液晶显示装置的制造方法以及由此制造的装置的制作方法

专利名称：液晶显示装置的制造方法以及由此制造的装置的制作方法
技术领域：
本发明通常涉及一种液晶显示(LCD)装置，更具体地涉及一种LCD 装置的制造方法。更为具体地，本发明涉及制造工艺和由此制造的LCD显 示装置，其减小了随着时间而增加的缺陷的发生率，所述缺陷包括硅上液晶 (LCoS )光阀的灾难性失效。
背景技术：
反射型和透射型液晶显示装置(LCD)用于视频投影仪、背投电视、计 算机显示器等，作为产生高质量图像的手段。已知的LCD装置与传统的替 代产品例如阴极射线管(CRT)相比减小了许多电子产品的尺寸、重量、和 整体成本，同时增加了产生的图像的质量。
图1示出了一种已知类型的LCD显示装置，反射型硅上液晶(LCoS) 光阀100。显示装置100在硅基板102上形成，并且包括集成电路104、绝 缘层106、多个像素镜108、平坦化层110、保护涂层112、下液晶取向层114、 液晶层116、上液晶^l向层118、透明电极层120、透明(例如玻璃)基板 122、和抗反射涂层124。在图1中绘制的层的厚度未按比例而是被夸大显示， 以便可以被更清楚地观察。
镜108通过在液晶层106内形成的多个通路而耦合至电路层104。平坦 化层110和保护层112为装置的后续层提供平的、相对坚固的表面。镜108 上方的平坦化层110和保护层112的厚度是在光薄膜涂层的量级。取向层114 和118帮助使层116的液晶恰当地取向。透明电极120 (例如氧化铟锡)形 成于玻璃基板122的底面上，并且抗反射涂层124形成于顶表面上。取向层 118形成于透明电才及120上。
在操作期间，光穿过装置IOO的所有上面的层124、 122、 120、 118、 116、 114、 112、和110从而撞击在像素镜108上，并从镜108的顶表面被反射， 并且随后再次穿过上面的层110、 112、 114、 116、 118、 120、 122和124而 逸出所述装置。根据横跨液晶层116的电场，光的偏振被液晶层116改变。当透明电极120被保持在特定的电压下时，横跨液晶层116的电场被通过电 路层104而施加到像素镜108上的电压所控制。因而，可以单独地调制入射 光的空间像素化部分的偏振。
取向层114和U8提供取向液晶层116的向列液晶的手段。该取向通过 在表面中引入形貌不对称而完成。表面不对称引起液晶分子钉扎在表面。因 此LC的体耳又向由表面耳又向所控制。
一种形成取向层的已知方法包括，形成聚酰亚胺层并且随后在预定方向 上机械摩擦聚酰亚胺层从而产生表面不对称。聚酰亚胺取向层的一种通常的 局限性是它们在高强度的照明下不是非常稳定。
为了解决聚酰亚胺取向层的局限性，研发了蒸镀的薄膜取向层。这些蒸 镀的薄膜层典型地由氧化硅(SiO)或硅石(Si02)的倾斜的蒸镀而形成。 已经发现蒸镀薄膜层在高强度的照明下产生非常稳定的取向。这对于消费品 的TV应用非常重要，并且是LCOS显示器的取向的优选方法。
然而，结合了蒸镀薄膜取向层的装置出现了问题。具体地，随着时间的 流逝观察到预倾斜角改变，由此改变了显示器的性能。该变化既影响放映的 图像的对比度也影响颜色，并且对于消费品的应用是不可以接受的。对于制 造商而言，随着时间的流逝而出现的LCD装置的逐渐失效可以尤为成本昂 贵且令人烦恼，因为当在LCD装置中的缺陷仅在经过一些时间之后才变得 明显，所述装置将很可能已经被结合到其它产品中。然后，所述装置的失效 可以导致产品的光性能的减小、成本昂贵的维修期修理、和/或成本昂贵的产 品招回。
因此，需要的是一种LCD装置的制造方法，所述装置具有较小的初始 图像缺陷并且较小倾向于未来的失效。还需要的是一种不会不利地影响装置 的产率或使用寿命的LCD装置内的取向层的形成方法。还需要的是比已知 装置更不倾向于未来故障的LCD装置。

发明内容
本发明人发现，当存在例如热和潮湿的环境压力因子时，随时间流逝而 出现的许多LCD显示装置的灾难性的失效要更为普遍得多。进一步的研究 导致发现液晶层内部的微量杂质。本发明人意识到微量杂质(例如水蒸气) 被吸收入薄膜液晶取向层或吸附在薄膜液晶取向层上。所述杂质的吸收和/
或吸附干扰了取向层的功能并且引起可见的图像缺陷。在一些情形，在液晶 取向层上形成杂质沉积的非均匀的层。非均匀的杂质沉积层因此导致在液晶 层内液晶的取向的歪斜，导致可见的图像缺陷和/或装置的灾难性的失效。
本发明通过提供具有在所述倾斜地蒸镀的液晶取向层和液晶层之间的
阻挡层而克服了现有技术的相关的问题。在公开的实施例中，LCD装置包括 基板、液晶层、基板和液晶层之间的液晶取向层、以及液晶取向层和液晶层 之间的阻挡层。
基板可以是反射基板或透射基板。例如，在一实施例中，基板是在硅基 板上形成的反射显示底板并且包括电路层和多个反射像素镜。阻挡层还可以 形成于透明基板上，透明基板包括但不局限于反射型LCD的透明电极和透 射型LCD的透明电极。因而，希望，但不必须，装置通常将包括两个阻挡 层， 一个在液晶层的一侧的基板上，并且另一个在液晶层对侧的基板上。
阻挡层保护液晶取向层而不千扰其功能。阻挡层比液晶取向层对于杂质 的吸收或吸附的至少之一更有抵抗力。因此，阻挡层通过减少微量杂质(例 如水等)在液晶取向层中的吸收或在其上的吸附的数量而保护取向层。阻挡 层足够薄，使得其还可以将液晶取向层的各向异性特性传递至液晶层，并且 不干扰其功能。例如，在一公开的实施例中，阻挡层是直接在液晶取向层上
形成的单层并且与液晶层直接接触。除了保护液晶取向层免于杂质的污染之 外，阻挡层还提高了与液晶单元密封垫的粘接，液晶单元密封垫布置在液晶 层周边的周围以便保持基板之间的液晶层。
阻挡层的具体成分将取决于液晶取向层的成分，反之亦然。在公开的典 型实施例中，取向层是由SiO或Si02形成的薄膜氧化物层。阻挡层是用硅 烷(例如辛基-三乙氧基-硅烷)或硅胺烷(silizane )(六曱基二硅胺烷 hexamethyldisilizane )形成的疏水层。另外，试剂可以采用化学部分来功能 化，例如通过添加例如NH2、 OH、 COOH等的化学部分至例如辛基-三乙 氧基-硅烷的三乙氧基类硅烷。试剂的改性便于调整阻挡层的特性，所述特 性包括但不局限于液晶表面作用、湿气吸附、胶粘等。
还公开了一种液晶显示装置的制造方法。所述方法包括提供基板、在 基板上方形成液晶取向层、在液晶取向层上方形成阻挡层、并且在所述阻挡 层上方形成液晶层。在一种具体的方法中，提供了两个基板， 一个基板是反 射显示底板而另一个是适用于透明电极的透明基板。在各个基板上方形成单独的液晶取向层，并且在各个液晶取向层上方形成单独的阻挡层。然后，在 基板之一的阻挡层上形成液晶层，并且安装另一基板，使得对应的基板的阻 挡层彼此面对且液晶层布置在其间。
在一种具体的方法中，阻挡层直接形成于液晶取向层上，并且液晶层与
阻挡层直接接触。形成液晶取向层的步骤包括，例如，形成SiO或Si02的
薄膜氧化物层。典型地以倾斜角施加膜。
形成阻挡层的步骤包括，形成能够将液晶取向层的各向异性特性传递至 液晶层的层，并且比液晶取向层对于杂质的吸收或吸附的至少之一更有抵抗 力。例如，在一具体方法中，液晶取向层是氧化物层并且阻挡层是使用气相
涂布(vapor prime)工艺所施加的疏水化学品。作为另一实施例，形成阻挡 层的步骤包括，在所述液晶层上用硅烷(辛基-三乙氧基-硅烷)或硅胺烷 (六甲基二硅胺烷)形成单层。
选择性地，在形成阻挡层之前，液晶取向层被等离子体清洁。本发明人 发现，等离子体清洁的步骤减小了装置故障的数量并且增加了 LCD装置的 功能寿命。确实，既便未添加阻挡层也可以在不同的程度上提供这些有益之 处。
因为阻挡层和/或等离子体清洁工艺提供了保护液晶取向层免于污染物 的吸收和吸附的至少之一的手段，所以至少部分提供了本发明的有益之处。 通过在制造工艺期间减少由微量杂质的吸收和/或吸附引起污染的数量，本发 明有利于增加装置的可靠性。通过在装置的使用寿期内持续地避免由杂质的 吸收和/或吸附引起的液晶取向层的污染，本发明进一步提高了 LCD装置的 可靠性、性能、和使用寿期。


将参考附图描述本发明，其中相似的参考标号指示基本相似的元件
图l是现有技术的液晶显示(LCD)装置的截面图2是由于在装置的液晶取向层上形成的杂质层而引起的有缺陷的 LCD装置的截面图3A是阻挡层形成于液晶取向层上方的情形的反射显示底板的截面
图3B是支撑透明电极的透明基板和在液晶取向层上方形成的阻挡层的反转的截面图。
图3C是通过结合在图3A和图3B中所示出的基板而形成的组装的LCD 装置的截面图4是概述根据本发明的液晶显示装置的 一种制造方法的流程图5是概述在图4中所示出的在液晶取向层上方形成阻挡层的方法的流 程图；并且
图6是概述根据本发明的从两个基板组装LCD装置的方法的流程图。
具体实施例方式
本发明通过提供保护液晶显示装置(LCD)的液晶取向层免于污染的手 段而克服了现有技术的相关问题，所述污染干扰了将液晶取向层的各向异性 特性传递至装置的液晶层。在以下的说明书中，阐述了许多具体的细节(例 如阻挡层的具体形成方法、具体的显示类型、用于形成阻挡层的具体的试剂 等)，以便提供对于本发明的透彻的理解。然而，本领域的技术人员应当理 解，本发明可以偏离这些具体细节而实现。在其它的实例中，省略了众所周 知的LCD显示器的制造实践和元件的细节(例如基板制造、液晶类型、和液 晶单元组装、电连接等)，以便不必要地模糊本发明。
图2是反射型LCD装置200的截面图，所述装置形成于硅基板202上 并且包括电路层204、绝缘层206、多个像素镜208、平坦化层210、保护盖 层212、液晶取向层214、液晶层216、第二液晶取向层218、透明电极220、 玻璃基板222、和抗反射涂层224。在图2中各层的相对厚度未按比例。而 是夸大了各层的厚度，以便提供各层的位置的定性的理解。
装置200的元件层的结构和功能与图1的装置100的元件层的基本相同。 然而，图2还示出了在液晶取向层214和218上形成的污染物层226，污染 物层226是本发明人确定为某些LCD装置不寻常的高故障率的原因。具体 地，污染物(例如水)吸附于液晶取向层214和218上或吸收于其内，并且 干扰液晶取向层214和218的各向异性特性对液晶层216的传递。因此，液 晶层216没有恰当地取向，并且因此不均匀地响应电场的施加，这导致在由 所述装置产生的图像中的视觉上可见的缺陷(例如，可见域线)。
在图2中代表性地示出了杂质层226。层226不试图示出吸附和/或吸附 的杂质的任何具体结构或厚度。而这些杂质层226仅试图示出污染物可以干
扰液晶取向层214和218的功能。当然，污染物沉积的具体形态取决于具体 污染物、液晶取向层214、 218的成分、和污染源等。
图3A是在硅基板302上形成并且包括集成电路304、绝缘支撑层306、 多个像素镜308、平坦化层310、保护盖层312的反射显示底板300的截面 图。这些层是当从制造商获取反射显示底板时就典型地存在的层。另外，装 置300包括在盖层312上方形成的下液晶取向层314和在下液晶取向层314 上方形成的阻挡层315。除了阻挡层315之外，反射显示底板300基本相似 于已知的反射显示底板。阻挡层315保护液晶取向层314免于污染并且还能 够将液晶取向层314的各向异性特性传递至叠置的液晶层316 (图3C)
阻挡层315的成分取决于各种因素，所述因素包括但不局限于液晶取向 层314的成分、打算使用的液晶材料的类型、装置可以被暴露的污染物的类 型等。在这里描述的具体实施例中，液晶取向层314是热蒸镀薄氧化物膜， 例如Si02或SiO，它们可以易于受到水蒸气的污染。阻挡层315是保护液晶 取向层314抵抗包括水的污染物的吸附和/或吸收的疏水性单层。
阻挡层315可以用硅胺烷(例如六甲基二硅胺烷)或硅烷(辛基-三乙 氧基-硅烷)试剂形成。但是，预期硅烷提供优于硅胺烷的益处，因为硅烷 可以形成三个键而不是一个键，并且通常对于氧化物层的表面反应性更大。 此外，硅烷可以通过气相或液相沉积而沉积，但是本发明人发现气相沉积提 供了更好的覆盖和稳定性。
硅烷的结构通常理解为包括具有碳链的硅原子和与其结合的三个其它 的基团(例如乙氧基)。在阻挡层315的形成层期间，硅和乙氧基之间的键 被打破，并且硅与氧化物层的氧原子形成新的键。碳链保持连接于硅原子并 且形成阻挡层315的表面。本发明人预期许多不同的硅烷可以用于形成阻挡 层315,其包括但不局限于三氯硅烷、三乙氧基硅烷、和三乙氧基曱硅烷。 优选，但非必须，碳链至少4个碳长。本发明人使用八个碳烷基链获得了良 好的结果。
通过将不同的化学部分连接至碳链，可以定制阻挡层315的表面特性， 所述化学部分包括j旦不局限于-NH2、 - OH和COOH。例如将_ NH2基团 连接至与硅相对的碳链的端部促进了液晶层316的材料和阻挡层315的表面 之间的结合的形成。作为另一实例，一NH2基团促进了与用于形成液晶层316 周围的保持密封垫的环氧树脂的结合的形成，由此在装置的寿命期间避免潮 气的渗漏进入液晶层316。
概括起来，阻挡层315包括一些或全部下列的特性。首先，阻挡层315 可以保护液晶取向层314免于包括潮气的污染，因而既便在例如热和潮湿的 环境压力下也延长了装置的寿命。另外，通过使用化学部分可以定制阻挡层 315的表面，从而控制液晶的性能-表面相互作用。此外，阻挡层315可以 提供较好的对于液晶单元密封垫材料的粘接。更多地，阻挡层315提供了这 些优点，同时将液晶取向层314的各向异性特性传递至液晶层36。
图3B是透明电极330的截面图，透明电极330包括玻璃基板322、抗 反射涂层324、透明导电层320、液晶取向层318、和阻挡层325。导电层320 和抗反射层324形成于玻璃基板322的对侧上。液晶取向层318形成于导电 层320的上方，并且阻挡层325直接形成于液晶取向层318上。
液晶取向层318和阻挡层325的成分基本上分别与液晶取向层314和阻 挡层315相同。但是注意，根据具体LCD的设计，取向层314的各向异性 特性(例如取向方向)可以不同于取向层318的各向异性特性。相似地，阻 挡层315的特性(例如表面定制部分的存在)可以不同于阻挡层315的特性。
图3C是组装的LCD装置340的截面图，其通过在反射底板基板300的 阻挡层315的上方施加液晶层316，并且随后在液晶层116上方安装透明电 极330, l吏得阻挡层325最4妻近于液晶层116而形成。因而，液晶层316布 置在两个面对的阻挡层315和325之间并且与其直接接触。
液晶层316在反射显示底板300和透明电极330之间通过密封垫(未示 出)而密封，密封垫还将反射显示底板300固定至透明电极330。密封垫用 环氧树脂形成于像素镜308的阵列周边的周围的阻挡层315上，以便形成液 晶材料的容器。在用液晶材料填充通过密封垫所界定的体积之后，透明电极 330放置在液晶材料上方，而阻挡层325与密封垫接触。随着环氧树脂固化， 密封垫结合于阻挡层315和325,密封其间的液晶材料。
图4是概述根据本发明的液晶显示装置的一种制造方法400的流程图。 在第一步骤402中，提供基板(例如反射显示底板、透明电极等)。然后， 在第二步骤404中，在基板上方形成液晶取向层。接着，在选择性的第三步 骤406中，等离子体清洁液晶取向层。应当理解等离子体清洁减小了在取向 层表面存在的杂质，但是在阻挡层的形成中不是必须的。接着，在第四步骤 408中，在液晶取向层上方形成阻挡层。然后，在第五步骤410中，液晶材 料施加于阻挡层上方。当步骤410完成时，基板(例如反射显示底板)准备 完毕，可以与用相同或相似的方法制备的具有取向层和阻挡层的另一基板
(例如透明电极)组装，从而产生LCD装置。
图5是概述进行图4的方法400的第四步骤408 (在液晶取向层上方形 成阻挡层)的一种方法500的流程图。在第一步骤502中，具有液晶取向层 的基板放置在压力受控的炉内。接着，在第二步骤504中，炉子被加热和吹 洗。吹洗步骤包括，例如，重复地抽气炉子使压力降低至大约1 torr，并且 回充以干燥的氮气。接着，在第三步骤506中，阻挡层试剂(例如硅烷或硅 胺烷)被引入炉子并且液晶取向层暴露于所述试剂持续以预定的时间。接着， 在第四步骤508中，炉子被吹洗并且冷却。最终，在第五步骤510中，从压 力受控的炉子内移走具有在液晶取向层上方形成的阻挡层的基板。
图6是概述根据本发明的LCD装置的组装方法600的流程图。在第一 步骤中，提供分别具有液晶取向层和阻挡层的两个基板(例如反射显示底板 和透明电极)。接着，在第二步骤604中，两个基板被彼此相对定位从而形 成单元，其阻挡层相互面对。最终，在第三步骤606中，液晶材料被注入基 板的阻挡层之间的单元内。
现在完成了本发明的具体实施例和方法的描述。可以替代，变更或省略 许多所描述的特征而不偏离本发明的范围。例如，本发明可以使用替代的底 板配置和类型(例如制造商可以按照需要改变层、成分、和材料)。作为另 一实例，可以省略等离子体清洁，因为它不是必须的步骤，尽管它对于LCD 的寿命和质量有益。作为又一实例，在取向层上方形成阻挡层中所使用的试 剂可以被改变，以便适应具体的取向层成分，或者获得希望的阻挡层的特性。 另外，应当显见这些方法和实践可以适用于其它类型的LCD装置，除了示 出的反射型硅上液晶(LCoS)光阀型之外。与示出的具体实施例和方法的 这些和其他偏离对于本领域的技术人员是显见的，尤其考虑到前述公开。
权利要求
1.一种液晶显示装置，包括基板；液晶层；所述基板和所述液晶层之间的液晶取向层；以及所述液晶取向层和所述液晶层之间的阻挡层。
2. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述基板是反射显示底板、
3. 根据权利要求2的液晶显示装置，其中所述反射显示底板包括 硅基板；至少一集成电^各层；和 多个像素镜。
4. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述基板是透明基板。
5. 根据权利要求4的液晶显示装置， 还包括在所述透明基板上形成的透明电极层。
6. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述阻挡层直接在所述液晶 取向层上形成。
7. 根据权利要求6的液晶显示装置，其中所述液晶层直接与所述阻挡 层接触。
8. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述装置是垂直对齐的向列 液晶显示装置。
9. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述液晶取向层是薄膜层。
10. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述液晶取向层包括氧化物层。
11. 根据权利要求10的液晶显示装置，其中所述氧化物层包括SiO或 Si02的至少之一。
12. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述阻挡层比所述液晶取向 层对于杂质的吸收或吸附的至少之一 更有抵抗力。
13. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述阻挡层将所述液晶取向 层的各向异性特性传递给所述液晶层。
14. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述阻挡层是单层。
15. 根据权利要求1的液晶显示装置，其中所述阻挡层由硅烷或硅胺烷之一形成。
16. 根据权利要求15的液晶显示装置，其中所述阻挡层由辛基-三乙 氧基-硅烷或六曱基二硅胺烷形成。
17. 根据权利要求15的液晶显示装置，其中所述阻挡层由硅烷形成。
18. 根据权利要求1的液晶显示器，还包括布置在液晶层的与第 一基板相对侧上的第二基板； 所述第二基板和所述液晶层之间的第二液晶取向层；和 所述第二液晶取向层和所述液晶层之间的第二阻挡层。
19. 根据权利要求18的液晶显示器，其中 所述基板是反射显示底板；并且所述第二基板是透明基板。
20. 根据权利要求18的液晶显示装置，还包括布置在所述液晶层的周 边周围并且邻接所述阻挡层和第二阻挡层的至少之一的密封垫。
21. —种液晶显示装置的制造方法，包括的步骤是 提供基板；在所述基板上方形成液晶取向层； 在所述液晶取向层上方形成阻挡层；并且 在所述阻挡层上方形成液晶层。
22. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中所述基板是反 射显示底板。
23. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中所述基板是透 明基板。
24. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中在所述液晶取 向层的上方形成阻挡层的所述步骤包括，在所述液晶取向层上直接形成阻挡层。
25. 根据权利要求24的液晶显示装置的制造方法，其中在所述阻挡层 上方形成所述液晶层的步骤包括施加所述液晶层使之直接与所述阻挡层接触。
26. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中 形成所述液晶层的所述步骤包括形成向列液晶层；并且形成所述液晶取向层的所述步骤包括形成适用于垂直取向的液晶显示 装置的取向层。
27. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述液晶 取向层的所述步骤包括形成薄膜取向层。
28. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述液晶 取向层的所述步骤包括形成氧化物层。
29. 根据权利要求28的液晶显示装置的制造方法，其中所述氧化物层 包括SiO或Si02的至少之一。
30. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述阻挡 层的所述步骤包括形成比所述液晶取向层对于杂质的吸收或吸附的至少之 一更有抵抗力的层。
31. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述阻挡 层的所述步骤包括形成将所述液晶取向层的各向异性特性传递给所述液晶 层的层。
32. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述阻挡 层的所述步骤包括在所述液晶取向层上形成单层。
33. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述阻挡 层的所述步骤包括使用硅烷或硅胺烷的至少之一 以便形成所述阻挡层。
34. 根据权利要求33的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述阻挡 层的所述步骤包括使用辛基-三乙氧基-硅烷或六甲基二硅胺烷的至少之
35. 根据权利要求33的液晶显示装置的制造方法，其中形成所述阻挡 层的所述步骤包括使用硅烷以便形成所述阻挡层。
36. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，还包括 提供第二基板；在所述第二基板上方形成第二液晶取向层； 在所述液晶取向层上方形成第二阻挡层；并且安装所述第二基板，所述第二阻挡层面对所述阻挡层，且所述液晶层布 置在其间。
37. 根据权利要求36的液晶显示装置的制造方法，其中所述基板是反 射显示底板并且所述第二基板是透明基板。
38. 根据权利要求36的液晶显示装置的制造方法，还包括在所述基板 和所述第二基板之间放置液晶保持密封垫，使得所述密封垫的一部分邻接所 述阻挡层并且所述密封垫的另一部分邻接所述第二阻挡层。
39. 根据权利要求21的液晶显示装置的制造方法，还包括在形成所述 阻挡层之前在所述取向层上进行等离子体清洁工艺。
40. —种液晶显示装置，包括 基板；液晶层;所述基板和所述液晶层之间的液晶取向层；和 保护所述液晶取向层免于污染物的吸收和吸附的至少之一的装置。
全文摘要
液晶显示装置包括基板、液晶层、所述基板和液晶层之间的液晶取向层、和所述液晶取向层和所述液晶层之间的阻挡层。第二基板还包括在所述液晶取向层上方形成的液晶取向层和阻挡层。在具体的实施例中，所述基板是反射显示底板，并且所述第二基板是具有透明电极层的透明基板。阻挡层保护所述液晶取向层不受由于杂质的吸收和/或吸附引起的污染。在典型实施例中，阻挡层使用硅烷或硅胺烷试剂形成。选择性地，在形成阻挡层之前或为替代形成阻挡层，等离子体清洁液晶取向层的表面。
文档编号G02F1/1333GK101198896SQ200680021588
公开日2008年6月11日 申请日期2006年5月9日 优先权日2005年5月10日
发明者贾斯丁·J·斯卡伊夫, 马修·F·邦恩 申请人:奥罗拉系统公司