专利名称：非极性高分子薄膜镭射模压方法和非极性高分子薄膜镭射加工用的一体机的制作方法
技术领域：
本发明涉及非极性高分子薄膜镭射模压工艺，以及一种电晕处理机。
背景技术：
非极性镭射薄膜在加工过程中， 一般会选择"模压+电晕一复巻 —镀铝一分切(检验)"程序。即在模压过程中通过增加电晕的办法 提高镭射薄膜的表面达因值，以满足后期印刷加工的需要。非极性镭
射高分子薄膜经过电晕处理时，电晕机的放电电极用电压为10000 20000伏和频率为20000Hz 25000Hz的电弧冲击薄膜表面，使高分链 发生断键(表层最严重)，产生很多自由基，同时由于电磁波的作用， 使高子链及其它分子的活动加快，高分子链和其它分子因此而产生重 新排列，部分自由基和极性基团重新组合，而且由于非极性高分子薄 膜在生产过程中多数为双轴拉伸，因此，经过电弧冲击和电磁波的作 用后，非极性高分子薄膜在经向和纬向均会产生收縮变形，经向变形 因受设备动力牵引和张力控制的作用形变较小，纬向没有受任何外力 的作用，因此变形大，其结果是镭射薄膜的图案明暗不均和迁移，镀 铝之后会现暴筋、左右松边和出兜等严重的质量缺陷；同时由于高分 子具有蠕变和应力松弛的特性，在薄膜收巻之后的停放过程中，薄膜 经纬向会继续产生收縮，镭射图案也会迁移。当薄膜经过电晕之后，往往会产生薄膜本身变形、转移后的镭射图案明暗不均和迁移，经镀
铝之后会现暴筋、左右松边和出兜等严重的质量缺陷。
发明内容
本发明的目的在于提供一种非极性高分子薄膜镭射模压方法，通 过对镭射模压工艺进行改进，以降低电晕处理对产品质量的影响，提 高产品成品率。
本发明采用如下技术方案 一种非极性高分子薄膜镭射模压方 法，其特征在于是在对非极性高分子薄膜进行镭射模压并经过电晕处 理后，再经过强制冷却使薄膜温度降低，然后再进行复巻和镀铝。
本发明的作用是，在非极性高分子薄膜经过电弧冲击和电磁波的 作用后，通过对非极性高分子薄膜进行强制冷却，对高分子链和其它 分子的排列进行定位，同时吸收薄膜中的热量，使分子运动的动能降 低，从而使薄膜的经纬向收縮量和图案的迁移量及变形量减小，自由 基和极性基团因分子运动速度的降低而减少了重新组合的数量，薄膜 表面的达因值得到有效的保证。经过试验，增加强制冷却后，使镭射 镀铝薄膜的成品率可提高10~20%，而且镭射图案清晰、薄膜平整性 好，很少出现暴筋、左右松边、出兜等严重质量缺陷，电晕效果稳定、 保持时间长，镀铝层牢固，印刷效果很好。
本发明还提供了一种非极性高分子薄膜镭射加工用的一体机，是 在机身上还安装电晕处理装置和对电晕处理后的薄膜进行强制冷却 的后强制冷却装置。
机身上还可以有镭射模压装置，所述的镭射模压装置包括放巻系统、预热辊、镭射版辊、前冷却辊和收巻系统，所述的电晕处理装置 和后强制冷却装置是位于所述镭射模压装置中的前冷却辊和收巻系 统之间。将镭射模压、电晕处理和冷却集成于一台一体机上。
这种非极性高分子薄膜镭射加工用的一体机，可以在同一设备上 实现电晕和冷却，利用强制冷却装置有效地减少非极性高分子镭射薄 膜在电晕加工过程中产生的变形量和镭射图案的失真量，薄膜表面可 挥发成分减少，而表面达因值保存时间延长，既縮短半成品在转序过 程中的停放时间，作业工人的操作难度降低，又显著地提高成品的合 格率，对后期复合和印刷工序带来积极的影响。另外，由于将电晕处 理装置和强制冷却装置设置于同一机身上，可以减少采用单独的电晕 处理装置和强制冷却装置时牵引辊和张力辊等的数量，减少镭射薄膜 过辊的次数，以提高产品质量，而且组合装置占地面积较小，易于操 作。
图1为本发明的非极性高分子薄膜镭射加工用的一体机的原理图。
图2为一体机的穿膜图。
具体实施例方式
下面通过具体实施例对本发明作进一步详细描述。 实施例1一体机
如图1所示，是本发明的集镭射模压、电晕处理和冷却的一体机 的原理图，在机身上1上依次有镭射模压装置2、电晕处理装置3和后强制冷却装置4，后强制冷却装置用于对电暈处理后的非级性薄膜 进行快速冷却。
其中的镭射模压装置2、电晕处理装置3均采用现有镭射模压机 和电晕处理机的原理和组成，用于对非极性高分子薄膜基材进行镭射 模压和电晕处理。例如如图2所示，镭射模压装置由收巻系统21、 调偏辊22、放巻张力辊23、预热辊24、镭射版辊25、前冷却辊26、 牵引辊27、收巻张力辊28和收巻系统29组成，新增加的电晕处理 装置3和后强制冷却装置即后冷却辊4是安装在前冷却辊26和收巻 系统29之间的位置，以对经过镭射模压处理且经前冷却辊26经过冷 却处理后的非极性高分子薄膜进行电晕处理和电晕后的强制冷却。电 晕处理装置可以采用对薄膜单面或双面电晕处理的电晕机。这种集镭 射模压、电晕处理和后冷却于一体的装置，不需要为电晕处理装置和 冷却装置单独设置牵引辊、调偏辊和收放巻装置。
后强制冷却装置可以为安装在机身1上的朝向薄膜吹风的风机 或风扇，或者是压縮空气喷嘴，以采用风冷冷却。这种采用向薄膜吹 冷风降温的方式，其优点是①没有直接接触薄膜的表面，不会增加 薄膜二次擦伤和磨伤的机率；②极小的能耗；③造价低。缺点是① 冷却效果差一些；②噪音大；③会把空气中的尘埃吹落在薄膜表面； ④会把臭氧扩散；⑤若用压縮空气还需要对其进行净化处理； 会影 响厂房的净化效果。
后强制冷却装置也可以如图2所示采用冷却辊，利用与薄膜直接 接触的冷却辊进行降温。冷却辊可以带动力装置形成主动辊，其表面线速度与镭射模压装置的线速度同步，以不会对薄膜产生拉力。冷却
辊直径可以为70~150mm;冷却辊可以是一个，也可以是多个组成； 冷却辊表面的温度为5 20°C，并且可以调节。冷却辊表面最好做镀 铬处理，在表面形成镜面镀铬层，以确保不会擦伤薄膜。 实施例2
本发明的非极性高分子薄膜镭射模压方法，其过程为"模压+电 晕+强制冷却一复巻一镀铝一分切"，即在对非极性高分子薄膜进行镭 射模压并经过电晕处理后，再经过强制冷却使薄膜温度降低，有效地 减少非极性高分子镭射薄膜在电晕加工过程中产生的变形量和镭射 图案的失真量，然后进行复巻和镀铝，以及分切。
强制冷却可以采用向所述非极性高分子薄膜吹冷风降温，也可以 采用冷却辊与电晕处理后的非极性高分子薄膜接触进行降温。冷却辊 的表面温度为5 20°C，并且可以调节。
权利要求
1、一种非极性高分子薄膜镭射模压方法，其特征在于是在对非极性高分子薄膜进行镭射模压并经过电晕处理后，再经过强制冷却使薄膜温度降低，然后进行复卷和镀铝。
2、 如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的强制冷却是 向所述非极性高分子薄膜吹冷风降温。
3、 如权利要求1所述的方法，其特征在于所述的强制冷却是 采用冷却辊与电晕处理后的非极性高分子薄膜接触进行降温。
4、 如权利要求1所述的方法，其特征在于所述冷却辊的表面 温度为5 20°C。
5、 一种非极性高分子薄膜镭射加工用的一体机，其特征在于 在机身上还安装电晕处理装置和对电晕处理后的薄膜进行强制冷却 的后强制冷却装置。
6、 如权利要求5所述的一体机，其特征在于机身上还有镭射 模压装置，所述的镭射模压装置包括放巻系统、预热辊、镭射版辊、 前冷却辊和收巻系统，所述的电晕处理装置和后强制冷却装置是位于 所述镭射模压装置中的前冷却辊和收巻系统之间。
7、 如权利要求5或6所述的一体机，其特征在于所述的后强 制冷却装置为朝向薄膜吹风的风机或风扇，或者是压縮空气喷嘴，或 者是安装在所述机身上的一个或多个冷却辊。
8、 如权利要求7所述的一体机，其特征在于所述的冷却辊是 由动力装置驱动的主动辊，冷却辊的表面线速度与非极性高分子薄膜的线速度同步。
9、 如权利要求8所述的一体机，其特征在于所述的冷却辊的表面温度控制在5 2(TC。
10、 如权利要求8所述的一体机，其特征在于所述的冷却辊直径为70 150mm，其表面有镜面镀铬层。
全文摘要
本发明公开了一种非极性高分子薄膜镭射模压方法，其特征在于对非极性高分子薄膜进行镭射模压并经过电晕处理后，再经过强制冷却使薄膜温度降低，然后进行复卷和镀铝。这种方法可以有效地减少非极性高分子镭射薄膜在电晕加工过程中产生的变形量和镭射图案的失真量，薄膜表面可挥发成分减少，而表面达因值保存时间延长，既缩短半成品在转序过程中的停放时间，作业工人的操作难度降低，又显著地提高成品的合格率，对后期复合和印刷工序带来积极的影响。
文档编号B44C1/24GK101544153SQ200910135829
公开日2009年9月30日 申请日期2009年4月29日 优先权日2009年4月29日
发明者陈维民, 陈蓬生, 陈鹏晋 申请人:汕头市壮丽印刷有限公司