专利名称：甩动式混合均匀装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种混合均匀装置，特别是涉及一种甩动式混合均匀装置。
背景技术：
在半导体或液晶显示器制程中，为使晶圆与液晶显示器的玻璃基板表面较为平整，大多必须对晶圆与玻璃基板表面进行研磨，而研磨方式大多是采用化学机械研磨(chemical machinepolishing，CMP)。以晶圆为例，主要是在一用以研磨的研磨垫与晶圆间均匀分布含有适当研磨微粒的研磨浆来研磨晶圆，而研磨微粒的分布均匀性直接影响晶圆表面的平整度。但是因研磨浆静置不使用时，位于研磨浆中的研磨微粒会因密度不同而沉积于容器底部，导致研磨浆中的研磨微粒分布不均。因此，使用前大多必须晃动容装研磨浆的容器，使沉积的研磨微粒能够再均匀分布。
如图1、2所示，为一般用以摇晃容装有上述研磨浆(图未示)的容器10的摇晃装置，该摇晃装置是在一个基座11上设置二个相间隔的凸伸部12，并分别于所述凸伸部12穿设一沿一旋转轴线110延伸且左、右间隔对称的转轴13，然后于所述转轴13间设置一个用以承装上述容器10的承载架14，且该承载架14是以其左侧底边与转轴13固接，而以其右侧顶边与另一个转轴13固接，并通过一个驱动装置15来驱动转轴13转动，而连动承载架14带动容器10同步以所述转轴13为轴地枢转，使得该容器10在转动的过程中，左、右两相反端高度位置一上一下的交互变换，而呈现如图2所示的摇晃轨迹，所以该容器10中的研磨浆与研磨微粒会产生扰动而混合。
但是此种该摇晃装置产生的摇晃，只会使容器10中的研磨浆产生扰流，而此研磨浆的扰动力道只能用以将一些低粘稠度的研磨微粒(图未示)打散，若是用以摇晃使用于液晶显示器的玻璃基板上的研磨浆等此类具有高粘稠度的研磨微粒时，会相当耗时，也很难使聚集在一起的高粘稠研磨微粒分散并均匀分布。究其原因，是在于此种扰流缺乏对沉积于容器10底部的沉积区直接冲击的力道，及将研磨微粒带离沉积区的离心力。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可使具有高粘稠度的研磨微粒均匀分布的甩动式混合均匀装置。
本发明甩动式混合均匀装置，包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元。该甩动箱单元是可以该枢转单元为摆动支点枢转地组装于该枢转单元侧边，该驱动单元是连接于甩动箱单元一侧并可驱使甩动箱单元以枢转单元为支点地相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该枢转单元包括二个间隔设置的轴承座、及一个枢设于所述轴承座间的枢转轴，该甩动箱单元是以该枢转轴为支点枢摆地组装于该枢转轴上。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该甩动箱单元包括一个可以该枢转单元为摆动支点枢转地组装于该枢转单元侧边的甩动箱、及一片前后延伸地突设于该甩动箱外而与驱动单元连接的直立轨板。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该轨板具有一个前后延伸而与驱动单元连接的长形轨孔，且当驱动单元沿轨孔长度方向往复滑移时，会连动该甩动箱以枢转单元为支点地相对枢转单元于该回正位置与该倾摆位置间往复枢摆甩动。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该驱动单元包括一个驱转件、及一个组装于驱转件上并可被驱转件驱动而进行圆周回转枢摆地枢设于该轨孔中的偏摆机构，且当偏摆机构被驱动而进行圆周回转枢摆时，该偏摆机构会沿该轨孔长度方向往复滑移，而连动使该甩动箱以枢转单元为支点地于该回正位置与该倾摆位置间往复枢摆甩动。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该驱转件具有一个主体部、及一个自主体部往外水平凸伸并可被主体部驱转的驱转轴部，该偏摆机构是组装于驱转轴部上并可被驱转轴部驱动而绕驱转轴部轴线枢摆。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该偏摆机构具有一个垂直驱转轴部地固设于驱转轴部上并可被驱转轴部驱动而枢摆的摆动臂、及一条自该摆动臂末端部往外水平凸伸并可沿轨孔长度方向滑移地插装于轨孔中的偏心轴。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该偏摆机构还包括二片分别设置于偏心轴上且分别位于该轨板左右侧而使偏心轴限位于轨孔中的限位板。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该甩动式混合均匀装置还包含一个中空壳座，该枢转单元、甩动箱单元与驱动单元是分别组装于该壳座中。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，其中，该壳座包括一个中空框架、及一个水平设置于该框架中的一预定高度位置处的基板，该枢转单元是设置于该基板顶面，该甩动箱单元是组装于该枢转单元上，该驱动单元是设置于该甩动箱单元下方而可连动该甩动箱单元在该回正位置与该倾摆位置间枢摆甩动。
本发明所述的甩动式混合均匀装置，除了可明显改善一般摇晃装置不易打散高粘稠度的研磨微粒沉积，且摇晃打散过程耗时等缺点外，并可使已被打散的研磨微粒立刻均匀分布于研磨浆中，而可快速地将高粘稠度研磨微粒的打散与均匀化。
图1是一般的摇晃装置的立体图；图2是一个组装于该摇晃装置中的一个容器的摇摆示意图；图3是本发明甩动式混合均匀装置的一实施例的立体图；图4是该实施例的一个驱转机构与一个轨板组接的局部立体放大图；图5是该实施例的一个甩动箱位于一回正位置时的侧视图；图6是该实施例的甩动箱位于一倾摆位置时的侧视图。
具体实施例方式
下面结合附图及实施例对本发明甩动式混合均匀装置进行详细说明。
如图3～5所示，本发明甩动式混合均匀装置的实施例包含一个中空壳座3，及分别组装于壳座3内的一个枢转单元4、一个甩动箱单元5、及一个驱动单元6。
该壳座3包括一个由多条框杆311组装而成的中空长方体状座本体31、多片可开启地分别组装覆盖于座本体31四周与顶侧的门板32、及一片水平组装于座本体31中的基板33。
该枢转单元4包括二个左、右间隔地设置于该基板33顶面的前端缘处的轴承座41、及一个可转动地枢设于所述轴承座41间的枢转轴42。
该甩动箱单元5是可以该枢转单元4为枢摆支点地与该枢转单元4连接并组装于该枢转单元4侧边，并包括一个可枢摆地组装于该枢转轴42上的甩动箱51、及一片前后延伸地突设于该甩动箱51朝下底面的直立轨板52。该甩动箱51具有一个开口朝前与朝上的箱体511、一片自该箱体511底端往后延伸并固接于该枢转轴42上的连动板512、及分别组装于箱体511上并分别可开启地覆盖箱体511的开口的一片前门板513与一片上盖板514。该轨板52是直立突设于箱体511底面，并具有一个前后延伸且贯穿其左、右两相反侧面的轨孔520。
该驱动单元6是位于该甩动箱51下方，并包括一个组装于该座本体31中的驱转件61、及一个可连动该甩动箱单元5甩动地组装于驱转件61与轨板52间的偏摆机构62。在本实施例中，该驱转件61是一个动力马达，且具有一个主体部611、及一个往右突伸出主体部611并可被主体部611驱动而沿自身轴线转动的驱转轴部612。该偏摆机构62具有一个固设于该驱转轴部612末端并垂直该驱转轴部612轴线地往下延伸的摆动臂621、一条自该摆动臂621往右延伸穿过该轨板52的轨孔520的偏心轴622，及二片分别套设于该偏心轴622上且分别位于该轨板52的左、右侧的限位板623。所述限位板623的外径是大于该轨孔520的高度，因此可通过所述限位板623的设置，使该偏心轴622限位插装于轨孔520中，并可沿该轨孔520的延伸方向滑移，当驱转件61驱转该偏摆机构62而进行圆周回转的偏摆运动时，便连动使该甩动箱51相对该枢转机构4于一直立状回正位置与一倾斜状倾摆位置间位移。
如图3、5、6所示，当要以本发明混合均匀装置将沉积于一个容器20底部的高粘稠度研磨微粒201打散且均匀分布于研磨浆202中时，是将该容器20的底部朝上地倒立放置于该甩动箱51的箱本体511中，但是必须注意的是，容器20中的研磨浆最好未装满，而使容器20内留有局部空间203，然后将所述门板513、514关闭，接着便可启动驱动单元6的驱转件61。在本实施例中，是通过一个设置在该壳座3外的一个控制单元7来控制与驱动该驱动单元6动作，但是实施时不以此为限。
以下先针对该混合均匀装置各构件间的动作关系进行说明，接着再说明该混合均匀装置如何使容器20中的研磨微粒201得以被打散并混合均匀。
驱转件61启动后，主体部611会驱动该驱转轴部612沿自身轴线转动，并带动该偏摆机构62的摆动臂621连动偏心轴622同步以驱转轴部612为轴地朝逆时针方向进行圆周回转地枢摆。当该摆动臂621枢摆时，该偏心轴622会带动该轨板52连动该甩动箱51以该枢转轴42为支点地同步枢摆，且该偏心轴622会同时于轨孔520中往复滑移。
当摆动臂621逆时针枢摆180°时，该偏心轴622是先自该轨孔520近中间处往前滑移至轨孔520前端，紧接着，再往回滑移至轨孔520近中间处，而连动使甩动箱51自图5所示的回正位置，往箭头701方向甩动枢摆至呈往后倾斜状的倾摆位置，而如图6所示。当该摆动臂621继续被连动枢摆180°时，该偏心轴622会先往后滑移至该轨孔520后端处，然后再往前回移至轨孔520近中间处，并连动该轨板52带动甩动箱51瞬间自倾摆位置往箭头702方向枢摆回至回正位置，并同样瞬间地再往倾摆位置摆去。
通过摆动臂621被驱转件61驱动而不断地朝逆时针方向枢摆时，连动使该偏心轴622于该轨孔520中的前后往复滑移，而可带动该甩动箱51有规律地于回正位置与倾摆位置间前后往复倾摆甩动。
因此，当甩动箱51自回正位置往箭头701方向枢摆甩动时，会带动容器20与容装于容器20中的研磨微粒201与研磨浆202同步且同向位移。且当甩动箱51瞬间自倾摆位置改往相反于箭头701的箭头702方向甩动回回正位置时，由于高粘稠度的研磨微粒201是沉淀聚集于容器20内底部，而可流动的研磨浆202并未充满容器20，因此黏聚的研磨微粒201会受到研磨浆202的直接冲击，并连同容器20被同步带动而瞬间改往702方向甩动。也就是，液态研磨浆202会因原本被容器20往箭头701方向甩动而产生的离心力作用，持续往箭头701方向位移，进而造成研磨微粒201与研磨浆202相向位移并相互冲击，并通过此研磨浆202冲击拍打聚集在一起的研磨微粒201的方式，可逐渐将聚集的研磨微粒201打散，且随后进行中的离心力作用较易于将被冲击的研磨微粒201带离沉积区。
另外，当甩动箱51再次瞬间将容器20自回正位置往箭头701方向甩动至倾摆位置时，容器20会带动仍聚集在一起的研磨微粒201瞬间往箭头701方向位移，研磨浆202会瞬间相对朝箭头702方向位移，使得研磨浆202在容器20中产生强力扰流作用，同时将已被研磨浆202冲击打散的部分研磨微粒201带离容器20底部，并通过上述扰流而使研磨微粒201快速地均匀分布于研磨浆202中。
因此，通过该甩动箱51被驱动机构6带动而持续地在该回正位置与倾摆位置间往复位移的设计，可连动使该容器20自箭头701改往箭头702方向甩动的瞬间，使得研磨浆202可瞬间产生强力冲击聚集在容器20底部的研磨微粒201的冲击力，而可快速地将聚集在一起的高粘稠度研磨微粒201打散，并使该容器20被瞬间自箭头702方向改往箭头701方向甩动时，研磨浆202可于容器20中产生的强力扰流，而将已被冲离的研磨微粒201带离并均匀分布于研磨浆202中。
实施时，该壳座3并非必要，可直接将该枢转单元4、甩动箱单元5与驱动单元6设置于一适当地点，而使该甩动箱51可在该回正位置与倾摆位置间位移。另外，该甩动箱51的甩动枢摆的方式除了可自回正位置往后甩动至倾摆位置外，也可通过更改该偏心轴622插装于该轨孔520中的原始位置，例如当该甩动箱51位于回正位置时，该偏心轴622是设计成位于该轨孔520前端处，进而使甩动箱51可自该回正位置往前甩动倾摆。
综观上述，通过该轨板52的轨孔520与该偏摆机构62的组接设计，使得该甩动箱51可在一回正位置与一倾摆位置间往复摆动，进而带动容装于甩动箱51内的容器20被同步往复甩动，使得容器20内的研磨浆202与研磨微粒201在容器20被甩动的过程中，研磨浆202可产生间歇地冲击并打散聚集在容器20底部的高粘稠度研磨微粒201的强力冲击力道，并可在每次冲击后产生强力扰流而使已被打散的研磨微粒201均匀散布于研磨浆202中。因此，除了可明显改善一般摇晃装置不易打散高粘稠度的研磨微粒201沉积，且摇晃打散过程耗时等缺点外，并可使已被打散的研磨微粒201立刻均匀分布于研磨浆202中，而可快速地将高粘稠度研磨微粒201的打散与均匀化。
权利要求
1.一种甩动式混合均匀装置，其特征在于包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元，该甩动箱单元是可以该枢转单元为摆动支点枢转地组装于该枢转单元侧边，该驱动单元是连接于甩动箱单元一侧并可驱使甩动箱单元以枢转单元为支点地相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。
2.根据权利要求1所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该枢转单元包括二个间隔设置的轴承座、及一个枢设于所述轴承座间的枢转轴，该甩动箱单元是以该枢转轴为支点枢摆地组装于该枢转轴上。
3.根据权利要求1所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该甩动箱单元包括一个可以该枢转单元为摆动支点枢转地组装于该枢转单元侧边的甩动箱、及一片前后延伸地突设于该甩动箱外而与驱动单元连接的直立轨板。
4.根据权利要求3所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该轨板具有一个前后延伸而与驱动单元连接的长形轨孔，且当驱动单元沿轨孔长度方向往复滑移时，会连动该甩动箱以枢转单元为支点地相对枢转单元于该回正位置与该倾摆位置间往复枢摆甩动。
5.根据权利要求4所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该驱动单元包括一个驱转件、及一个组装于驱转件上并可被驱转件驱动而进行圆周回转枢摆地枢设于该轨孔中的偏摆机构，且当偏摆机构被驱动而进行圆周回转枢摆时，该偏摆机构会沿该轨孔长度方向往复滑移，而连动使该甩动箱以枢转单元为支点地于该回正位置与该倾摆位置间往复枢摆甩动。
6.根据权利要求5所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该驱转件具有一个主体部、及一个自主体部往外水平凸伸并可被主体部驱转的驱转轴部，该偏摆机构是组装于驱转轴部上并可被驱转轴部驱动而绕驱转轴部轴线枢摆。
7.根据权利要求6所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该偏摆机构具有一个垂直驱转轴部地固设于驱转轴部上并可被驱转轴部驱动而枢摆的摆动臂、及一条自该摆动臂末端部往外水平凸伸并可沿轨孔长度方向滑移地插装于轨孔中的偏心轴。
8.根据权利要求7所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该偏摆机构还包括二片分别设置于偏心轴上且分别位于该轨板左右侧而使偏心轴限位于轨孔中的限位板。
9.根据权利要求1所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该甩动式混合均匀装置还包含一个中空壳座，该枢转单元、甩动箱单元与驱动单元是分别组装于该壳座中。
10.根据权利要求9所述的甩动式混合均匀装置，其特征在于该壳座包括一个中空框架、及一个水平设置于该框架中的一预定高度位置处的基板，该枢转单元是设置于该基板顶面，该甩动箱单元是组装于该枢转单元上，该驱动单元是设置于该甩动箱单元下方而可连动该甩动箱单元在该回正位置与该倾摆位置间枢摆甩动。
全文摘要
一种甩动式混合均匀装置，包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元。该甩动箱单元是可以该枢转单元为支点枢转地组装于该枢转单元侧边，该驱动单元是连接于甩动箱单元一侧并可驱使甩动箱单元以枢转单元为支点地相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。通过甩动箱的甩动设计，可使倒立放置于甩动箱中的容器内的研磨浆可冲击打散沉积的高粘稠度研磨微粒。
文档编号G02F1/13GK1932596SQ20051010262
公开日2007年3月21日 申请日期2005年9月12日 优先权日2005年9月12日
发明者李家浩 申请人:长兴开发科技股份有限公司