硝酸7.5%，
[0082]硫酸6.5%，[0083]超纯水70%。
[0084]实施例7
[0085]参照图1，一种TFT玻璃基板减薄工艺:
[0086]I)从客户/供应商获得TFT玻璃基板材料进行IQC (来料质量控制)，合格后，进行封胶处理，UV固化，手动清洗后，进行蚀刻前清洗；
[0087]2)将处理后的TFT玻璃基板置入装有实施例1提供的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻20min ；
[0088]3)进行蚀刻后清洗；
[0089]4)进行FQC (最终品质管制，FinalQualityControl),检测合格进行步骤6),检测不合格进行步骤5);
[0090]5)物理抛光处理，清洗后进行步骤4)；
[0091]6)进行OQC (出货品质检验,Outgoing Quality Control),合格进行步骤7),不合格则进行步骤4);
[0092]7)包装入库。
[0093]采用实施例1~6提供的TFT玻璃基板减薄液，按照实施例7提供的TFT玻璃基板减薄工艺的步骤I)~3)，对铝硅材质玻璃(3.97寸，厚度为1.1mm)进行减薄处理，单边的蚀刻量控制在0.15mm，然后进行外观检测和蚀刻速度检测，检查结果见表1。其中，对比例I采用3.5%的氢氟酸。
[0094]表1检测结果
【权利要求】
1.一种 TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，按照质量百分比计，其组分包括: 氢氟酸10%~12%， 氟化氢铵4%~6%, 硝酸5%~8%， 硫酸5%~8% 水余量。
2.根据权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，各组分重量配比为: 氢氟酸10.5%~11.5%, 氟化氢铵4.5%~5.5%, 硝酸5.5%~7.5%, 硫酸5.5%~7.5%, 水余量。
3.根据权利要求2所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，各组分重量配比为: 氢氟酸10%， 氟化氢铵5%, 硝酸8%， 硫酸8%， 水 69%ο
4.根据权利要求1~3中任意一项所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，所述水为超纯水，其纯度> 99.99%。
5.一种权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液，其特征在于，将权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的各组分混合在一起，既得。
6.一种TFT玻璃基板减薄工艺，其特征在于，包括以下步骤: 步骤1，对TFT玻璃基板进行封胶处理，UV固化； 步骤2，将步骤I处理后的TFT玻璃基板置入装有权利要求1所述的TFT玻璃基板减薄液的蚀刻槽内蚀刻； 步骤3,清洗。
7.根据权利要求6所述的TFT玻璃基板减薄工艺，其特征在于，还包括: 步骤4，对步骤3处理后的TFT玻璃基板进行成品质量检验，不合格进行步骤5，合格进行步骤6 ； 步骤5，物理抛光处理，清洗后进行步骤4 ； 步骤6，进行出货品质检验，合格进行步骤7，不合格进行步骤4， 步骤7,包装入库。
【文档编号】C03C15/00GK103922602SQ201410136026
【公开日】2014年7月16日 申请日期:2014年4月4日 优先权日:2014年4月4日
【发明者】郑资来, 李胜坤 申请人:惠州市清洋实业有限公司