专利名称：液晶显示面板及其制造方法
技术领域：
本发明涉及显示技术，尤其涉及一种液晶显示面板及其制造方法。
背景技术：
液晶显示面板主要由阵列基板、彩膜基板、液晶等构成。其中，阵列基板与彩 膜基板贴在一起形成液晶成盒基板，中间填充有液晶形成液晶层。液晶层的厚度，也称 为盒厚，会对液晶的光调节作用产生很大影响。因此，在液晶显示器的制造过程中，保 证盒厚的均一性是实现高品质液晶显示的基础。为了保证盒厚的均一性，现有技术主要采用放置隔垫物的方法。通常隔垫物 的材料为树脂，树脂形成的隔垫物具有一定的弹性，在变形后能够恢复到原来的形状。 目前，在手机和笔记本电脑中常用到触摸式液晶显示面板，当对液晶显示面板施加压力 时，隔垫物会发生变形。采用树脂形成的隔垫物经过反复的变形或者受到较大外力的 时候，隔垫物自身会发生无法恢复的形变，有时甚至发生破损，这样会影响盒厚的均一 性，造成显示不良。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种液晶显示面板及其制造方 法， 能够使得隔垫物经过反复变形后依然能够完全恢复形状，不会发生破损，从而能够 避免由于隔垫物变形或破损导致的盒厚均一性问题和显示不良问题。为实现上述目的，本发明提供了一种液晶显示面板，包括阵列基板和彩膜基 板，所述阵列基板和彩膜基板之间设置有由形状记忆聚合物形成的隔垫物。其中，所述隔垫物为柱状隔垫物。所述形状记忆聚合物为聚甲基丙烯酸甲酯；聚降冰片烯；环戊烷亚甲基；具有 链段化结构的聚氨基甲酸酯、聚乙烯、聚环氧乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚氯 乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物；玉米油；苯乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改质的环 氧树脂。所述隔垫物的一端形成在所述彩膜基板上，另一端顶设在所述阵列基板上；或 者所述隔垫物的一端形成在所述阵列基板上，另一端顶设在所述彩膜基板上。本发明还提供了一种液晶显示面板制造方法，包括步骤101、在阵列基板或彩膜基板上沉积一层形状记忆光刻胶，所述形状记忆光 刻胶通过在形状记忆聚合物中添加能够使所述形状记忆聚合物进行光反应的光聚合物开 始剂形成；步骤102、采用掩模板对所述形状记忆光刻胶进行构图工艺，形成隔垫物的图 形；步骤103、将所述阵列基板和彩膜基板对盒，注入液晶，形成液晶显示面板。其中，所述光聚合物开始剂为邻叠氮萘醌光敏剂，或二丙烯酸和双酐交替缩聚得到的感光性聚酯纤维。所述步骤101具体可以为在形成有透明电极的彩膜基板上沉积一层形状记忆 光刻胶，或者在形成有像素电极的阵列基板上沉积一层形状记忆光刻胶。本发明提供的液晶显示面板及其制造方法，隔垫物的材料采用形状记忆聚合 物，能够使得隔垫物经过反复变形后依然能够完全恢复形状，并且由于形状记忆聚合物 形状恢复速度快，使得隔垫物能够在变形后迅速恢复到原来的形状，对于触摸式液晶显 示器，能够避免由于隔垫物形状恢复速度慢导致的漏光等问题；另外，由于形状记忆聚 合物本身耐久性较好，这样，隔垫物在受到较大外力作用时，也不易发生破损，能够避 免由于隔垫物变形或破损导致的盒厚均一性问题和显示不良问题。下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
图Ia为本发明液晶显示面板第一实施例的平面图； 图Ib为图Ia中C-C向剖面图；图2所示为本发明液晶显示面板制造方法流程图。
具体实施例方式本发明提供一种液晶显示面板，包括阵列基板和彩膜基板，阵列基板和彩膜基 板之间设置有隔垫物，隔垫物的材料为形状记忆聚合物(shape memory polymer)。形状记忆聚合物可以是软段(soft segment)和硬段(hard segment)组成的高分子 物质。高分子内的分子链在温度降低到转移温度以下时，形状固定。再次加热到转移温 度以上时，聚合物内具有取向的分子链会回到原来的形态。硬段是确定形状记忆聚合物 的形状特性的物质，软段是用于自由吸收外力的物质。形状记忆聚合物具体可以是聚甲基丙烯酸甲酯(Poly (methyl methacrylate))；聚 降冰片烯(polynorbornene)；环戊烧亚甲基(poly (methylene-1, 3-cyclopentane))；具有 链段化(segment)结构的聚氨基甲酸酯(polyurethane)、聚乙烯(polyethylene，简称ΡΕ)、 聚环氧乙烷(Poly (ethylene oxide)，简称 PEO)和聚氯乙烯(Poly (vinylidene chloride)，简 称PVC)的聚合物、PE和聚酰胺(Polyamide，简称PA)的聚合物、PVC的聚合物等高 分子的形状记忆聚合物；玉米油；苯乙烯(styrene)和二乙烯基苯(divinylbenzol)的聚合 物；改质的环氧树脂(epoxy)。其中改质的环氧树脂是是指将环氧树脂进行光反应或通 过气体使表面的质地改善或改变后的环氧树脂。本发明提供的液晶显示面板，隔垫物的材料采用形状记忆聚合物，当软段受到 的外力在软段可接受的范围之内时，隔垫物可以恢复原来的形状。当软段受到的外力超 过软段可接受的范围时，隔垫物发生形变，当加温到转移温度时，隔垫物按照硬段记忆 的形状，可以100%恢复到原来的形状。如果将转移温度调整到室温，那么在室温下，隔 垫物就能恢复到原来的形状。并且与树脂等现有的形成隔垫物的材料相比，形状记忆聚 合物恢复形状的速度快，在发生形变后能够迅速恢复到原来的形状。本发明提供的液晶显示面板，隔垫物的材料采用形状记忆聚合物，能够使得隔 垫物经过反复变形后依然能够完全恢复形状，并且由于形状记忆聚合物形状恢复速度快，使得隔垫物能够在变形后迅速恢复到原来的形状，对于触摸式液晶显示器，能够避 免由于隔垫物形状恢复速度慢导致的漏光等问题；另外，由于形状记忆聚合物本身耐久 性较好，这样，隔垫物在受到较大外力作用时，也不易发生破损，能够避免由于隔垫物 变形或破损导致的盒厚均一性问题和显示不良问题。本发明提供的液晶显示面板中，隔垫物的形状可以是柱状，隔垫物可以形成在 彩膜基板或阵列基板上。图Ia为本发明液晶显示面板第一实施 例的平面图，图Ib为图Ia中C-C向剖面 图。为了便于说明，图Ia所示的面板中没有示出彩膜基板。在图Ib中示出了彩膜基板， 以便于说明彩膜基板和阵列基板的结构。阵列基板A的结构包括栅线3a和数据线7c，栅 线3a和数据线7c限定的像素区域内形成有像素电极9a和TFT，TFT包括栅电极3b、源 电极7a和漏电极7b，栅电极3b形成在阵列基板A上，并与栅线3a连接；栅绝缘层4形 成在栅电极3b上并覆盖整个阵列基板A ；由半导体层5和掺杂半导体层6组成的有源层 形成在栅绝缘层4上并位于栅电极3b的上方；源电极7a形成在掺杂半导体层6上，一端 位于栅电极3b的上方，另一端与数据线7c连接，漏电极7b形成在掺杂半导体层6上， 一端位于栅电极3b的上方，另一端与像素电极9a连接，源电极7a与漏电极7b之间形成 TFT沟道区域，TFT沟道区域的掺杂半导体层6被完全刻蚀掉，并刻蚀掉部分厚度的半导 体层5，使TFT沟道区域的半导体层5暴露出来；钝化层8形成在源电极7a、漏电极7b 以及TFT沟道区域上并覆盖整个阵列基板A，在漏电极7b位置开设有使像素电极9a与 漏电极7b连接的钝化层过孔8a。当栅电极3b上施加电压时，可以使源电极7a和漏电极 7b导通。阵列基板A与彩膜基板B之间填充有液晶10，隔垫物11的一端形成在彩膜基板 B上，隔垫物11的另一端顶设在阵列基板A上，隔垫物11通常可以设置在栅线处或者 TFT沟道处，图Ib中，隔垫物11的另一端顶设在TFT的沟道处。图Ia和Ib中，隔垫物11可以形成在彩膜基板B的透明电极12上，该透明电极 12与阵列基板A上的像素电极9a之间形成电压差驱动液晶10反转。下面描述本发明液晶显示面板的制造过程。如图2所示为本发明液晶显示面板制造方法流程图，包括步骤101、在阵列基板或彩膜基板上沉积一层形状记忆光刻胶，该形状记忆光刻 胶通过在形状记忆聚合物中添加能够使形状记忆聚合物进行光反应的光聚合物开始剂形 成。步骤102、采用掩模板对形状记忆光刻胶进行构图工艺，形成隔垫物的图形。本 发明各实施例中，构图工艺包括掩膜、曝光、显影、刻蚀、剥离等工艺。步骤103、将阵列基板和彩膜基板对盒，注入液晶，形成液晶显示面板。步骤101中，需要在形状记忆聚合物中添加光聚合物开始剂，因为形状记忆聚 合物本身不能进行光反应，即不能用作光刻胶进行曝光、显影和刻蚀，所以需要添加光 聚合物开始剂，使得形状记忆聚合物形成形状记忆光刻胶，该形状记忆光刻胶能够进行 光反应。光聚合物开始剂可以是邻叠氮萘醌光敏剂(Diazo-Naptho-Quinone Photoactive Compound,简称 DNQ-PAC)，或二丙烯酸(di_acrylate)和双酐(di_anhydride)交替缩 聚得到的感光性聚酯纤维(polyester)。这些物质的组分及比例可以根据实际需要进行调整。步骤101具体可以是在形成有透明电极的彩膜基板上沉积一层形状记忆光刻 胶，如图Ia和Ib所示，隔垫物形成在彩膜基板的透明电极上。或者步骤101可以是在 形成有像素电极的阵列基板上形成一层形状记忆光刻胶。本发明提供的形成液晶显示面板的方法，在阵列基板或彩膜基板上形成形状记 忆光刻胶，通过构图工艺形成了材料为形状记忆聚合物的隔垫物，使得隔垫物能够在变 形后迅速恢复到原来的形状，对于触摸式液晶显示器，能够避免由于隔垫物恢复速度慢 导致的漏光等问题；另外，由于形状记忆聚合物本身耐久性较好，这样，隔垫物在受到 较大外力作用时，也不易发生破损，能够避免由于隔垫物变形或破损导致的盒厚均一性 问题和显示不良问题。本发明前述实施例中，隔垫物的一端形成在彩膜基板上，另一端顶设在阵列基 板上。实质上，也可以将隔垫物的一端形成在阵列基板上，另一端形成在彩膜基板上。 隔垫物还可以以其他形式设置，此处不再赘述。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其进行限 制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理 解其依然可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换 亦不能使修改后的技术方案脱离本发明技术方案的精神和范围。
权利要求
1.一种液晶显示面板，包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述阵列基板和彩 膜基板之间设置有由形状记忆聚合物形成的隔垫物。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述隔垫物为柱状隔垫物。
3.根据权利要求1或2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述形状记忆聚合物为聚 甲基丙烯酸甲酯；聚降冰片烯；环戊烷亚甲基；具有链段化结构的聚氨基甲酸酯、聚乙 烯、聚环氧乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物； 玉米油；苯乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改质的环氧树脂。
4.根据权利要求1或2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述隔垫物的一端形成在 所述彩膜基板上，另一端顶设在所述阵列基板上；或者所述隔垫物的一端形成在所述阵 列基板上，另一端顶设在所述彩膜基板上。
5.—种液晶显示面板制造方法，其特征在于，包括步骤101、在阵列基板或彩膜基板上沉积一层形状记忆光刻胶，所述形状记忆光刻胶 通过在形状记忆聚合物中添加能够使所述形状记忆聚合物进行光反应的光聚合物开始剂 形成；步骤102、采用掩模板对所述形状记忆光刻胶进行构图工艺，形成隔垫物的图形；步骤103、将所述阵列基板和彩膜基板对盒，注入液晶，形成液晶显示面板。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述光聚合物开始剂为邻叠氮萘醌光敏 齐U，或二丙烯酸和双酐交替缩聚得到的感光性聚酯纤维。
7.根据权利要求5或6所述方法，其特征在于，所述形状记忆聚合物为聚甲基丙烯酸 甲酯；聚降冰片烯；环戊烷亚甲基；具有链段化结构的聚氨基甲酸酯、聚乙烯、聚环氧 乙烷和聚氯乙烯的聚合物、聚酰胺和聚乙烯的聚合物、聚氯乙烯的聚合物；玉米油；苯 乙烯和二乙烯基苯的聚合物；改质的环氧树脂。
8.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述步骤101具体为在形成有透 明电极的彩膜基板上沉积一层形状记忆光刻胶，或者在形成有像素电极的阵列基板上沉 积一层形状记忆光刻胶。
全文摘要
本发明公开了一种液晶显示面板及其制造方法，其中液晶显示面板包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板之间设置有由形状记忆聚合物形成的隔垫物。本发明提供的液晶显示面板及其制造方法，能够使得隔垫物经过反复变形后依然能够完全恢复形状，不会发生破损，从而能够避免由于隔垫物变形或破损导致的盒厚均一性问题和显示不良问题。
文档编号G02F1/1368GK102012575SQ20091009204
公开日2011年4月13日 申请日期2009年9月7日 优先权日2009年9月7日
发明者王章涛, 邱海军, 闵泰烨, 高文宝 申请人:北京京东方光电科技有限公司