专利名称：高强度夹层玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种夹层玻璃，具体是指一种应用于建筑领域的高强度夹层玻
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背景技术：
玻璃是重要的建筑材料，随着对建筑物装饰性要求的不断提高，玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。为了隔音隔热，在建筑领域广泛使用夹层，例如专利号为200920039857. 9、201020146361. 4的实用新型专利分布公开了相应的夹层玻璃结构，这些夹层玻璃均存在玻璃强度不够、隔热效果不明显、难以抵挡光辐射的局限。另外，当今人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题。外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50%以上。有关研究资料表明，玻璃内表面的传热以辐射为主，占58%，这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失，最有效的方法是抑制其内表面的辐射。普通浮法玻璃的辐射率高达O. 84，当镀上一层以银为基础的低辐射薄膜后，其辐射率可降至O. 15以下。
发明内容本实用新型针对现有技术存在的上述缺陷，提供一种强度高、抗辐射效果好的高强度夹层玻璃。本实用新型采用以下技术方案高强度夹层玻璃，包括两块通过PVB胶片粘合的玻璃基板，所述玻璃基板外表面镀敷有抗辐射复合膜层，所述抗辐射复合膜层由内而外依次包括第一电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层和第二电介质层；电介质层为Si3N4，阻挡层为NiCr，功能层为Ag层；玻璃基板由白玻璃在650° C 710° C温度下钢化处理20s 25s后制备成形。进一步地，作为第一电介质层的Si3N4厚度为25 35nm ;作为第一阻挡层的NiCr层厚度为I. 4 4. 5nm ;作为第二阻挡层的NiCr层厚度为I. 4 4. 5nm ;作为第二电介质层的Si3N4厚度为25 35nm。进一步地,作为功能层的Ag层厚度为9 15nm。为防止膜层划伤，所述抗辐射复合膜层还包括位于最外层的石墨层，石墨层厚度为5 15nm。为保证粘接牢度，PVB胶片厚度为O. 38 土 O. 02mm，两玻璃基板之间粘接有I 4张PVB胶片。作为另一优选方案，PVB胶片厚度规格选自0.76 土 O. 04mm、l. 14 士 0.06mm、I. 52 土 O. 08mm 中的一种。为防止运输和装配时伤到操作人员及夹层玻璃自身，夹层玻璃边缘经砂带机倒角处理。[0013]本实用新型的有益效果在于夹层玻璃经钢化处理且表面镀有抗辐射膜，强度高、隔热效果好；抗辐射复合膜层结构设置合理，有效降低辐射，且加工方便；外层设置石墨层，有效防止划伤抗辐射复合膜层；通过若干PVB胶片单元粘接，省时省力且结构牢固；边缘通过砂带机倒角处理，使用安全。
图I是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步详细描述参照图1，高强度夹层玻璃，包括两块通过PVB (聚乙烯醇缩丁醛树脂)胶片3粘合的玻璃基板(I、2 ),玻璃基板(I、2 )外表面均镀敷有抗福射复合膜层，抗福射复合膜层由内而外依次包括第一电介质层(4、4')、第一阻挡层(5、5')、功能层(6、6')、第二阻挡层a'V )和第二电介质层(8、8,);电介质层为Si3N4，阻挡层为NiCr，功能层(6、6')为Ag层；玻璃基板由白玻璃在650° C 710° C温度下钢化处理20s 25s后制备成形。作为第一电介质层(4、4')的Si3N4厚度为25 35nm;作为第一阻挡层(5、5')的NiCr层厚度为1.4 4.511111;作为第二阻挡层(7、7')的NiCr层厚度为I. 4 4. 5nm ;作为第二电介质层(8、8')的Si3N4厚度为25 35nm。综合考虑透射效果和加工成本，本实施例中作为功能层(6、6')的Ag层厚度为9 15nm。为防止膜层划伤，本实施例中抗辐射复合膜层还包括位于最外层的石墨层(9、9'),石墨层厚度为5 15nm。石墨层起到保护抗福射膜的作用,有效防止划伤。为保证粘接牢度，本实施例PVB胶片厚度为O. 38 + O. Olmm0为进一步提高整体强度，两玻璃基板之间粘接有I 4张PVB胶片，图I示出的是两张的情形。目前PVB胶片厚度有多种规格，本实施例中，PVB胶片厚度规格还可以选自O. 76 士 O. 04mm、I. 14 + O. 06mm、
I.52 + O. 08mm 中的一种。为防止运输和装配时伤到操作人员及夹层玻璃自身，夹层玻璃边缘经砂带机倒角处理。砂带机倒角方式与传统倒角方式相比节省工时、外形美观且触感更好。虽然本实用新型已通过参考优选的实施例进行了图示和描述，但是，本领域普通技术人员应当了解，可以不限于上述实施例的描述，在权利要求书的范围内，可作形式和细节上的各种变化。
权利要求1.高强度夹层玻璃，包括两块通过PVB胶片粘合的玻璃基板，其特征在于所述玻璃基板外表面镀敷有抗辐射复合膜层，所述抗辐射复合膜层由内而外依次包括第一电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层和第二电介质层；电介质层为Si3N4，阻挡层为NiCr，功能层为Ag层；玻璃基板由白玻璃在650° C 710° C温度下钢化处理20s 25s后制备成形。
2.根据权利要求I所述的高强度夹层玻璃，其特征在于作为第一电介质层的Si3N4厚度为25 35nm ;作为第一阻挡层的NiCr层厚度为I. 4 4. 5nm ;作为第二阻挡层的NiCr层厚度为I. 4 4. 5nm ;作为第二电介质层的Si3N4厚度为25 35nm。
3.根据权利要求I所述的高强度夹层玻璃，其特征在于作为功能层的Ag层厚度为9 15nm。
4.根据权利要求I所述的高强度夹层玻璃，其特征在于所述抗辐射复合膜层还包括位于最外层的石墨层，石墨层厚度为5 15nm。
5.根据权利要求I至4任一项所述的高强度夹层玻璃，其特征在于所述PVB胶片厚度为O. 38 ± O. 02mm，两玻璃基板之间粘接有I 4张PVB胶片。
6.根据权利要卞3所述的高强度夹层玻璃，其特征在于所述PVB胶片厚度规格选自O.76 士 O. 04mm、I. 14 土 O. 06mm、I. 52 土 0. 08mm 中的一种。
7.根据权利要求I至4任一项所述的高强度夹层玻璃，其特征在于边缘经砂带机倒角处理。
专利摘要本实用新型提供一种强度高、抗辐射效果好的高强度夹层玻璃，包括两块通过PVB胶片粘合的玻璃基板，所述玻璃基板外表面镀敷有抗辐射复合膜层，所述抗辐射复合膜层由内而外依次包括第一电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层和第二电介质层；电介质层为Si3N4，阻挡层为NiCr，功能层为Ag层；玻璃基板由白玻璃在650°C～710°C温度下钢化处理20s～25s后制备成形。本实用新型的有益效果在于夹层玻璃经钢化处理且表面镀有抗辐射膜，强度高、隔热效果好；抗辐射复合膜层结构设置合理，有效降低辐射，且加工方便。
文档编号B32B9/00GK202744458SQ20122033671
公开日2013年2月20日 申请日期2012年7月12日 优先权日2012年7月12日
发明者屠有军, 罗军民 申请人:浙江大明玻璃有限公司